产品详细介绍

产品详细介绍特点： 球磨罐采用两个行星式运转，直线冲击，  球磨效率大大提高，出料更细、更均匀。 （最细出料0.06微米即60纳米、引进德国最新技术） （全国首创产品是实验室细磨、混合的首选设备）   用途：SHQM型系列双行星式球磨机是实验室、细磨、混合、小批量生产高科技材料的必备装置。该机美观新颖、结构紧凑、操作方便、工作效率高、细磨粒度均匀。是科研、教学、试验、生产的优选设备。广泛应用于电子、磁性、医药、陶瓷、地质、矿产、冶金、建材、化工、轻工、美容、环保等行业使用。   工作原理：SHQM 型系列双行星式球磨机的工作原理是：在一（公转）的大转盘上安装有在（自转）的两个大行星轴，作单行星式运转。同时又在两个大行星轴上安装有两个小转盘在（公转）两个小转盘上安装有四个球磨罐保护座（放球磨罐之用）在（自转），作双行星式运转。球磨罐在这种高速运转的情况下，球磨罐内的研磨球在惯性力的作用下对物料形成了很大高频冲击力、直线碰撞力、磨擦力、对物料进行快速细磨，混合与分散样品。   技术参数： 1、  球磨罐采用两个行星式运转，具有高频冲击力、直线碰撞力、磨擦力的运转下球磨效率高，粒度细等优点。（该产品是引进德国最新技术、全国首创）可替代进口球磨产品。 2、  同时可以装四个球磨罐，一次可做四种不同材料的试验，为技术人员研究新配方，开发新技术材料提供了方便。 3、  进料粒度：土壤应小于10mm     其它材料应小于3 mm 。 根据用户需求球磨罐可做成抽真空型（50ml----5000ml）。 4、  该机可以采用湿法、干法的形式对物料进行超细研磨或混合，研磨出的材料最小可达到0.06微米，即60纳米。 5、  该机的传动方式是采用链条装置带新技术，传动扭巨大，运转平稳，不用维护免除了因传动带磨损而调整、更换传动带的麻烦。 6、  变频控制，可根据试验效果选定理想转速。 7、 大转盘公转：50—400转/分钟           小转盘公转：100—800转/分钟  大行星轴自转：100—800转/分钟    球磨罐自转：200—1600转/分钟 8、  整机一体具有定时关机、定时正、反转与自由选择单向、交替、连续、定时和不定时运行方式，提高研磨效率。 9、  电机功率 0.4L、2L、4L、为0.75KW、220V、50HZ。 16L、20L、为5.5KW、380V、50HZ。 10、该机重心低、性能稳定、结构紧凑、操作方便、安全可靠、    噪音低、无污染、损耗小。   型号 规格 球磨罐 备　　注 规格（ml） 配备相应数量罐 数量（只） SHQM-0.4L 0.4L 50～100 4 可配50ml真空球磨罐 SHQM-2L 2L 50～500 4 可配50～250ml真空球磨罐 SHQM-4L 4L 50～1000 4 可配50～500ml真空球磨罐 SHQM-16L 16L 50～4000 4 可配50～3500ml真空球磨罐 SHQM-20L 20L 5000 4 可配4000ml真空球磨罐 注：球磨罐材质 不锈钢、不锈钢真空、玛瑙、陶瓷、氧化锆、聚四氟乙烯、尼龙、聚胺脂、硬质合金等。每四只球磨罐为一套，每套球磨罐配备相应的球与垫片。    

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清华大学王保国教授团队从事膜分离和电化学工程的交叉领域科学研究，迄今已有近 20 年时间。他们从降低能耗角度出发，提出了“一体化”膜电极的概念，其核心是通过在多孔膜中，电催化剂原位取向生长策略，降低电子/气体/离子的传递阻力，从而提高电解水产氢速率。

一种超双亲多孔膜材料及其制备方法和应用，步骤如下：（1）室温下，先将碳纳米管粉体和表面活性剂分散于水中，形成均一混合溶液；（2）向上述混合溶液中加入水性三聚氰胺甲醛树脂溶液，混匀制得所需反应液；（3）将上述反应液刷涂或喷涂在干净的多孔基材上，80~120℃干燥固化10~30min，即可制得超双亲油水分离用多孔膜材料。本发明所述的多孔膜材料既保持了原有泡沫铜基底良好的机械性能，同时又具有很好的超双亲性，即可截留水让油通过，也可截留油让水通过，从而具有双重分离效果。

本项目是国家863计划”85” 和”95”重大项目的阶段性研究成果(合作单位:河北省科学院)。 包含”大面积高功率DC Arc Plasma Jet CVD金刚石膜高速沉积设备”和”大面积高质量金刚石自支撑膜制备工艺”两部分。其目标是向国内外市场提供大面积高质量廉价金刚石自支撑膜。技术基本成熟, 设备和工艺已在广东、北京和天津的一些工厂和研究院所应用。目前已开发两种不同功率级别, 100千瓦级和30千瓦级的设备, 工具级金刚石膜沉积速率: 40～50mm/h, 沉积面积: 110mm (100千瓦级), 或60mm (30千瓦级)。利用本项目技术生产的工具级金刚石膜可达到的指标: 面积: mm (100千瓦级), 或 mm (30千瓦级); 厚度: 最大2mm; 维氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗弯强度: > 300 MPa。光学级金刚石自支撑膜目前最大面积为60mm, 厚度约0.6mm, 从紫外(0.22m)到远红外(>20m, 直至微波)透明, 8～12m波段透过率～70%, 热导率～19W/cm.k, 各项物理化学性能均与天然Ⅱa型宝石级金刚石单晶接近。 该项目适用于光学级金刚石自支撑膜: 工业CO2激光器窗口, 需要在极端恶劣工业环境(高温、腐蚀、幅射、磨损、冲刷等)下工作的光学装置窗口、军事窗口等。也可用于中高档耐用装饰品制作。 热沉级金刚石自支撑膜: 半导体二极管激光器热沉、功率半导体器件(Power IC)的金刚石封装、MCMs (大规模集成电路的三维立体组装技术)用大面积金刚石热沉、高功率微波器件热沉。 工具级金刚石自支撑膜: 金刚石拉丝模模芯、金刚石自支撑膜钎焊工具、各种抗极度摩擦磨损工具和模具及仪器零件。

本项目所研究的电控调光膜材料即为聚合物分散液晶（Polymer dispersed liquid crystal，简称PDLC）薄膜材料，其主要应用领域为电控智能玻璃、大面积柔性液晶显示等。PDLC薄膜材料是将向列相液晶微滴均匀分散在高分子网络中而形成的复合材料，当未对PDLC薄膜施加电场时，在高分子网络的作用下液晶分子的指向矢呈无规分布，薄膜呈强烈光散射状态；当对PDLC薄膜施加电场时，液晶分子的长轴平行于电场排列（通常PDLC中所使用的液晶的各向介电常数为正），薄膜呈透明状态。 目前，国外的PDLC薄膜生产厂家均采用热固化法制备PDLC薄膜，而课题组所采用的为紫外光固化法，是世界上首家可以使用紫外固化法制备PDLC薄膜的科研单位，紫外光固化法相对于热固化法，其固化速度快、节能环保、成品率高。并且所制备的PDLC薄膜电-光性能优异，综合电-光性能优于其它国外PDLC薄膜生产厂家所生产的PDLC薄膜。

本项目是国家863计划”85” 和”95”重大项目的阶段性研究成果(合作单位:河北省科学院)。 包含”大面积高功率DC Arc Plasma Jet CVD金刚石膜高速沉积设备”和”大面积高质量金刚石自支撑膜制备工艺”两部分。其目标是向国内外市场提供大面积高质量廉价金刚石自支撑膜。技术基本成熟, 设备和工艺已在广东、北京和天津的一些工厂和研究院所应用。目前已开发两种不同功率级别, 100千瓦级和30千瓦级的设备, 工具级金刚石膜沉积速率: 40～50mm/h, 沉积面积: 110mm (100千瓦级), 或60mm (30千瓦级)。利用本项目技术生产的工具级金刚石膜可达到的指标: 面积: mm (100千瓦级), 或 mm (30千瓦级); 厚度: 最大2mm; 维氏硬度: 8000～11000 kg/mm2; 抗弯强度: > 300 MPa。光学级金刚石自支撑膜目前最大面积为60mm, 厚度约0.6mm, 从紫外(0.22m)到远红外(>20m, 直至微波)透明, 8～12m波段透过率～70%, 热导率～19W/cm.k, 各项物理化学性能均与天然Ⅱa型宝石级金刚石单晶接近。 该项目适用于光学级金刚石自支撑膜: 工业CO2激光器窗口, 需要在极端恶劣工业环境(高温、腐蚀、幅射、磨损、冲刷等)下工作的光学装置窗口、军事窗口等。也可用于中高档耐用装饰品制作。 热沉级金刚石自支撑膜: 半导体二极管激光器热沉、功率半导体器件(Power IC)的金刚石封装、MCMs (大规模集成电路的三维立体组装技术)用大面积金刚石热沉、高功率微波器件热沉。 工具级金刚石自支撑膜: 金刚石拉丝模模芯、金刚石自支撑膜钎焊工具、各种抗极度摩擦磨损工具和模具及仪器零件。