油气水混合物高速进入预脱气室, 靠旋流分离及重力作用分离出大量的原油伴生气, 预脱气后的油水混合物经导流管高速进入分配器与水洗室, 在含有破乳剂的活性水层内洗涤破乳, 再经聚结稳流后,流入沉降分离室进一步沉降分离, 脱气原油翻过隔板进入油室, 经计量后流出分离器, 水相靠压力平衡经导向管进入水室, 从而达到油气水三相分离的目的。  

产品详细介绍高压消解罐、水热合成釜：烘箱中使用的高压消解罐，也称为溶样器、压力溶弹、水热合成反应釜、消化罐、聚四氟乙烯高压罐，是利用罐体内强酸或强碱且高温高压密闭的环境来达到快速消解难溶物质的目的。是测定微量元素及痕量元素时消解样品的得力助手。样品前处理消解重金属、农残、食品、淤泥、稀土、水产品、有机物等。 本产品采用优质无磁性0Cr18Ni9Ti不锈钢精加工而成，内有聚四氟乙烯衬套，双层护理，可耐酸，碱等。具有外形美观，结构合理，操作简便，抗腐蚀性好等特点，是高校实验室，环境监测，卫生防疫，质量监督等科研领域做样品消化处理的理想产品，相应的工作压力不超过3MPa，可根据不同样品的技术指标，确定不同的加热温度及加热时间。我公司的消解罐现有25ml 50ml 100ml 200ml.安全温度是200度,最高压力为3MPa.

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产品详细介绍    

产品详细介绍高压消解罐食品行业重金属检测高压消解罐：高压消解罐用于重金属铅铬检测，样品前处理。高压消解罐，也称为高压消解炉、压力消解器、压力消解罐、密封熔样罐、溶样器、压力溶弹、水热合成反应釜、消化罐、聚四氟乙烯高压罐。 工作原理：食品检测专用高压消解罐利用罐体内强酸或强碱且高温高压密闭的环境来达到快速消解难溶物质的目的，是测定微量元素及痕量元素时消解样品的得力助手。样品前处理消解重金属、农残、食品、淤泥、稀土、水产品、有机物等。烘箱中使用温度可以达到200℃，压力5Mpa。 食品检测专用高压消解罐特点：1.安全。设计时，被动控温转为主动控压。即使温度失控，也不会有危险。2.消解效率高，能力强，能消解许多传统方法难以消解的样品，适应面广。3.密封性好，内杯凹凸榫槽设计。4.内杯元素空白值低，提高分析的准确度和精密度，降低了工作强度和对环境的污染。5.外罐内杯有相应编号，方便实验。6.成本低，使用简便。前期后期投入都很少，操作容易，操作人员使用前几乎不需要培训，维护简单。7.30ml及以下规格可定制成PFA内杯，耐温，承压，耐变形，耐渗透更优 高压消解法被我国有关部门认定为标准方法,比如GB/T5009、GB/T14962、GB/T6609、GB/T11914、GB/T17378、SN/T2004.1、2—2005、SN/T 1634-2005等。美国AOAC亦规定此法为测定As、Cd、Hg、Pb、Se、Zn等元素的样品标准分解方法高压消解罐：高压消解罐：又称消解罐、消化罐、水热合成反应釜、水热釜、压力溶弹、高压釜、闷罐等。外罐不锈钢，内杯采用优质的聚四氟乙烯材质加工而成。应用于纳米材料、化合物合成、材料制备、晶体生长等方面。以及气相、液相、等离子光谱质谱（ICP–MS）、原子吸收和原子荧光等化学分析方法的样品前处理，用于食品、地质、冶金、环保、商检、化工、核工等系统，消解农残、食品、稀土、水产品等有机物中Pb、Cu、Zn、Fe、Ga、Rb、Hg、Sn等重金属。    高压消解罐水热釜是利用罐体内高温高压密封体系（强酸或强碱）的环境来达到快速合成、消解难溶物质的目的，可使合成、消解过程大为缩短，且使被测组份的挥发损失降到最小，提高测定的准确性。多用于有机合成、萃取和水热合成等工作。　　通过对GB／T5009．11-2003砷、GB／T5009．12—2003铅、GB／T5009．13—2003铜、GB／T5009．17—2003汞国家标准方法中样品前处理方法的探讨，透过现象看本质，它们具有相同的作用原理。经对比实验及重复性实验表明，重复性良好，RDS□5％，尤其在测定食品中易受污染的痕量铅及易挥发砷及总汞时，结果均优于其他样品处理方法。高压消解法实现了一份样品消解液同时对食品中砷、铅、铜、汞的测定，大大提高了工作效率，空白值低、挥发性元素不易损失，避免环境污染，认为高压消解法为标准分析方法。样品前处理能体现出实验室水平的差距。　　在化工、材料、高分子等科学作为水热合成反应釜。　　水热合成反应釜是在一定温度、压力条件下利用高温高压的水溶液使那些在大气条件下不溶或难溶的物质溶解，或反应生成该物质的溶解产物，通过控制溶液的温度差使产生对流以形成过饱和状态而析出生长晶体。可用于纳米材料的制备、化合物合成、晶体生长等方面，也可以用于小剂量的合成反应，是高校极常用的小型反应釜。高压消解罐的特点：1.在烘箱中200℃内使用。在设计时充分考虑了安全性，由被动控温转为主动控压。罐体采用圆形榫槽密封设计，手动螺旋紧固密封性能好，避免了挥发性元素的损失；杯顶有泄气孔，安全系数高；2.我们有优质的稳定材料供应商，能保证内杯材料质量稳定，低空白值（更无黑点、黄点、微小裂痕等致命隐蔽缺陷）。材质、设计、生产工艺也决定整个样品前处理的结果；3.使用方便：内杯采用特殊设计，易于清洗；精密设备加工内壁光滑，不挂水：4.内外罐顺序编号，不混配，方便实验中样品的区分，提高实验的可重复性；5.消解效率高，能力强，能消解许多传统方法难以消解的样品，适应面广，可适用多个样品同时处理；6.消耗酸溶剂少，空白值低，提高分析的准确度和精确度，降低了工作强度和对环境的污染；7.规格齐全，可定向加工。规格：5  10  15  20   25  30  50  60  80  100  150  200  250  500ml

纳米金刚石的金刚石晶粒尺寸在100nm以下, 表面极其光滑平整, 摩擦系数极低(可小于0.05), 因此是十分理想的工具(模具)涂层和光学涂层材料, 同时在MEMs (微机电系统)和高性能大屏幕(场发射)显示技术等领域也有非常好的应用前景。 本项目组采用微波等离子体CVD和 DC Arc Plasma Jet CVD两种工艺方法, 在玻璃, 硅, 钼和硬质合金等衬底材料上成功制备了纳米金刚石膜。 在玻璃衬底上制备的纳米金刚石膜晶粒平均尺寸小于100 nm, 表面粗糙度小于Ra 5nm, 采用纳米力学探针测量的显微硬度高达8000kg/mm2, 在可见及近红外区域具有非常好的透过特性, 紫外喇曼光谱(在新加坡国立南洋理工大学测试)显示薄膜几乎为纯净的金刚石纳米晶粒组成。在其它衬底上的纳米金刚石膜的组织结构和性能测试正在进行之中。 纳米金刚石膜涂层硬质合金工具: 其中最有前景的是纳米金刚石膜涂层硬质合金微型钻头; 纳米金刚石膜涂层光学应用: 包括诸如”永不磨损钻石涂层玻璃表壳”和”永不磨损钻石涂层玻璃眼镜片”, 及ZnS, Ge, Si等重要红外军事光学材料的抗(雨滴、沙粒)冲刷涂层; 微机电系统(MEMs)的微机械构件: 如微型齿轮, 轴, 轴承等; 高性能大屏幕显示器件

本发明涉及以天然成分为原料，开发一种能够抑菌防腐和延长 肉类产品保鲜期，具有一定粘稠度，可与肉类产品表面结合为一体的多功能液 态可食保鲜膜，喷涂于食品表面，对环境常在菌具有显著的抑制作用，无毒无 害，且兼有保健和防伪（隐形标签）作用，已获得国家发明专利。 技术优点或者效益预测:肉鸡屠宰后按部位进行分割，喷涂（或浸蘸）保鲜 膜液后装入食品袋后密封，室温冷却编号，置于微温(30~~40℃)和常温 (20~~25℃)2 种条件下贮藏的保质期可分别达到 3、7d。同时可标识产品生产厂 家。有效防止肉类产品加工过程二次污染，从而延长保鲜期，同时兼有产品防 伪标识作用。应用前景十分广阔。 

该成果是原有的铝反射激光全息防伪末的升级替换品。这种薄膜结构简单，仅有信 息层和基底层两层组成。全息图像以激光全息技术拍摄并用激光雕刻和电铸手段，以光 栅条纹的形式复制到镍质金属模版上。以金属模版热压气凝胶或有机高聚物聚氨酯涂层， 形成承载全息图像的信息层，可在薄膜上再现全息图像。

紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来，紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面，国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。先进光谱仪器是集光、机、电和计算机于一体，技术密集的高科技产品。它是现代科技必不可少的精密检测和分析手段，是现代天文学、航空航天、分子生物学、现代医学、环境和生态等新科技建立和发展的基础。国家对发展先进光谱仪器和研制光谱仪器用的探测器件非常重视，“十一五”国家科技支撑计划专门设立了科学仪器设备研制与开发专项“先进大型光谱仪器的关键部件——高分辨分光器件和探测器件的研制”，技术人有幸成为承担该课题的主要研究人员，负责高分辨探测器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最广泛应用的光电探测器，而且先进的光谱仪器都采用了CCD或CMOS作为探测器件，这是因为CCD和CMOS具有灵敏度高、低噪声等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段响应很弱，这种很弱的紫外响应限制了硅基成像器件在先进光谱仪器及其他紫外波段探测方面的使用。 因此，本技术的研究成果硅基成像器件的紫外响应增强薄膜是经济建设和社会发展迫切需要。 增强硅基成像器件的紫外响应，目前有两种方法：一是改变硅基探测器的结构，如背照式CCD；另外一种是在现有的成像器件光敏窗口加镀一层下变频膜，把紫外光先转化为可见光，然后再接收。国外自1980年起就开始增强硅基探测器紫外响应的下变频薄膜研究，按使用材料的属性，可以把变频膜分为有机变频膜和无机变频膜两种。有机变频膜技术相对成熟，也有相关的专利出现。哈勃太空望远镜CCD、星球相机（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的响应波段延伸到紫外的CCD都是镀的有机变频膜。目前紫外增强有机变频膜可使普通CCD的响应波段延伸到200nm，Roper Scientific公司开发的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下变频效果。有机变频膜技术尽管成熟，但该类薄膜有着致命的缺点，那就是有机物分子在紫外辐射下降解速度很快。在照明度为1μW/cm2的光照下，有机分子以高达每小时3%的速率成指数降解。在这一方面，而无机变频膜具有不可比拟的优点。无机变频膜材料可以在它使用期限的前2%时间里，减少90%的降解量，因此，无机变频膜具有非常优越的稳定性。在无机变频膜方面，国外研究也刚起步，最早的报道见于2003年[1]，目前尚无成熟的增强硅基成像器件的紫外无机变频膜技术。国内在有机和无机变频膜方面，都没有已见报道的研究工作。  为了提高探测器对紫外辐射的敏感性，我们采取了在硅基成像器件光敏窗口上镀变频膜的办法，成功地使CCD及CMOS的响应波段拓展到150nm。该产品可广泛应用在光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对推动国家的科研和产业在这些领域的发展有极大帮助。