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IECUBE-3100集成电路测试实训平台
IECUBE-3100集成电路测试实训平台是一个源于继承广电路行业实际工业应用场景,基于集成电路行业国际领先的NI测试测量技术,针对集成电路测试技能培养而专门开发的实训平台,可以完成典型集成电路的测试实训,包括ADC、DAC、PA、数字逻辑IC以及晶体管等。
北京曾益慧创科技有限公司 2022-07-08
变温教学霍尔测试系统霍尔效应教学实验仪器
JH50变温教学霍尔测试系统 概述: 本系统由JH50变温教学霍尔测试系统、TESK301控温仪、液氮恒温器和转向磁体四个部分组成,可完成在不同温度条件下测量霍尔片样品霍尔效应的教学实验。该系统可与计算机连接,配合相应的软件实现计算机实时数据采集,也可配合我公司其他设备使用。变温教学霍尔测试系统霍尔效应教学实验仪器  本仪器系统由可换向永磁磁铁、T9015W变温恒温器、TESK301控温仪、JH10霍尔效应仪等组成。本仪器用于霍尔效应及其应用、载流子类型、载流子类型转变的演示和学生实验。也可使用恒温器内预留的样品引线,安装上用户样品,用于科学研究;例如变温磁阻、超导、电阻温度特性、变温光电或变温磁光(需另购带光学窗口的尾套)等。具有用途广、造价低、使用方便等特点。为本仪器系统专门研制的JH10霍尔效应仪(以下简称JH10表)将恒流源、四位半微伏表及霍尔测量中复杂的切换继电器——开关组合成一体,大大减化了实验的连线与操作。JH10还可单独做四位半数显恒流源和微伏表使用。 变温教学霍尔测试系统霍尔效应教学实验仪器  主要技术指标: 磁    场:大于3900高斯 样品电流:10纳安~199.99毫安 测量电压:1微伏~19.999伏 测温 *小分辨率:0.01K 测温误差:<0.5K 变温范围:80~320K 恒温器液氮容量:450毫升 系统的安装与连线: 用户收到货物后,经开箱检验无明显运输损伤后即可开始安装调试。先将永磁磁铁放置在工作台上,再将恒温器插入永磁磁铁正中的孔中。实验时实验者将可换向永磁铁的不锈钢座平放在工作台上,顶部长圆滑动孔横置在实验者左前方,转动中间黑色的磁体,使上面的商标面对实验者。此时磁场方向与商标垂直,N极在靠近实验者一边,S极在对面。将中间黑色的磁体转动180°即可使磁场反向。将恒温器在长圆滑动孔中向左滑动平移就可以将样品移到无磁场区域。 将恒温器与控温仪及JH10表用专用信号电缆连接,将JH10表的电压表量程置于20伏档,电流源置于2毫安档,插接上仪器电源线并打开电源供电。为防止漏电伤人,所用电源要有可靠的专用地线。供电后如果控温仪的输出指示灯亮,温度将持续上升,可通过面板更改设定温度,以调低设定温度。如果温度失控,请立即断电重新启动控温仪,如果故障现象重复出现,请联系北京锦正茂。 测试样品: 本仪器中的样品: 1号样品(S1):美国Lakeshore公司HGT-2100高灵敏霍尔片,              *大工作电流≤10 mA,室温下的灵敏度为 55-140 mV/kG              2号样品(S2):客户可以按照接线定义,安装自己的样品。 仪器使用与实验方法: (1)磁场的标定    系统中的S1为已在室温下标定过的霍尔探头,在室温下用开关选择样品S1,并使恒温器位于可换向永磁磁铁的中心,恒温器真空抽口垂直于标签面。开机后快速将恒流源输出调到  mA,此时JH10表的微伏表电压读数即为磁场的特斯拉数。此时的JH10相当于一台探头装在恒温器冷指上的高斯计,可用来测空间磁场。霍尔探头 *大电流不能超过10mA! (2)室温下的霍尔测量   将19芯电缆与恒温器连接好,样品开关选择样品S2,调整样品电流到10.00mA,开机预热半小时。测量时,将恒温器放置在磁场正中心,按下开关VH,测霍尔电压VH1,如果电压较小,改到2V或200mV档;为了确保磁场垂直于样品,应该用双手各扶左右支撑板,微转黑色方铁轭磁路,使VH *大。按电流换向开关,测VH2;将黑色的永磁磁体转180°后再测VH3;电流换向,测VH4;将恒温器水平左移,使样品处的磁场为0,按VM开关,测VM1;按电流换向开关,测VM2。按VN开关,测VN1;按电流换向开关,测VN2。 (3)变温测量    取出恒温器中心杆,注入液氮(依测量点的多少决定加液氮量),具体注意事项请参见T9015W低温恒温器使用说明书。如不想从80K低温测起,可先将控温设定在270K,再加液氮并及时插入中心杆,进行较高温度的控温 实验。控温时顺时针转动中心杆至 *低位置,再回旋约180°~720°即可通过控温仪设定控温了。等温度控制稳定后,重复测量过程2,测得此温度点的各项霍尔参数。改变设定温度,测另一个温度点的霍尔参数。中心杆旋高则冷量增大,适于快速降温和较低温度的实验。控温精度与PID参数有关,请适当调整中心杆高度,以提高不同温区的控温精度。 (4)安全注意事项 ①经常检查并保证仪器电接地正常。 ②湿手不能触及过冷表面、液氮漏斗,防止皮肤冻粘在深冷表面上,造成严重冻伤!灌液氮时应带厚棉手套。如果发生冻伤,请立即用大量自来水冲洗,并按烫伤处理伤口。 ③实验完毕,一定要拧松、提起中心杆,防止中心白色的聚四氟乙烯塞子因热膨胀胀坏恒温器。            
北京锦正茂科技有限公司 2022-10-21
针对下一代功率半导体GaN器件的高频栅驱动电路设计技术
上限低,可反向导通,dv/dt扰动和di/dt扰动等。该项成果设计出适用于N型常关GaN器件的半桥栅驱动电路,通过分离充放电路径避免栅驱动电压振铃现象的发生和dV/dt现象对栅驱动电路的干扰;同时利用高端栅极钳位技术,在自举充电路径中对BOOT电容进行钳位,防止对上开关管的损坏。 半桥GaN栅驱动电路主要指标为: ? 独立的高侧和低侧TTL逻辑输入 ? 1.2A/5A 峰值上拉和下拉电流 ? 高端浮动电压轨到100V ? 0.6Ω/2.1Ω 下拉和上拉电阻 ? 快速的延迟时间 (28ns typ) ? 非常优越的延时匹配(1.5ns typ)
电子科技大学 2021-04-10
针对下一代功率半导体GaN器件的高频栅驱动电路设计技术
该项成果设计出适用于N型常关GaN器件的半桥栅驱动电路,通过分离充放电路径避免栅驱动电压振铃现象的发生和dV/dt现象对栅驱动电路的干扰;同时利用高端栅极钳位技术,在自举充电路径中对BOOT电容进行钳位,防止对上开关管的损坏。
电子科技大学 2021-04-10
稀土掺杂非磁过渡金属对“铁磁/非磁”纳米自旋泵浦器件的磁性调控
成果介绍铁磁(FM)/非磁(NM)结构的双层膜中发现的自旋泵浦(spin pumping)效应是磁学和自旋电子学中的一个突破性发展,因此吸引了众多的研究兴趣。它和铁磁层自旋极化电流相关,同时又和非磁层的自旋轨道耦合有直接联系。本项目采用具有较高的自旋轨道耦合系数的稀土金属调制非磁层,运用铁磁共振和输运两种方法,并结合结构、磁性和同步辐射分析等手段,研究不同稀土掺杂对铁磁/非磁过渡-稀土合金(Py/NM-RE)复合纳米双层膜的结构和界面的影响,得到自旋泵浦强度、界面混合电导以及非磁层的自旋轨道耦合强度和自旋扩散长度的调控规律。从而探索该复合纳米双层膜中的界面自旋泵浦效应和非磁层自旋轨道耦合对自旋动力阻尼的影响机制。这些研究结果将有利于开发新型复合磁性材料和新型强自旋-轨道耦合的非磁材料,有利于集成多功能自旋器件。
东南大学 2021-04-11
清华大学集成电路学院任天令团队在柔性声学器件领域取得重要进展
清华大学集成电路学院任天令教授团队报道了一种基于微结构衬底的MXene声学传感器,用于模仿人耳膜的功能来实现声音的探测与识别。
清华大学 2022-04-01
一种基于单分子器件平台的单分子电学检测新方法和新技术
利用硅基单分子器件研究了分子马达水解的动力学过程,发现了无标记的电学检测方法观察到的分子马达的转动速度要比荧光标记的方法快一个数量级(ACS Nano 2018, 11, 12789)以苯环为骨架、芴基为核心的共轭分子,并在末端修饰上氨基,通过稳定的酰胺键将带有羰基官能团的功能分子连接在石墨烯电极之间,通过使用自主搭建的高速电学测试平台对化学反应进行了实时监测。大的共轭结构以及酰胺共价键的强耦合保证了分子具有良好的导电性;在化学反应进行的过程中,分子结构的变化将导致分子轨道发生改变,从而影响导电通道,影响器件的电导特性。
北京大学 2021-04-11
一种基于单分子器件平台的单分子电学检测新方法和新技术
研制了国际首例稳定可逆的单分子光开关器件( Science ,  2016 ,  352 , 1443;  J. Phys. Chem. Lett. ,  2017 ,  8 , 2849);观察到了低温下联苯基团由于σ单键的旋转产生的精细立体电子效应( Nano Lett. ,  2017 ,  17 , 856);研究了分子间主客体相互作用的动力学过程( Sci. Adv .,  2016 ,  2 , e1601113),揭示了羰基和羟胺反应形成酮肟的分子机制( Sci. Adv. ,  2018 ,  4 , eaar2177),证实了利用单分子电学检测方法研究单分子反应动力学的可行性,为实现单分子化学反应的可视化研究迈出了重要的一步。他们利用硅基单分子器件实现了具有单碱基对分辨率的DNA杂交/脱杂交动力学过程的研究( Angew. Chem. Int. Ed. ,  2016 ,  55 , 9036);在单分子水平上揭示了分子马达水解的动力学过程( ACS Nano , 2018 ,  11 , 12789),展现了单分子器件在单分子生物物理研究方面的可靠性。
北京大学 2021-04-11
曲面光学结构的多电荷耦合器件组 自适应成像仪及方法
南京工程学院 2021-04-13
一种基于深孔填充的三维半导体存储器件及其制备方法
本发明公开了一种基于深孔填充的三维半导体存储器件及其制 备方法。该制备方法适用于制备三维半导体存储器的 U 型沟道:采用 双离子束沉积技术,一束离子轰击靶材,使材料原子发生溢出,原子 沿轨迹沉积到深孔中,一束离子轰击深孔表面,使沉积的材料无法覆 盖深孔顶部,从而确保三维半导体存储器件 U 型沟道的完整形成。U 型沟道的半导体存储器件的电极从器件上方引出,减小了电极的接触 面积,同时U型半导体存储器件的NAND串可以包
华中科技大学 2021-04-14
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