本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头，包括进气管路、进气口和出气口；所述进气口内部为空腔；所述出气口内部形成空腔，分为上半部分和下半部分，其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构；进气管路与进气口固定连接，进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置，包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台，腔体支撑架中间形成长条状镂空，可顺序设置多个可拆卸喷头，基片承载台设置在墙体支撑架下方，运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应，通

本发明公开了一种基于原子力显微镜的多功能组合探针系统。该系统能在各种设定的工作环境中通过程序控制原位切换具有不同功能的探针，从而在同一实验区域原位实现微观摩擦磨损实验、表面形貌扫描、晶体结构演变探测和摩擦能量耗散测量等功能。该系统在原位切换探针时，无需破坏工作环境，有效避免外界环境对样品表面的污染。

本发明涉及一种雷击干扰与雷击故障识别方法，尤其是涉及一种基于 PSO 改进的原子分解法的雷 击干扰与故障识别方法。本发明利用原子分解法对故障线路保护安装处的电压电流信号进行频率成分分 析，提出基于零序电流稳态工频分量有无的雷击干扰识别方法;提出基于电流线模分量原子分解能量比 值与基于故障相电流电磁暂态特征的双重故障类型识别判据，提高了故障识别的准确率。本发明在过完 备冗余原子库的基础上自适应地寻找信号的最佳匹配原子及其参数，从而使信号的自适应表达简洁，分 解结果稀疏，极大地提高了

本发明公开了一种光控快速释放磺胺嘧啶的抑菌光笼、制备方法及其应用，该抑菌光笼基于Sanger试剂的光控释放体系，实现SD的高效时空释放及靶向抗菌。本发明的光控快速释放磺胺嘧啶的抑菌光笼，其具有如式SD‑Py‑N+所示结构的磺胺嘧啶‑2,4‑二硝基苯衍生物。

产品详细介绍产品用途：该产品采用荧光紫外灯为光源,通过模拟自然阳光中的紫外光辐射和冷凝,对材料进行加速耐候性试验,以获得材料耐气候性的结果。广泛适用于非金属材料、有机材料(如：涂料、油漆、橡胶、塑胶及其制品)经在阳光、湿度、温度、凝露等气候条件的变化下检验有关产品及材料老化现象程度及情况。 型号 ZN-P   内形尺寸D×W×H  450×1170×500:mm　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 一、技术参数:  1.温度范围：RT+10℃～70℃  2.湿度范围：≥95%R.H  3.温度波动度：≤±0.5℃   4.温度均匀度：≤±2℃  5.温度偏差：≤±1.5℃  6.湿度均匀度：≤±2%R.H  7.黑板温度：40℃～65℃  8.灯管中间距离：35mm  9.样品架与灯管距离：50mm 10.灯管功率：40W/支 11.辐照度范围：小于50W/㎡ 12.紫外波长：280nm～400nm  13.支持样板：厚10mm×宽75mm×高150mm 14.样板数量：40块 15.时间设定范围：0～9999小时 16.电源要求：AC380（±10%）V/50HZ  三相五线制 二、箱体材质：  1.外壳采用A3钢板防静电喷塑处理;  2.内胆采用SUS优质不锈钢板;  3.箱盖采用A3钢板喷塑处理;  4.工作室的两边共安装8支UV系列紫外灯管;  5.加热方式为内胆水槽式加热、升温快、温度分布均匀;  6.箱盖为双向翻盖式,开闭轻松自如;  7.内胆水位自动补水;  8.试样架由衬垫和伸张弹簧组成,均采用铝合金材料制成;  9.试验箱底部采用高品质可固定式PU活动轮; 10.排水系统使用回涡型及U型积沉装置排水; 11.试样表面与紫外灯平面距离为50毫米且相平行; 三、光源系统:  1.光源采用8支UV系列额定功率为40W的紫外荧光灯管作发光源(灯管长度1200mm),分布在机器的两侧每侧各4支;  2.符合标准灯管有UVA-340或UVB-313光源供用户选择配置;（任选一种）  3.UVA-340灯管的发光光谱能量主要集中在315nm～400nm波长之间;  4.UVB-313灯管的发光光谱能量主要集中在280nm～315nm波长之间;  5.由于荧光灯光能量输出会随时间而逐步衰减,为了减小因光能量衰减造成试验的影响,所以本试验箱在所有的8支灯管中每隔1/4的荧光灯寿命时,由一支新灯管替换一支旧灯管,这样紫外光源始终由新灯和旧灯组成,从而得到一个输出恒定的光能量;  6.灯管有效使用寿命国产灯管600～800小时/进口灯管1800～2000小时; 四、控制系统：  1.采用智能型SAMWON-ST系列韩国进口温控仪表,控制精度±0.1℃；  2.温度控制均采用P.I.D ＋S.S.R,系统同频道协调控制,可提高控制元件与界面使用之稳定性及寿命；  3.触控式设定、数位及直接显示  4.具有P.I.D 自动演算之功能,可减少人为设定时带来之不便  5.光照和冷凝、喷淋可独立控制也可以交替循环控制  6.光照和冷凝的独立控制时间和交替循环控制的时间可在一千小时内任意设置;  7.在运转或设定中,如发生错误时,会提供警示迅号;  8.法国“施耐德”元器件。  9.飞利浦镇流器和启辉器（保证每次开机均可点亮紫外灯） 五、加热系统：  1.采用U型钛合金高速加温电热管；  2.完全独立系统,不影响试验及控制线路；  3.温度控制输出功率均由微电脑演算,以达高精度及高效率之用电效益；  4.具有加热系统的防超温功能； 六、黑板温度控制：  1.采用黑色铝板联接温度传感器；  2.采用黑板温度仪表控制加热,温度更稳定； 七、喷淋系统：  1.喷淋均匀性调节利用控制器的人工控制功能,在开门状态下观察喷淋状况,从而加以调节或更换喷头；  2.喷淋状态监控：机器配置了喷淋装置,喷淋装置模拟下雨时的温度剧变和雨水侵蚀,共有若干喷嘴喷洒均匀。什么时候喷淋、喷淋多长时间都由客户自由设置；  3.用户需准备有压力的去离子水或自来水；  4.主机附近的地面上需要有排水沟； 八、设备使用条件：  1.环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃）  2.环境湿度：≤85%R.H  3.操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西; 九、符合标准:  严格参照GB/T14522-2008、GB/T16422.3-97、GB/T16585-96等相关紫外老化试验标准设计制造; 十、服务承诺：免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。 北京中科环试仪器有限公司 电话: 010-81290307 传真: 010-81283287 手机: 13671371697 联系人：唐治刚 http://www.zkhs17.com E-mail:zkhs@zkhs17.com  

本发明公开了一种基于人工表面等离激元的同频双圆极化漏波天线，包括介质基板，覆盖在该介质基板上表面的金属条带以及覆盖在该介质基板下表面的金属地板；金属条带包括两端的带地共面波导匹配结构和中间的人工表面等离激元结构；人工表面等离激元结构包括上下两个边带，每个边带包括若干调制周期排布的人工表面等离激元单元结构；上下两个边带之间开槽单元结构形成90°的角度，且上下两个边带对称设置，并有错位。本发明为双端口漏波天线，不同的端口馈电将产生不同的辐射模式，可在8.6?9.0GHz内实现双

本发明公开了一种基于静态区域信息的扫频OCT数字相位矫正方法与系统，现有的扫频光学相干层析成像技术由于扫频光源的扫描触发和采样时钟信号不同步，干涉信号光谱存在随机的错移，导致OCT相位信号的随机跳变。研究发现在样品的静态区域，相比于相位跳变误差，系统SNR决定的相位噪声较小，而环境导致的相位扰动在时间上具有缓变的特征。本发明利用上述相位特征确定相位跳变发生的A-line位置、以及光谱的错移量，通过相位与成像深度的线性关系，实现相位跳变误差的矫正。该方法属于纯数字矫正，不增加系统的复杂程度，不会引入额外的相位噪声。

ARTOS 1200D是一款新版的多功能便携式组合音柱音响系统，包括一只6*3""无源塑壳音柱+一只内嵌6路输入带双通道功率放大器的数字箱式调音台的12""有源超低频音箱+1只塑壳音柱支撑箱。只需简单装配，就组成一套高性能的专业音箱系统。三分频3英寸塑胶组合音柱音响系统，包括1只6*3""全频扬声器+1*1""压缩驱动器号角扬声器组成的全频音箱，以及1只10""有源超低频音箱。音质出色，重量轻，携带方便。恒指向性高音号角设计，声场覆盖均匀。12""有源超低频音箱，倒相式设计，内置2*300W双通道功率放大器，6路输入通道的箱式调音台，包括2路Mic输入，1路6.35mm JACK立体声线路输入，1路USB PLAY输入，1路蓝牙信号输入，1路右声道线路输出，2路AUX辅助输出，1路脚踏开关控制。

GL206A线阵列音箱具备平滑的频率和相位响应。1个3寸的钕磁高音压缩单元和两个6.5寸低音单元构成一个动态余量极大的组合。音箱内装一个独立的大功率功放及DSP，音箱可单独调节，连接数量根据实际场合大小进行配置，使得现场扩声极其灵活、便捷。GL206A功放部分使用高效率开关电源，内置DSP模块，具有处理分频、EQ、压限、延时、音量等功能，DSP可通过面板简易操作，功放面板上带有RS485网络接口。箱体部分采高强度PP复合材料制作，轻巧而坚固，箱体为梯形,箱体与箱体之间的间隙已经缩到最小,从而减少了整组阵列的无效发声区,最小化阵列的垂直旁瓣。 GL206A箱体上装配有精密吊装系统,箱体与箱体的连接角度可调整箱体背部的连接杆在0°- 10°之间任意调整，以满足不同场合的需求。

液体磁性磨具是由我在国际上首先提出并研制成功的一种新型精密光整加工技术，具有良好的材料适应性，可以实现对各种金属材料零件、陶瓷材料零件等的光整加工，可以获得较低的表面粗糙度 值，具有良好的可控性，可方便的通过调节磁场强度来控制整个加 工表面或局部表面研磨压力的大小，且光整加工所需要的设备简单，对设备的精度要求不高，可以方便地应用于生产实践，在复杂 型面、孔等表面精密加工方面具有具有明显的优势，居国内领先水平。