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一种相机快门延迟时间测量装置及方法
本发明提供一种相机快门延迟时间测量装置及方法,设置单片机、显示器和相机的快门控制线,单 片机分别连接显示器和相机的快门控制线,显示器置于相机的取景范围内,所述单片机执行流程:步骤 1,启动计数器,计数器的累加结果输出显示在显示器上;步骤 2,延迟等待相机准备好;步骤 3,判断 是否以及达到预设的测量次数,是则结束工作,否则复位计数器,通过快门控制线向相机发出曝光指令, 使得相机拍摄显示器得到该相机当前的快门延迟时间,然后返回步骤 2,直到达到测量次数。应用本发 明技术方案能够迅速、准确地测量相机快门延迟时间参数,保证后续影像数据处理准确性。
武汉大学 2021-04-13
一种基于RGB‐IR相机的声音编码交互系统
本发明以辅助视觉障碍人士对外界场景的理解为目的,提供一种基于RGB‐IR相机的声音编码交互系统,该系统通过实时获取两台RGB‐IR相机的RGB彩色图像和IR红外图像,在传统双目视觉的基础上结合红外激光笔,实时获得三维深度信息,再将三维图像转化为声音编码,通过耳机传输给使用者,使视觉障碍人士可以通过听觉感受到场景中的物体分布和方位。
浙江大学 2021-04-13
一种分块阵列块内压缩感知逐点扫描相机
本发明提出一种分块阵列块内压缩感知逐点扫描相机。该相机包括:物体光源、透镜组、DMD阵列、感光片、A/D转换器、DSP处理器组成。预先将DMD阵列分割成若干个小方块,透镜组将景物光线投向DMD阵列上面,通过控制DMD阵列上面数字微镜逐点翻转,实现对景物光线的分块逐点扫描,即在每一个小方块内分别进行压缩采样。然后根据重构算法重构原始信号,DMD阵列将逐点扫描后经过重构的景物图像反射到感光片上成像。本发明利用DMD阵列的逐点扫描提高了成像的速度,是一种具有很大潜在应用价值的新型拍摄方法,突破了香农采样定理的瓶颈,从少量采样测量值精确重构出原始图像,将传统数据采集与压缩合二为一,节省存储资源。
四川大学 2016-10-09
一种基于相机的对心检测方法及装置
本发明公开一种基于相机的对心检测方法,具体为:向待测物体与基准物体投射光,表面反射的光对称分为两路光束,其同时被相机捕获完成双视角成像;在第一束光对应的成像区域内,确定待测物体中心与基准物体中心的水平间距 a 和垂直间距 h;在第二束光对应的成像区域内,确定待测物体中心与基准物体中心的水平间距 c 和垂直间距 h;进而确定待测物体中心 A 相对于基准物体中心 B 的图像空间偏差为(a,c,h);将图像空间偏差(a,c,h)转换为物理空间偏差(m,n,h),即得同心判定结果。本发明还提供了实现上述方法
华中科技大学 2021-04-14
一种锡膏印刷机相机的标定方法
本发明属于图像处理技术领域,具体涉及一种锡膏印刷机相机的标定方法,该方法包括以下步骤,(1)结合锡膏印刷机实际生产情况, 在锡膏印刷机上建立 4 个坐标系;(2)建立锡膏印刷机坐标系系统坐标 转化关系;(3)采集图像,对坐标系系统关键参数标定;(4)图像坐标系 到世界坐标系的坐标转化误差分析;(5)建立 UVW 平台的旋转模型; (6)根据计算得到的 UVW 平台的移动量移动 UVW 平台,检查对位精 度,以验
华中科技大学 2021-04-14
一种基于相机的对心检测方法及装置
本发明公开一种基于相机的对心检测方法,具体为:向待测物 体与基准物体投射光,表面反射的光对称分为两路光束,其同时被相 机捕获完成双视角成像;在第一束光对应的成像区域内,确定待测物 体中心与基准物体中心的水平间距 a 和垂直间距 h;在第二束光对应的 成像区域内,确定待测物体中心与基准物体中心的水平间距 c 和垂直 间距 h;进而确定待测物体中心 A 相对于基准物体中心 B 的图像空间 偏差为(a,c,h);将图像空间偏差(a,c,h)转换为物理空间偏差(m,n,h), 即得同心判定结果。本发明还提供
华中科技大学 2021-04-14
维意真空高真空金属有机蒸发镀膜机支持定制
EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室:前开门真空腔体,方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养; 真空系统:国产分子泵作为主抽泵,真空极限优于5.0✕10-5Pa(经烘烤除气后);另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵,真空极限优于3.0✕10-6Pa(经烘烤除气后); 真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min; 蒸发源:4~6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选,多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定; 蒸发电源:真空专业蒸发电源,恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能; 基片台:最大120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台公转,转速0~20r/min连续可调; 基片台功能:衬底可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷,基片台可选升降,源基距最大350mm; 溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选; 膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪; 可镀材料:可沉积金属(Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等)、非金属、化合物(MoO3、LiF等)及有机材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜; 控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
北京维意真空技术应用有限责任公司 2025-04-25
《关于促进长三角科技创新协同发展的决定》9月1日起施行
以法治力量推动区域科技创新协同发展再添新样本。
云上高博会 2025-08-05
维意真空多靶高真空磁控溅射镀膜机支持定制
MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室:直径450✕H400mm,1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,前开门结构; 真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选); 极限真空:优于5✕10-5Pa(经烘烤除气后); 真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min; 升降基片台:2~6英寸基片台,靶基距60~120mm连续在线自动可调,旋转0~20r/min可调,可加热至500℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能; 磁控靶:直径3英寸2~4只(可升级成直径4英寸靶2~3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材; 溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选; 质量流量计:2~3路工艺气体,可根据工艺要求增加; 膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪; 控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
北京维意真空技术应用有限责任公司 2025-04-25
维意真空手套箱金属有机蒸发镀膜机支持定制
SEV-400手套箱金属有机蒸发镀膜机 真空腔室:采用立式方形结构,前门为水平滑开式,位于手套箱体内部,前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸,后开门便于真空室的清理维护(后门带锁紧装置在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离),整机位于手套箱体下面,节约占地面积; 真空系统:国产分子泵作为主抽泵,真空极限高达2.0✕10-5Pa,另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵,真空极限高达3.0✕10-6Pa; 真空抽速:大气~5✕10-4Pa≤30min(手套箱环境中); 基片台:最大120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板,基片台公转,转速0~20r/min可调,衬底可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷,基片台可选升降,源基距最大350mm; 蒸发源及电源:4~6组欧美技术金属或有机束源炉蒸发源可选,多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定;真空专业蒸发电源,恒流/恒功率控制,电流、功率可以预先设置,可实现一键启动和停止的自动控制功能; 膜厚监控仪:采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚; 控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。
北京维意真空技术应用有限责任公司 2025-04-27
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