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数码液晶显微镜
数码液晶显微镜一体化设计、自带液晶屏，无需再进行部件安装，接上电源即可使用，操作简单，图像清晰靓丽、可拍照录像、显微测量。数码液晶显微镜还同时具备生物显微镜的功能和实体显微镜的功能。
深圳市奥凯视科技有限公司
2021-02-01
DMD数字微镜器件
西安中科微星光电科技有限公司
2022-06-27
基于体视显微镜的显微立体图像成像与分析系统
基于体视显微镜的显微立体图像成像与分析系统利用立体成像原理，采用Motic体视显微镜，外接左右两路视频图像采集相机，实现双路图像实时采集、三维立体实时显示、三维表面成像、三维测量等功能。立体显微镜的设计采用Motic专利技术，具有自主知识产权，系统可应用于材料学表面、医学解剖大体标本、印刷电路板表面的三维成像和测量分析，可测量表面的粗糙度、剖线长度、曲率、表面积等参数。 本系统为国内自主知识产权开发的软、硬件系统，在图像软件方法上集成了课题组多年在显微图像分析上的研究经验可与国内材料学、医学等应用接合，在应用方法上已取得了多项创新。该软件系统与显微镜硬件接合可实现小批量的生产，为材料学、医学、工业等领域的科研和生产检测提供的技术支持。
北京航空航天大学
2021-04-13
一种用于原子力显微镜的气氛控制系统
一种用于原子力显微镜的气氛控制系统，其特征在于：气体瓶一（1a）和气体瓶二（1b）分别通过流量计一（3a）、流量计二（3b）与混合气管（4）的进气口相连，混合气管（4）的出气口通过进气腔（6）与原子力显微镜上的气氛腔（7）的进气口相连。该系统能为原子力显微镜提供不同气体、各种比例组成的可控混合气氛，从而使原子力显微镜能进行各种比例的不同气体组成的混合气氛下微机电系统的磨损失效、防护机理的模拟试验与研究，从而为相应混合气氛工作中的微机电系统的设计、制造与维护提供更准确、可靠的试验依据，以降低微机电系统的磨损，提高微机电系统的使用寿命。
西南交通大学
2016-10-25
一种用于虚拟腹腔镜手术的装置、方法及系统
本发明公开了一种用于虚拟腹腔镜手术的装置、方法及系统。 所述装置包括一对相对设置的机械操作杆，机械操作杆包括直杆、C 形连接杆和横杆；直杆上部为手握部分，下部连接 C 形连接杆，上部 和下部通过第一套管连接，其中设有直线位移传感器和第一角位移传 感器；直杆下部底端设有第二套管，第二套管内设有第二角位移传感 器；C 形连接杆凹部连接直杆下部，背部通过第三套管连接横杆，第 三套管中设置有第三角位移传感器。本发明还提供了应
华中科技大学
2021-04-14
芯片热设计自动化系统
TDA（芯片热设计自动化）软件是清华航院曹炳阳教授团队全自主研发的国际首个芯片跨尺度热仿真与设计系统。TDA软件可实现芯片从纳米至宏观尺寸的热设计与仿真，支持芯片微纳结构内部热输运过程的模拟研究，直接提高芯片热仿真精度与结温预测准确度，进而提高芯片性能、寿命和可靠性。
清华大学
2025-05-16
脑细胞微环境检测新方法与脑内新分区系统的发现
脑深部神经网络存在的微环境是人类尚未踏足的纳米尺度超微结构空间。课题组发明了新型检测技术，解密了该空间结构特征，发现脑内新分区引流系统，提出了脑分区稳态理论，新方法已在多个前沿领域得到实际应用。
北京大学
2021-02-22
基于小型光源的光声-超声一体化消化内窥系统
基于小型光源的光声-超声一体化消化内窥系统既可以对数厘米内深的消化道进行结构成像，也可以对腔道管壁的微血管形态成像，为医生提供多尺度多参数的临床图像，有助于提高消化疾病发现率和诊断水平；采用小型光源能极大程度提高系统稳定性，实现小型一体化设计，提高病人手术舒适度，并降低了系统成本，有助于将光声技术推广到常规体检筛查中。
产业化合作前景
在全球范围内，医用内窥镜系统由于其设备兼具有很强的针对性与灵活性的特点，能够满足多种临床需求，因此在不同的医疗领域都获得了十分广泛的应用，从而形成了巨大的市场。近几年以来，由于相关技术的突破性进展，多家公司致力于开发能够减轻使用过程中不适、缩短治疗时间以及低成本的内窥镜设备。根据市场分析公司 MarketsAndMarkets 的统计，2013年全球范围的医用内窥镜市场已达 282 亿美元，并且预计将以 6.1%的复合年平均增长率持续增长，至 2018 年全球市场预期将达到约 379 亿美元。
哈尔滨工业大学
2021-04-22
基于小型光源的光声-超声一体化消化内窥系统
介绍基于小型光源的光声-超声一体化消化内窥系统既可以对数厘米内深的消化道进行结构成像，也可以对腔道管壁的微血管形态成像，为医生提供多尺度多参数的临床图像，有助于提高消化疾病发现率和诊断水平；采用小型光源能极大程度提高系统稳定性，实现小型一体化设计，提高病人手术舒适度，并降低了系统成本，有助于将光声技术推广到常规体检筛查中。
哈尔滨工业大学
2021-01-12
直拉硅片的内吸杂工艺
本发明公开了一种直拉硅片的内吸杂工艺，包括：(1)在氮气氛下，将直拉硅片以50～100℃/秒的速率升温至1200～1250℃，维持30～150秒，然后以5～50℃/秒的速率冷却至800～1000℃，接着自然冷却；(2)将经步骤(1)处理后的直拉硅片在氩气氛下于800～900℃退火8～16小时。本发明仅包含两步热处理工艺，所需温度和时间比现有工艺的要低，热预算显著降低；另外体微缺陷的浓度和洁净区宽度可以很方便地通过第一步快速热处理的温度、时间和冷却速率得到控制。
浙江大学
2021-04-11