云之翼超融合一体机是自主研发的新一代超融合解决方案。基于云之翼自研的服务器虚拟化和存储虚拟化技术，将计算、存储和网络集成于X86服务器之中，并通过云管理平台实现IT资源的可视化管理，为客户提供硬件与软件，产品与服务一体的云数据中心。  云之翼超融合一体机实现了资源模块化的横向弹性伸缩，形成统一的计算与存储资源池，不仅可以减少数据中心服务器数量，整合IT资源，达到提高资源利用率和降低整体拥有成本的目的；而且可以利用软件定义数据中心技术，建立一个安全的、资源可按需调配的数据中心环境，为业务部门提供成本更低、服务水平更高的IT基础架构，从而能够针对业务部门的需求做出快速的响应。 一、产品优势 降低成本 1、空间、电力和运维成本都大幅降低，可有效节省40%-60%的综合成本；2、支持存储旧产品，可对现有的物理存储进行集中管理，进行利旧建设； 数据更安全 1、数据多副本存储，无需任何额外成本，即可实现数据双活；2、数据可靠系数高达99.99% ；3、数据可用性更高，最大支持10副本； 多平台支持 1、支持Citrix、VMware、Hyper-V、KVM等多种虚拟平台，实现不同的超融合组合方式；2、支持与Amazon S3等第三方平台对接，实现混合云存储模式； 降低门槛  1、软硬件一体化整合，开箱即用；2、仅需x86服务器，无需购买独立存储, 简化网络拓扑； 性能更卓越  1、I/O路径全优化，多种数据本地化优化；2、对服务器及存储虚拟化进行深度优化，存储性能提升30%〜50%； 按需建设 1、根据当前需求最小化建设，支持横向扩展，避免硬件过度投资；2、支持动态添加、积木式建设、线性高效扩容，适应不同时期业务，按需扩展； 二、应用场景 软件定义数据中心 借助超融合架构，以软件定义的IT架构实现统一融合的数据中心全虚拟化资源池建设。 开发与测试平台 借助超融合架构，智能调度计算、存储和网络资源，实现开发测试环境的快速搭建。 分支机构 借助超融合架构，为分支机构提供一站式业务应用交付，实现总部对分支机构资源的统一管理。 桌面云建设 通过超融合构建桌面云，不仅可以提供桌面云所需的性能、可用性、可扩展性，同时还可以降低架构的复杂性、管理难度，以及建设成本。 关键业务应用 关键应用对业务连续性和性能都要求非常高，将关键应用部署在超融合上，可以提高系统的性能、可扩展性、可管理性，同时降低成本。 应用新建及扩容 借助超融合架构，实现计算、存储、网络资源池化，提供应用快速上线和资源按需扩展的能力。

一、产品概述 壁挂式设计，采用工业级别嵌入式高性能视音频处理芯片开发，17.3英寸高清多点触控屏，内置硬盘，可实现录制、直播、互动功能。 二、产品特点 POE供电：支持多路POE摄像机接入，集供电、控制、视频传输于一体 触摸操控：采用17.3英寸触控液晶屏设计，采用全触摸控制、视控管理 资源共享：可外接USB存储设备，可以直接从便携式录播一体机复制课件视频、支持远程WEB下载操作 安全防护：嵌入式系统和功能软件无法被任何人或程序访问、修改、删除或添加任何其它的程序，避免任何误操作造成的系统破坏，也不存在任何网络病毒感染风险 三、产品形态

本发明公开了一种电场辅助的硅通孔刻蚀工艺，包括步骤：（1）在单晶硅片上旋涂光刻胶并通过光学光刻或电子束光刻得到光刻胶图形 ；（ 2 ） 镀 上 银 膜 或 金 膜 ；（ 3 ） 在 电 场 之 中 ， 采 用 HF 、H₂O₂和去离子水的混合溶液作为刻蚀剂进行金属催化刻蚀；（4）去除光刻胶；（5）去除单晶硅片上残留的金属膜并进行清洗处理。本发明通过在刻蚀过程中控制电场强度，由此形成从数十纳米至数

本发明属于光电器件制备技术领域，具体为一种铌酸锂材料的刻蚀方法。本发明方法包括：在铌酸锂表面制备金属钝化层，用来提高纳米图形的保形性以及侧壁刻蚀倾斜角；沉积硬掩膜，并采用微电子光刻技术进行图形化处理；在待刻蚀的铌酸锂区域沉积活性金属薄膜，以提高刻蚀深度；将覆盖有活性金属层的铌酸锂晶体在还原气氛中进行退火；然后采用相应的酸溶液和碱溶液去掉铌酸锂表面的金属及其与铌酸锂的反应物，得到具有一定刻蚀深度的铌酸锂纳米图形。所制备的大规模铌酸锂纳米器件阵列尺寸可控，保形性和重复性好，侧壁倾斜角大于80°，图形凸块表面光滑。铌酸锂纳米器件制备步骤简单，难度低，可降低大规模生产成本。

产品详细介绍 产品简介RD-15D反渗透去离子纯水机配置有在线电阻率仪，出水水质一目了然。出水水质：13-16MΩ-cm 25℃，0.077-0.063 µs/cm，脱盐率：近100%，1个反渗透水出水口＋1个去离子水出水口，出水量：15升/小时 RD-15D反渗透去离子纯水机详细介绍 RD-15D反渗透去离子纯水机融合各种尖端水处理技术和过程控制方法于一体，将自来水直接转化为超纯水，出水水质完全符合ASTM、NCCLS I级、GB6682-92 I级和GB/T11446-1997 I级等规定的用水要求。广泛适用于化学、生物、制药、医学、微电子、半导体等领域，满足光谱分析、色谱分析、细胞培养、蛋白纯化、分子生物学等的应用要求。精选全球优质组件：● RO膜：美国DOW陶氏、美国FCS● 泵、机箱：美国Kflow● 预处理组件：美国Kflow● 自动控制组件和安全保护装置：美国Kflow、美国Sciencetool融入世界尖端科技：● RO膜采用美国太空总署NASA研发的反渗透技术，脱盐率>99%，除菌率>99.5%● 二级混床保证出水水质，延长超纯柱寿命；特有内循环功能，时刻保证顶级水质● RO膜自动防垢冲洗，24小时全自动运行● 长效预过滤器，2年不用更换，降低使用成本，延长后续过滤组件寿命

PECVD（plasma enhanced chemical vapor deposition）—等离子体化学气相沉积，在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子，提供化学气相沉积过程所需的激活能，相对于其它CVD方法具有显著降低CVD薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。 技术特点: 1）自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号；2）可实现100~105 Pa不同气压以及不同气体环境，且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。 3）专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构，可长时间、稳定地生成PECVD用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构，可以对生成的等离子体和PECVD过程进行多种形式的监测。 4）该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计，符合产品要求。

成果简介：面向工业废气 VOCs 治理的低温等离子体产生 装置是工业废气 VOCs 治理的关键装置，该装置能够产生破坏 VOCs 的高能电子、原子氧等活性粒子，对通过低温等离子体 产生装置中的工业废气 VOCs 进行有效分解，特别适合大流量 的工业废气 VOCs 的治理要求。面向工业废气 VOCs 治理的低 温等离子体产生装置包括低温等离子体发生器和高频高压电 源，其中的低温等离子体

项目简介    渗氮渗碳强是广泛需要的技术，等离子渗氮渗碳强化零部件表面，环保、高效等， 但渗层不均、打弧等。本项目发明了一种交互式双阴极等离子表面热处理装备，强化电场强度，  

项目简 介： 聚 变能源与化石能源相比对空气无任何污染，与 裂变能源比较不会产生较强的放射性污染。托克马克磁约聚变装置是使用磁场将高温等离子体约束在磁场空间内，实现热

大多数等离子体辉光放电需要使用惰性气体或者惰性气体和氧气的混合气体，或者需要外加气流来得到稳定的放电效果。传统上，如果用空气作为工作气体，放电形式为电弧，其温度很高。我们课题组近期发明一种便携式大气压空气等离子体发生器，是一种结构简单成本较低的便携式的大气压空气等离子体发生器，由于正电极内嵌于阻燃性绝缘介质容器，其不仅安全而且可以避免发生弧光放电。此便携式大气压空气等离子体发生器电离激发时，产生的冷等离子体辉光，人体可以触摸，可以处理任何材料（人体、金属、塑料等）。且此空气冷等离子体辉光均匀，富含多种活性成份，对杀菌、消毒及材料改性有显著作用，基于此开发的产品有很好的市场及经济价值。已申请专利：ZL201310002111.1（发明）和 ZL201320076075.9（实用新型）.