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双门保密柜
产品详细介绍产品:保密柜、保密文件柜、高档文件柜、电子保密柜、固银保密柜 产品性能及特点:        门板为1.5mm,柜体为1.2mm,钢板厚度为普通文件柜的2倍        重量为103KG,是普通文件柜重量的2倍,难以搬动        电子密码锁可任意更改密码,并且带报警功能,使用更方便更安全        内部层板的承重力更强,不必担心文件或物品的坍塌;层板可调节        表面经过脱脂、酸洗、磷化多道工序的严格处理,选用优质塑粉喷塑而成        门为乳白色,柜体为深蓝色,搭配稳重优雅        具有较好的保密功能,解决了普通保险箱空间太小,不能存放大量文件的矛盾        半节保密柜可单独摆放使用,更实用,更方便 使用场所:        老板、经理人、主管存放重要的物品资料        企事业单位的财务室、档案室、电脑房存放贵重资料        国家机关单位的档案室、保密处、机房等        其它对文件或物品承重有特殊要求的单位或个人
上海固银实业有限公司 2021-08-23
双组升降板
产品详细介绍
育才控股集团股份有限公司 2021-08-23
双金翻转棋盘
产品详细介绍
甘肃兰州教学设备厂 2021-08-23
一种采用图形喷嘴的有机气相成膜装置及其成膜方法
本发明公开了一种采用图形喷嘴的有机气相成膜装置,包括蒸 发腔、与蒸发腔连通的喷印头及与喷印头相距一定间隙的基板载台, 基板载台受控制相对喷印头分别沿喷印头主轴方向、与喷印头主轴垂 直平面内的水平方向以及平面内与水平方向垂直的第三方向直线移 动。喷印头包括喷印头基体、包覆喷印头基体的加热套、位于喷印头 基体一端的图形喷嘴、与图形喷嘴连通的混合腔以及连通所述蒸发腔 与混合腔的气体入口。图形喷嘴的开口具有一定形状,蒸发腔用于蒸 发固体有机材料得到气相有机材料并通过喷印头的气体入口进入喷印 头的混合腔,接着
华中科技大学 2021-04-14
一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜、其制备方法及用途
本发明公开一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜及其制备方法。该膜由聚合物树脂、磺化聚合物树脂和糖类高分子组成,在优选的原料与比例下对LDL有良好的特异性吸附作用,且具有良好的稳定性和生物相容性,可重复使用,成本低廉,有望投入大规模临床应用。其制备方法包括以下过程:将膜用聚合物树脂、磺化聚合物树脂、糖类高分子、致孔剂按一定比例溶于溶剂,制成均一的纺丝制膜液,将纺丝制膜液过滤、真空脱泡后,通过浸没沉淀相转化法纺丝制备中空纤维成膜,然后将所制得的中空纤维膜依次在去离子水和超纯水充分漂洗。本发明采用的共混溶解制备法具有操作简便安全、原材料廉价易得等优点。
浙江大学 2021-04-11
超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法
简介:本发明提供一种超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法,属于材料表面技术领域。本发明该超硬膜是由电弧离子镀的纳米晶体相Cr2N和磁控溅射镀的非晶体相WC层交替沉积而成,并且,超晶格的调制周期为10~20nm,Cr2N单层和WC单层的厚度分别为8~14nm和2~6nm。本发明的优点在于:Cr2N层与WC层交替分布实现了Cr-N基膜成分多元化和结构多层化,解决了抗氧化性较强的Cr-N基膜获得超高硬度的难题,同时非晶WC层进一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蚀性能,满足不能热处理的
安徽工业大学 2021-04-14
一种纳米氢氧化钴-石墨烯复合膜、其制备方法及应用
本发明公开了一种纳米氢氧化钴-石墨烯复合膜、其制备方法及 应用。所述复合膜,包括纳米石墨烯底层和纳米氢氧化钴表层,所述 纳米石墨烯底层厚度在 4000nm 至 6000nm 之间,所述纳米氢氧化钴表 层厚度在 50nm 至 100nm 之间,所述纳米氢氧化钴表层均匀沉积在所 述纳米石墨烯底层上。其制备方法,包括以下步骤:将氧化石墨烯均 匀分散于水中,涂敷在片状导电基底上,干燥得到纳米氧化石墨烯膜; 组建三电极体系采用
华中科技大学 2021-04-14
一种高效选择性捕获三价铬离子的复合膜及其制备方法
本发明涉及一种高效选择性捕获三价铬离子的复合膜及其制备方法。所述复合膜由聚醚砜(PES)基膜、锌离子与生物分子自组装层以及ZIF‑8金属有机框架层组成。其制备方法包括:通过邻苯三酚与氨基酸协同改性PES基膜表面,形成稳定的负电荷层;利用静电作用将锌离子与生物分子自组装于改性膜表面,并以此为基底原位生长ZIF‑8层。该复合膜通过ZIF‑8的孔隙限域效应及表面官能团配位作用,实现对Cr3+的高效捕获,吸附容量提升,截留率超过99%,且在复杂共存离子体系中表现出优异的选择性吸附性能。
南京工业大学 2021-01-12
高稳定金属膜电阻器用磁控溅射中高阻靶材及制备技术
成果与项目的背景及主要用途: Cr-Si 中高阻膜电阻器具有精度高、噪声低、温度系数小、耐热性和稳定性好等优点,在精密电子设备和混合集成电路中大量采用。对于溅射制备电阻膜来说,靶材是至关重要的,它制约着金属膜电阻器的电阻率、精度、可靠性、电阻温度系数(Temperature Coefficient of Resistance, TCR)等性能。电阻温度系数(TCR)是金属膜电阻器的一个重要性能技术指标之一,较大的 TCR 在温度变化时会造成电阻值漂移,从而影响电阻器的精度和稳定性。目前国内外生产的金属膜电阻器用高阻靶材,其性能不能满足低 TCR(≤25ppm/℃)要求。 技术原理与工艺流程简介: 靶材炼制工艺如下图所示所制备的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在溅射成电阻器薄膜后, 电阻温度系数小(≤25 ×10-6 / ℃), 电阻值高(要求不刻槽数量级为千欧, 刻槽后数量级为兆欧)且稳定(随时间变化小), 因此, 在本靶材研究中, 将选择 Cr 、Si 作为高阻靶材的主体材料。由于 C r 、Si 熔点高, 原子移动性低, 因此由其所组成的薄膜稳定性高。通过在金属 C r 中引入半导体材料 Si 来提高电阻器合金膜的阻值。C r 是很好的吸收气体的金属元素, 在电阻器薄膜溅射过程中, 可通过通入微量的氧来提高薄膜的电阻率, 同时调节电阻温度系数。技术指标如下:温度冲击实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 过载实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 寿命实验后ΔR/R ≤±1 .0 %,电阻温度系数 TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。 应用领域: 集成电路、电子元器件 合作方式及条件:具体面议
天津大学 2021-04-11
【长春日报】搭建深度对接桥梁 “人才双选”激活就业动能
逐梦热土,一场人才与企业双向奔赴的盛会奏响了东北振兴发展强音!第63届高等教育博览会人才专区的东北地区2025届高校毕业生人才双选会,吸引了东北三省一区的数百家企事业单位及1.2万余名毕业生等青年人才积极参与,累计提供优质岗位1.3万余个,实现人才与企业深度对接的良性互动,将为东北振兴注入澎湃动能。
长春日报 2025-05-24
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