一、产品介绍        光电成像基础与应用实训平台包括CCD和CMOS两大方面，这两方面原理与应用是《光电技术》和《图像传感器应用技术》课程重要章节，也是教学的难点章节，因此，monxyuan开发了光电成像基础与应用实训平台。该平台采用搭建式、开放式设计，直观展现了线阵CCD、面阵CCD和CMOS的工作原理，并且设置了工程实际检测的实验，是学生理解和认识CCD和CMOS工作原理与实际应用的最理想的教学实验系统。 二、教学目的 1、了解并掌握线/面阵CCD和CMOS的原理； 2、了解线/面阵CCD和CMOS的软件使用方法； 3、了解并掌握面阵CCD和CMOS信号处理方法； 4、了解并掌握运用面阵CCD和CMOS进行尺寸测量和图像处理的方法； 5、了解并掌握学生掌握线阵CCD的几种典型的应用； 三、实验内容 1、面阵CCD 原理与驱动实验； 2、面阵CCD 数据采集与计算机接口实验； 3、面阵CCD 边缘与轮廓检测； 4、面阵CCD物体尺寸测量实验； 5、面阵CCD 图像的点运算； 6、面阵CCD 图像的几何变换； 7、面阵CCD 图像采集与参数设置； 8、面阵CCD 投影与差影图像分析； 9、面阵CCD 图像的滤波与增强； 10、面阵CCD 形态学处理； 11、面阵CCD 旋转与缩放； 12、面阵CCD 颜色识别与变换； 13、面阵CCD图像采集程序设计；  14、线阵CCD 工作原理与驱动波形观测； 15、线阵CCD 模拟输出信号的调整； 16、通过采集卡对线阵CCD的模拟输出信号进行A/D转换和数据采集； 17、通过软件浮动阈值对CCD的输出信号进行二值化处理； 18、利用线阵CCD 对物体尺寸进行非接触的实时测量； 19、利用线阵CCD 对物体的角度进行测量； 20、利用线阵CCD 测量物体的振动； 21、利用线阵CCD识别一维条形码； 22、利用线阵CCD扫描物体的二维图像； 23、利用外置相机进行实物尺寸测量 24、用硬件提取边缘信号的二值化 25、CMOS原理与驱动实验； 26、CMOS数据采集实验； 27、CMOS图像采集程序设计 28、CMOS用于边缘与轮廓检测实验； 29、CMOS用于物体的尺寸测量实验； 30、CMOS用于图像采集与参数设置实验； 31、CMOS用于投影与差影图像分析实验； 32、CMOS用于图像的滤波与增强实验； 33、CMOS用于颜色识别与变换实验； 34、扩展性实验     （1）通过提供的CPLD程序，学生可以了解CPLD对外围器件的控制；     （2）有能力的学生还可以自己编程来产生方波；     （3）通过提供的SDK和DEMO程序，编写程序来采集扩展相机的数字信号；     （4）利用扩展相机并编写软件进行其他如尺寸测量等实验等； 四、配套文件资料 1、实验指导书1本； 2、实验软件1套； 3、实验录像光盘1套；    客户自行配置电脑及示波器    

"项目通过协同创新与产学研合作，率先突破制药产业化的晶型与结晶控制、迟释包衣和杂质分离等关键技术难题，实现了原料药、肠溶微丸胶囊、注射剂产业化。该成果显著提高产品质量，明显降低产品价格。形成自主知识产权保护，为行业共性关键技术发展与应用提供了有力支撑 "

项目简介 盐酸文拉法辛（Venlafaxine Hydrochloride，以下简称 VH）为兼具抑制 5-HT 和 NE 再摄取双重作用的苯乙胺类抗抑郁药物。1994 年 VH 由美国惠氏公司率先推向市场，并在 意大利、法国、加拿大等多个国家批准上市。1997 年，惠氏公司又开发了 VH 缓释胶囊－ －怡诺思，实现了一天一次服药。目前在国内，已有多家盐酸文拉法辛原料及制剂批复， 18 家原料，9 家制剂，包括胶囊剂及缓释胶囊剂、缓释片剂（缓释片剂为本项目团队开 发并转让）。 知识产权状态 1 本

本发明公开了一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉，包括绝热外壳及设置在绝热外壳内的生长室，生长室设置有坩埚，绝热外壳的外部设置有用于对坩埚进行加热的主电磁感应线圈，主电磁感应线圈的下方设置有副电磁感应线圈，主电磁感应线圈和副电磁感应线圈之间存在间距，有多根底部进气管和多根中部进气管平行伸入绝热外壳内，绝热外壳的顶部设置有气流出口，气流出口作为籽晶杆移动通道，绝热外壳内设置有用于削弱辐射传热的可伸缩遮热板和用于调整

（专利号：ZL 201510089923.3） 简介：本发明公开了一种高拉速下抑制结晶器液面波动的装置，属于冶金工艺优化技术领域。本发明包括聚流机构、分流机构及连接机构，聚流器侧面设有与其相连通的聚流口，聚流器内部设有挡流板，聚流器上部设有圆形孔，该圆形孔与其上方的连接管相连通，连接管与出流口相连通；分流器为一长方体，分流器上部设有若干通孔，分流器下部设有矩形凹槽；出流口与吊柱相连，吊柱与分流器相连，大吊柱一端与分流器相连，大吊柱另一端与

课题主要通过优化设计及制备高品质金属/介质纳米复合结构，研究金属纳米结构及介质材料生长的新方法，并研究电子束激励条件下，纳米复合结构的等离激元共振模式及能量转移物理机制，激励电压对等离激元共振模式的调控规律。

本发明提供了一种计及非共振传输的中高频局部动响应预示方法，将声?固耦合结构解耦为结构子系统和声腔子系统，分别建立子系统的有限元模型，并对子系统进行模态分析，计算子系统之间的陀螺耦合系数；建立各个模态上关于角频率的功率流平衡方程，进而获得子系统在角频率处的模态能量；确定子系统在研究频带内的模态阶数，并计算各个模态计及非共振传输的模态能量；建立子系统在研究频带内的模态能量与模态振型幅值之间的关系；基于局部能量预示理论求解结构和声腔子系统的局部能量响应。本发明方法与现有统计模态能量分布分析法相比，考虑了非共振模态间的功率传输，因此计算得到的模态能量更加接近真实值，进而能够更精确地预示大阻尼系统的中高频局部动响应。

产品详细介绍产品简介：　　 NMI20核磁共振造影剂驰豫率分析成像测试仪是一款经典的小核磁，专为核磁共振造影剂研究应用设计开发而成，该设备配套有造影剂专用弛豫时间测试软件,磁共振成像软件，可以直接测试得到不同浓度造影剂样品的T1、T2弛豫时间，R1、R2弛豫速率以及造影剂样品的弛豫效率r，并可完成T1加权成像，,T2加权成像和质子密度加权成像。弛豫时间测试过程非常简单，样品无需特别配置，软件实现中英文双语选择界面，操作简便，易学易用。技术指标：1、磁体类型：永磁体；2、磁场强度：0.5±0.08T，仪器主频率：21.3MHz；3、探头线圈直径：15mm；应用解决方案：1、Gd类，Fe类，Mn类等核磁共振造影剂T1、T2弛豫时间测试，弛豫效率r测试；2、不同浓度造影剂样品成像，T1,T2加权成像，直观评价造影效果；3、细胞液弛豫测试与成像　　.....应用案例一：四氧化三铁，T2磁共振靶向造影剂弛豫率测试，磁共振成像测试应用案例二：Gd+ 类T1 磁共振造影剂测试实例，T1弛豫时间测试，T1加权成像应用案例三：不同浓度磁共振造影剂对比成像注：仪器外观如有变动，以产品技术资料为准。

本发明公开了一种基于MEMS传感器和VLC定位融合的单卡尔曼滤波导航装置和方法，包括MEMS传感器、INS模块、VLC定位模块、PDR定位模块和测姿定位单卡尔曼滤波器模块；本发明基于INS惯导机械编排的误差方程作为融合滤波器的系统方程，观测方程包括VLC定位信息更新、PDR定位信息更新和磁力计观测量更新。融合滤波器输出VLC接收器的姿态给VLC定位模块，输出PDR设备的姿态给PDR定位模块以校正姿态的影响。首次在VLC定位领域使用融合测姿准确估计VLC接收器的姿态信息，主要解决了VLC定位容易受设备姿态影响以及在光信号被遮挡情况下定位不连续的问题。

本发明公开了一种基于MEMS传感器和VLC定位融合的双卡尔曼滤波导航装置和方法，包括MEMS传感器、INS模块、PDR定位模块、VLC定位模块以及测姿定位双卡尔曼滤波器；对于测姿滤波器，基于惯导机械编排的误差方程作为系统方程，观测方程包括加速度计观测量更新和磁力计观测量更新，输出姿态信息给VLC定位模块和PDR定位模块以校正姿态的影响。对于定位滤波器，二维平面的位置信息作为系统状态向量，基于行人航位推算的误差方程作为系统方程，而VLC的定位结果为观测方程。本发明的技术方案解决VLC定位容易受设备姿态影响以及在光信号被遮挡情况下定位不连续的问题，消除姿态对VLC定位的影响。