同步热分析将热重分析 TG 与差热分析 DTA 或差示扫描量热 DSC 结合为一体，在同一次测量中利用同一样品可同步得到热重与差热信息。

产品详细介绍JB4020型X-γ辐射个人报警仪JB4020辐射检测仪JB4020型X-γ辐射个人报警仪是智能型的仪器，主要用来监测各种放射性工作场所的X、γ以及硬β射线的辐射，保护从事、接触放射工作人员的安全。它采用功能较强的新型单片机技术，探测器采用经补偿的GM计数管，故该仪器具有较宽的测量范围、较好的能量响应特性。仪器特点 仪器灵敏度高，对环境本底亦可测量累积剂量和剂量率同时测量采用单片机技术，功能多，体积小仪器操作简单，使用方便电池欠压与超剂量率报警仪器可预置剂量率报警阈值可设置为声光/震动报警方式主要技术指标 测量范围：剂量率：0.01 μSv/h ～200.00 μSv/h累积剂量：0.00 μSv ～999.99 μSv能量范围：50Kev～1.2Mev能量响应：相对于137Cs 误差≤±30%相对基本误差：≤±20%测量时间：36秒防护报警响应时间：≤5秒显示方式： 液晶显示，剂量率μSv/h和累积剂量μSv—国际标准单位供电电池失效报警功耗：整机耗电≤7mW

产品详细介绍轻便小巧，便于携带，使用方便，操作简单 全中文界面标准软件，使用简单操作方便（可按客户需求定制） 2*2in Nai探测器（可按需求配置不同尺寸的各种探测器） 高性能精确度高，有1024道，2048道，4096道（可定制） 可自行设定报警阀值 准确的核素识别功能 标准核素库，用户可自由添加，删改，选用核素 大容量锂离子电池，充满电可以连续工作20小时 PDA掌上电脑，蓝牙数据通讯。PDA数据可传至电脑进一步分析处理。 手持式便携数字化能谱仪的主要特征： l      外接智能NaI(TI)探测器，内置GM管 l        NaI(TI) 探测器与主机用螺旋电缆连接，探测器伸到测量部位，可就近方便观察测量结果 l        三种工作方式：     a.剂量率测量 一 任何工作方式都兼顾剂量率测量 b.寻找放射源 c.实时核素识别 一 可存无数个核素库文件 l        可指示不同核素的剂量率贡献，可分别设置不同核素的报警阀值 l        核素识别采用了Genie2000软件完备成熟的分析处理核素识别技术。即便存在多种核素（4种以上），或者源放置在存储蓄（屏蔽影响）中，也能正确识别各种核素。同时指示是否存在核素库内没有编辑的未识别核素。 l        可识别核素种类（128种！），可同时识别核素多（同时识别数十种核素！） 高品质、可触摸操作彩色显示屏 一 国内市场独此一款！ l        可选规格NaI(TI) 探测器规格：1.5″×1.5″，2″×2″，3″×3″ l        可配置中子探测器（慢化3H管） l        与计算机采用USB通讯，谱数据、核素库、刻度参数和分析步骤下载和上传 l        大容量：可存储512个1024道的谱 l        更多道数：4096道MCA l        独特的专利稳谱技术一 内置高稳定发光LED，随时实现稳谱。＜±2％＠–20℃～＋50℃ l        可通过USB实现固件升级 l        时间预置：1～106S，（实时间／活时间） l        自动谱采集分析处理   2主要技术指标： l        计量（率）范围：10nSv∕h～100mSv∕h，10nSv-10Sv l        能量范围：50KeV～3MeV-NaI(TI)，30KeV～1.4MeV-GM l        计数通过率：＞50KCPS l        输入计数率：＞500KCPS 售后服务 硬件免费保修三年； 软件终身免费升级 可根据用户需求定制软件、硬件功能  

仪器概述 仿真辐射实验仪，是按物理原理和真实测量数据，利用纯电子信号传输通讯技术，高度仿真地呈现核辐射现象的效果。此设备让学生无需使用真实放射源，就能做到跟真实一样的核辐射实验。   仪器特点 不须用真实的放射源，就能进行传统的核辐射实验，得出所有核辐射现象的结果。不会受到任何核辐射的伤害和心理威胁。不需顾虑使用放射源带来的安全责任，省去处理放射源的行政和技术程序。本机适用于大中小学各阶段教授核辐射物理现象的需要，也能对修读核技术及放射医疗相关专业的学生作模拟训练之用，以减少学员在训练过程中受到的辐射剂量。仿真探测器有声响效果，模仿盖革弥勒计数器的功能。模拟本底辐射量可按使用当地实际情况而改动。仿放射源的核辐射特性可按需要定制。设备有透明大前门，方便观测。可采用手动方式，SD记忆卡等方法采集数据。   实验内容与典型实验数据 1.本底辐射 模拟检测本底辐射。如在香港地区，本底辐射是1- 2次每秒。   2. 平方反比定律 辐射强度随放射源与探测器之间的距离的平方值呈线性衰减。用实测数据，在适当的图表分析中，演示了核辐射的平方反比特性。   3. 同位素半衰期 放射源的放射强度随时间呈指数衰减。实测数据在适当的图表分析中，得出放射源的半衰期为182.4 s。 4. 辐射强度在物质中的指数吸收 辐射强度随在物质中传播的距离呈指数衰减，实测数据在适当的图表分析中，得出线性吸收系数 m= 8.4 cm-1。 5. 核辐射的随机性 实测数据在图表演示了计数率随机起伏所得出的统计分布。 6. 分辨核辐射种类α ，β及γ 配有未标定的仿放射源，学生可按使用不同吸收片材料及其厚度后所得的计数率，和测出的行程等数据，尝试分辨出仿放射源是放出 α、β粒子或γ射线。   部件列表 描述 数量 仿真辐射实验仪主机 1 仿辐射源样品，包含仿短半衰期γ-源, 仿长半衰期β-源, 仿长半衰期 γ-源, 未标定仿辐射源 3种 1套 吸收片样品, 包含铝吸收片0.08cm, 铝吸收片0.15cm, 铝吸收片0.25cm, 铝吸收片0.5cm 1套 镊子 1 电源线 1 使用手册 1 光盘（含使用手册及Excel 数据记录模板） 1

适用环保/5G基站/广电/通信/航空/船舶/铁路等相关行业电磁辐射环境监测分析。EM860N主机基于高性能频谱信号分析平台，在软件功能和应用上，充分考虑到不同的用户场景，EM860设置有两种工作模式：即有适于工程师专业测试的《专业分析模式》，又有特别适宜基站测试现场的一键式《工程监测模式》操作软件，作业简单，便捷，高效率! 主机9kHz~9GHz频谱测试接收机； 频谱扫速可以达到16GHz/s，可对信号进行100%捕获； 支持3G UMTS、4G LTE、5G NR等多种移动通信系统解调分析功能； 支持多种场强天线，适用于中短波、电视、无线通信、环境监测等多个应用场景； 配合PC机可实现工单系统下的一键测试、自动导出测试报告； 实时的“记录或屏幕录制和回放功能”，是有力的研发、交流、学习、培训工具; 可直接高清电视投屏，便于培训、研讨会; 支持手机APP控制操作; 同时具备温湿度测试、蓝牙/WIFI通信、光纤通信、电子罗盘、GPS定位、多点触摸屏、 USB通信等多种功能集成的一体化设计; 符合国标《BG8702-2014》，环保部《HJ1151- 2020》规定要 求，以及其他环境法规文件。

已有样品/n该项目提供了一种新型低辐射薄膜，分别采用金属薄银层来抑制长波长红外波和短波长紫外波的透射，采用周期性结构来增强可见光波段的透射；对可见光的透射率达到70~96%，对紫外波段的透射率降低到15%、对780nm~1200nm 红外波段的透射率降低到10%以下、对1200nm~3000nm 红外波段的透射率降低到25%以下，层数显著降低，很大程度上缩减了成本，简化了工艺流程。该项目提供的薄膜具有防紫外线、透明和

低辐射玻璃就是在玻璃表面形成一层低辐射薄膜。这层薄膜对可见光有较高的透过率，一般超过50%，而对室温下黑体辐射峰值波长10 ?m附近的远红外线有很低的辐射系数，或称发射系数、发射率等。这样就可以保证室内热量不会通过辐射传递的室外，也可在夏季阻止室外高温通过辐射传递到室内。配合以中空、真空玻璃和隔热窗框，可以达到节能效果。      几乎所有的透明导电膜都是低辐射膜，如常用的ITO（氧化铟锡）、AZO（掺铝氧化锌）、SnO2等。在可见光波段，光吸收非常小的Ag膜也可以构成低辐射膜，但需要在前后表面增加介质膜，抵消光反射。      按工艺技术，低辐射玻璃又分为离线镀膜和在线镀膜两类。在线镀膜指的是在浮法玻璃生产线的末端，增加一个CVD室，利用玻璃的高温使得气体分解形成一层氧化锡透明导电薄膜。氧化锡的辐射系数大约为0.2左右，远低于普通白玻璃的0.87。在线镀膜低辐射玻璃由于辐射系数高、透过率低、反射和透过光颜色调整范围小等因素，只能用在要求低的场合。其优点是抗氧化能力超强，而且耐磨性能好，可单层应用，国内在线镀膜低辐射玻璃生产线有数十条。离线镀膜低辐射玻璃指的是采用磁控溅射方法，在玻璃表面形成一层低辐射金属膜和相应的保护介质膜。这种低辐射玻璃的辐射系数低，可见光透过率高，颜色可以随意调整，因此得到广泛应用。离线镀膜低辐射玻璃的基本结构        常温下，黑体辐射的中心波长约10?m。在这个波长下，绝大部分金属的辐射系数都是非常低的，如Ag/Cu/Au/Al/Mo/W/Ta/Nb/Zr/Ni/Fe，都可以用到太阳能集热管中的低辐射层。能用于玻璃中的却只有Ag，因为只有Ag有很小的可见光吸收率。降低辐射系数的简单方法是增加银层厚度，但简单的增大银层厚度会导致可见光反射率大幅度增加。离线双银低辐射玻璃的结构      中间介质层较厚，两侧较薄，这就构成了双银低辐射玻璃。再增加一层银，还可以构成三银低辐射玻璃。由于银的折射率实部不是零，银层是有吸收的，银层双银和三银低辐射玻璃的辐射系数虽低，但光的透过率却大幅度降低。离线单银软膜结构      最早的低辐射玻璃结构，以氧化锌为介质层，其最大特点是，沉积速率快。因为折射率较低，可见光透过谱窄，一般采用双银结构来扩大谱宽。抗氧化能力低，须要24小时内封成中空结构。离线单银硬膜结构      第二代低辐射玻璃，特点是，采用等离子喷涂导电低价氧化物靶，靶材成本高。折射率高，可见光透过谱宽，单银就可以满足要求。采用双银或三银结构的效果更好，但透过率低得多，不适合民居。抗氧化能力较低低，也须要24小时内封成中空结构，基本不能钢化。      为了防止在上层氧化钛沉积中银层氧化，需增加一层约3nm的金属层，可用Cr或Ni等。该金属层使得辐射系数和透光率指标大幅度降低。可异地加工和钢化的硬膜结构      较晚出现的结构，采用SiAl靶反应溅射沉积，沉积速率与低价氧化钛靶相近。因为是非晶结构，抗氧化能力强，可以异地封接和钢化处理，也可非中空应用。高硅硅铝靶需要等离子体喷涂制备，成本高。透光谱性能和损耗相互矛盾，总体光学性能比氧化钛结构差。铝和硅都不能与氮气直接反应，氮气被电子碰撞后形成原子氮，可与铝或硅反应，这就要求气氛中氮含量很高，结果氮气电离比例较高，使得靶表面氮化，导致溅射速率大幅度降低，需要增加靶数，导致设备成本提高，电源功率提高。可异地加工和钢化的另一种结构      特点：最外面增加一层抗氧化的SiAlO，10纳米就足够了。金属靶反应溅射      采用纯金属靶进行反应磁控溅射是降低成本的最有效方法。在已知的常用金属中，锌族、钒族中的钽、钛族中的铪、铬族、锰族、铁族进行磁控反应溅射时，具有可以接受的速度，但其中只有氧化钽和氧化锌具有较好的耐压和介电特性。氧化钽的溅射产额可达到0.2，是可以接受免得。而具有很好绝缘和介电特性的氧化硅、氧化铝、氧化镁，氧化锆以及具有最大介电常数和折射率的氧化钛都难以用磁控反应溅射沉积。氮化硅产额可以达到0.12，尚可接受，但氧化硅只有0.03，约为硅的二十分之一。氧化钛和氧化铝都小于0.015，不到金属铝的百分之一，氧化镁更是小于0.005，不到镁的千分之一。各种材料的溅射产额 材料产额Ti0.6  (600V)TiO20.01 (300V)AI1.25 (600V)Al2O30.01 (300V)Si0.5  (600V)SiO20.03 (300V)Si3N40.12 (300V)      溅射沉积时，单质靶电压较高，而氧化物和氮化物靶电压较低，电压基本按实际情况列出。溅射过程      靶材为低价氧化钛，因此溅射气氛中需要的氧气含量低得多，靶表面溅射面积远小于衬底面积，因此一般不继续氧化，被溅射粒子以原子或分子形式飞向衬底，氧气分子可以向靶和衬底入射，将到达衬底的粒子充分氧化。       硅铝靶溅射中，正氮离子飞向靶面，将靶面氮化。被溅射粒子大部分以分子或原子形式飞向衬底。被溅射出的硅原子不能在空中与氮结合，大部分到达衬底后再与氮原子结合。由于硅和铝不能与氮分子反应，因此靶面必须完全氮化才能得到纯氮化物薄膜，导致溅射速率变慢。硅铝靶的另一个问题是高硅硅铝靶需要等离子喷涂方法制备，靶材成本远高于金属靶。拉制成型的合金靶材中，硅含量难以超过60%。高铝组分的硅铝靶溅射非常慢，而且折射率低，不能用于低辐射玻璃的制备。解决低硅含量硅铝靶的溅射沉积问题是一个大的挑战。         靶材为纯钛，被溅射粒子大部分已原子形式飞向衬底，氧气分子可以向靶和衬底入射，分别将靶面和到达衬底的粒子氧化。金属表面形成的氧化钛极难溅射，导致沉积速率极慢。低辐射玻璃面临的难题       到目前为止，低辐射玻璃，尤其是高档低辐射玻璃主要用于宾馆、写字楼、医院中。这类建筑中，单窗面积较大，窗框所占面积比例小，低辐射玻璃效果明显。此类建筑所需的玻璃呈现逐年缩减的趋势。扩大民居领域的应用，才是正路。民居的特点是单窗面积小，一般不会超过1平米，一般0.5平米。这种窗中，低辐射玻璃的节能效果并不明显，只有大幅度降低价格，才能与效果匹配。世界性难题       大面积衬底上，氧化镁、氧化铝、氧化钛等材料的金属靶反应磁控溅射被认为是一个解决不了的世界性难题，早已经没人尝试解决，转而寻求一些替代方法，如前面所述。       第一个解决该问题的人是我们，可追朔的上世纪80年代，但结果一直没有发表。首先发表此类结果的是皇明公司，他们解决了在高温集热管表面沉积氧化铝减反层问题，而且速度非常高。解决此问题的是一个刚出校门不久的女孩儿，初生牛犊不怕虎，硬试出来的。最初是尝试用铝靶反应溅射沉积氮化铝，从原理上讲，这是不可能的。氮化铝不行，就用氧化铝试试，结果就成功了。虽然减反射效果不如氮化铝，但可以用。集热管太阳能吸收膜沉积中，靶基距非常大，这是其成功的基本条件。由于不懂得其中的道理，仅限于在太阳能集热管这一特殊条件下应用，而不能推广到其它领域。圆柱形金属靶反应溅射的优势       如果能实现钛、锆、铝、硅等薄膜的金属圆柱靶反应磁控溅射，对薄膜产业的影响是革命性的，带来的好处包括：      （1）圆柱靶适合大面积衬底上薄膜沉积，适用于大规模生产。      （2）采用金属靶的成本远低于导电介质靶，构成降低成本的次要因素。      （3）可实现高速溅射沉积，设备规模减小，大幅度降低设备成本，是降低成本的首要因素。      （4）大幅度降低用电量，构成降低成本的次要因素。

底座尺寸400*300*70mm,模具一体成型，两端呈弧形，上翘47度，两面四角注塑有1.5mm脚垫，长度25*25mm，仪器整体高度197mm，光源采用220V60W白炽灯，电源线耐压600V，0.75芯，电流3.6A，白炽灯开关型号KCD1-105 耐压400V，两边感温装置采用黑白亚克力制成，尺寸：80*28*90mm，温度计电源采用纽扣电池供电，电池可以更换，电池型号AG-13，带2寸液晶显示屏，内部装有高灵敏温度探头，可以将实时温度传给处理器，直接显示在液晶屏幕上，探头型号PT-100，观察黑白吸热后的温度差，探究黑色与白色的吸热现象有什么不同。

以实时课程共享为核心的互动教学 解决师资短缺促进区域优质师资共享 兼顾课前课后，帮助学校开展高质量高水平远程教育、实现优质资源沉淀共享 推动教育均衡发展。