本发明属于微纳制造与光电子器件领域，并公开了一种双波段 薄膜光探测器，包括基底薄片、第一电极层、第一 WSe2 层、石墨烯 层、第一 MoS2 层、第二电极层、介质层、第二 WSe2 层、第三电极 层、第二 MoS2 层和第四电极层,第一电极层设置在基底薄片上;第一 WSe2 层铺设在基底薄片和第一电极层上;石墨烯层设置在第一 WSe2 层上;

本发明提供了一种多相位时钟产生器，该多相位时钟产生器通过对输入时钟信号进行处理，输出与N个对应于不同相位的注入电流信号，N为4的整数倍，并在交叉耦合环形振荡器中设置交叉耦合环路，该环路基于相位顺序分别与N/4个二级环形振荡器中各输出节点相耦接，二级环形振荡器通过交叉耦合机制，实现了高工作频率、高稳定性的振荡频率输出和低误差的相位对齐，使得其能够输出N个等间隔相位的振荡时钟信号，由于二级环形振荡器中的各输出节点还基于相位顺序被输入注入电流信号，对二级环形振荡器完成了频率和相位的锁定，该频率与输入时钟信号的频率相同，且相位噪声非常低，从而，本发明可以生成低相位噪声、高相位精度的高速多相位时钟信号。

本实用新型公开了一种用于荧光检测器的成像辅助调节焦距和位置系统，包括校准平台、聚焦于荧光收集物镜、激发光源、透镜、二向色镜、长通滤光片、光电检测器、摄像装置和电脑，摄像装置通过铁架和光电检测器固装在一起，使该摄像装置成像的中心位置和光电检测器前方的小孔重合，所述长通滤光片位于光电检测器上方，在长通滤光片上方设置二向色镜，其上方设置聚焦与荧光收集物镜，在聚焦与荧光收集物上方设置校准平台，校准平台上设置辅助光源，所述辅助光源的光线通过聚焦与荧光收集物镜、二向色镜、长通滤光片，将微通道的像投射在光电检测器前的小孔所处的平面上。 成果亮点 技术特点：操作简单，不受所用微流控芯片形状的限制。

本发明涉及一种可变截面活塞结构的磁流变阻尼器，包括内部填充有磁流变液的外壳、设置于外壳内的活塞、与活塞连接的活塞杆和套在外壳外的永磁体；外壳一端设有通孔，所述活塞杆一端穿过通孔伸入外壳内与活塞连接，活塞杆带动活塞在外壳内做直线运动；活塞包括中空壳体和设置于中空外壳内的伸缩杆，所述中空壳体包括若干依次滑动连接的伸缩节段，伸缩杆伸缩控制若干伸缩节段相对滑动，调节活塞的截面尺寸，从而调节输出的阻尼力，该阻尼器只需更改阻尼器的内部结构就可达到调节输出范围的效果，不需要对整体尺寸进行修改重构。

本发明公开了一种基于位移的分级消能节点阻尼器，该节点阻尼器包括柱连接基座、梁连接基座、剪切板、耗能棒、限位构件和摩擦片，剪切板的下部两侧分别布置有摩擦片、限位构件和梁连接基座以构成一阶阻尼器，限位构件嵌置在梁连接基座上且限位构件的限位环套置摩擦片后插入剪切板的剪切板摩擦定位孔内；剪切板的上部两侧分别布置有柱连接基座且三者之间采用至少一根耗能棒相连接以构成二阶阻尼器。本发明的节点阻尼器通过设置临界位移以应对不同水准的地震作用，在小位移下启动一阶阻尼器以抵抗多遇和设防地震作用，超过临界位移后并联启动二阶阻尼器，以抵抗罕遇甚至极罕遇地震作用；与节点处的梁柱通过锚栓连接，安装简单且占用空间小。

本发明涉及直流配电网技术领域，具体涉及智能型直流断路器电弧能量抑制系统及其方法，包括高频信号注入模块，产生并注入高频载波信号至电弧通路；电弧特征识别模块采集电弧电压电流信号，利用VMD‑HHT算法识别电弧类型并生成特征信息；磁通扰动观测模块检测电流磁通量，计算磁通扰动值及相位差；深度学习控制模块接收电弧特征信息和相位差，通过深度强化学习算法生成IGBT控制时序信号；多端口换流控制模块接收该信号，控制多级IGBT并联子模块的开关频率，基于PWM控制方法高效抑制电弧能量。双启发式算法控制模块结合遗传算法和粒子群算法，自适应分配各端口驱动电流，实现IGBT模块并联均衡。

本发明涉及一种透平机械密封进口旋流发生器，同轴的静子和转子之间形成逆旋腔，导流栅设置在逆旋腔内；逆旋腔沿工质流动方向依次分为渐扩段和渐缩段；逆旋腔的上游设置有齿尖诱导槽；齿尖诱导槽用于将泄漏流以特定径向偏转角进入逆旋腔，并与逆旋腔的渐扩段扩大延伸方向相匹配，该装置通过“压力能→轴向动能→逆旋动能”三级能量转换，突破了传统阻旋栅单一被动阻挡策略的局限性，提升周向流动的调控效果，强化密封流体激振抑制性能。

产品详细介绍HZ-6水热反应釜-均相搅拌反应器   1.用途   HZ-6均相搅拌反应器可用于相同组分的介质在不同条件下的反应情况进行测试或用于不同组分的介质在相同条件下的反应情况进行测试。本产品采用电热鼓风干燥箱作加热恒温装置，通过电机减速机带动箱体内的搅拌轴及安装在搅拌轴上的微型反应器转动 , 达到搅拌反应的目的。    2.特点   HZ-6均相搅拌反应器一般由箱体、旋转系统、加热系统、控制系统四部分组成。箱体大都由不锈钢制作而成，旋转系统由电机和旋转支架组成。控制系统主要控制箱体内的温度和转速。均相反应器多用于多个水热合成反应釜进行相同组分的介质在不同环境下反应情况的测试或用于不同组分的介质在相同条件下的反应情况实验。由于支架的旋转使得水热反应釜中的介质得到充分的搅拌，因而反应速度快，反应充分彻底，比单纯的恒温效果更好。箱体内搅拌杆上设有固定位置（根据反应釜的大小设定），可以同时固定微型反应釜6套、8套、10套、12套，另可根据用户需求设计定做。   HZ-6均相搅拌反应器温度恒温数显表显示，用户可根据反应实验所需温度自行设定。搅拌系统装有变速装置，转速0-200转可任意调整。操作简单，使用方便。是各大专院校、医药化工，科研单位等实验室做水热反应实验的理想设备。   3.指标　    1.  电压：220V/50Hz     2.使用温度： ≤300℃    3.搅拌转速： 0-200转/分  水热合成反应釜-旋转式搅拌温控箱使用说明书一、  旋转式搅拌温控箱根据不同的用户所需而定制，箱体内可承载200毫升反应釜6台；100毫升反应釜10台；50毫升反应釜12台，  25  毫      升反应釜12台旋转搅拌。二、 可为用户设计制造不同规格旋转式搅拌温控箱，不同规格温控箱最高温度可达300℃。三、 旋转式搅拌温控箱和温控箱使用前请详细阅读说明书，和温控指示调节仪使用说明书。四、 本产品说明书附加温度指示调节仪使用说明书，总接线图一页。五、 使用说明：1、外形尺寸950*640*550，箱内尺寸400*400*300，净重80㎏，本产品采用电压220V，加热功率2000W，马大功率180W，                           并装有散热风机2 台各15w。该机总功率2210W，加热器加热在200℃度时，需要时间约20分钟。2、马达传动有效转数20~135转，如装载200毫升反应釜6台转数一般选定80转~100转。3、将装满溶液的反应釜准备装在箱内固定架时，首先关闭电源，在将反应釜装在箱内每个反应釜的固定位置，将压板螺丝拧紧即可。然后将箱门关闭，送电开启电源开关，将开关开启在自动位置，这时加热器开始加热，同时将马达开启旋转。4、如果需要温度在220度时，可将温度控制仪按钮调至215度，当温度升到215度时，自动停止升温线路断开，这时温度会升高至220度，延时5分钟后温度自然下降到213度这时会自动在升温。5、当准备取出反应釜时，首先将电源断开、压板螺母松开即可取出反应釜，每取出一个反应釜时 请将压板合上并将螺母拧紧牢固，防止误操作时马达转动压板碰到箱壁发生故障。6、每次用完后，首先关闭电源，将箱门处于开门状态，待箱体内温度与室外温度相同时将箱门关闭。六、其它：1、温控箱应置于干燥通风和无腐蚀场所。          2、由于制造中的质量问题造成的故障，在出厂12个月内免费维修或更换。此范围外收取费用。          3、加热管保质期为6个月。HZ-6水热反应釜-均相搅拌反应器  

产品详细介绍

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