超洁净石墨烯制备的研究
                                        
                                            	石墨烯因	其	优异	的性质而	被	誉为	“	材料之王	”	,	在诸多	领域有着广阔的应用前景,	但	距离	真正实现产业化	还存在诸多	问题和挑战	。制备决定	未来,	高品质	石墨烯薄膜的	可控	制备	一直是学术界和业界关注的	重点	。	化学	气相沉积法(	CVD	)	以	其优良	的	可控性和可放大性被	公认	为最具前景的石墨烯	薄膜	制备方法,	经过	近十年的发展,	虽然	在单晶尺寸上	取得	了诸多突破性进展,	但	CVD	石墨烯的性能	和	理想	水平	仍然有不	小	的差距	,	这一问题已经困扰石墨烯领域很久	。	该研究首次	揭示了	CVD石墨烯	的本征污染问题,提出气相反应调控的方法,分别使用泡沫铜辅助催化和含铜碳源实现了超洁净石墨烯的制备(	Nat	ure	 	Commun	.	 2019	, 	10	, 1912	;	J. Am. Chem. Soc.	 	2019	, 	141	, 7670	)。	对于已存在	本征污染的石墨烯薄膜,他们	巧妙地	使用	二氧化碳	对其进行刻蚀	,而不引入额外缺陷,从而成功	制备出大面积的超洁净石墨烯薄膜,该	方法与普通CVD工艺完全兼容	(	Angew	. Chem. 	2019	,10.1002/ange.201905672	)。	同时	,他们探究	了本征污染物与石墨烯之间的相互作用,发展了基于活性炭的界面力调控方法,成功实现了石墨烯的表面清洁(	Adv. 	Mater. 	2019	, e1902978	)	。
                                        
                                        
                                            北京大学
                                            2021-04-11