使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测，选用了高分辨率低照度进口制冷CCD，并完美结合大光圈电动镜头，可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD，较大程度的消除了背景噪声，超大光圈镜头，收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮，满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围： 核酸检测：各种荧光染料，如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测：考马斯亮蓝胶，银染胶，以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统； 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析；； JP-K600化学发光成像系统产品特色： 采用最新一代冷却CCD相机，605万像素（可选配890万像素）； 配备F/0.95大光圈定焦镜头，（可选配F/0.8镜头）具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源，具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台，可兼容拍摄各种厚度的样品，自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台，并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间（0-60分钟）   JP-K600化学发光成像系统技术参数： CCD芯片 Sony ICX695，4/3英寸，2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶（0-65535） 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1，2×2，3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度，相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 ＜0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台，面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜

对于非圆截面的回转体的高速车削加工，必须开发高频响的伺服刀架，并由计算机控制刀架在径向做高频运行。本项目开发了高频响的电液伺服刀架，其频响高达130赫兹，可以满足近4000转/分切削转速的要求，行程可达±4mm，由计算机完成的先进控制策略可以保证加工的高精度。对于磨削加工，仅需将车削更换为气动磨头，车床更换为磨床。

本发明公开了一种应用到光谱椭偏仪中的氙灯光线光强平滑处 理装置及方法。该光强平滑处理装置包括准直透镜、汇聚透镜和光阑， 准直透镜为消色差透镜，用于将待处理的氙灯光线准直为平行光束； 汇聚透镜为单透镜，用于将平行光束汇聚聚焦，汇聚后的光斑大小随 波长的增加而增大；光阑设置在汇聚透镜后并间隔一定波长焦距位置 处，通过设定该光阑的大小使紫外波段的光斑可透过该光阑而可见到 近红外波段的光斑被阻挡，从而减小可见到近红外波段的光束光强， 实现平滑。本发明还公开了一种氙灯光线光强平滑处理方法。本发明 没有损失任何波段的光线，探测器或者光谱仪可以正常响应全光谱范 围的光线，从而可以光谱椭偏仪从紫外到近红外全光谱范围内的高精 度测量。 

本发明公开了一种应用到光谱椭偏仪中的氙灯光线光强平滑处理装置及方法。该光强平滑处理装置包括准直透镜、汇聚透镜和光阑，准直透镜为消色差透镜，用于将待处理的氙灯光线准直为平行光束；汇聚透镜为单透镜，用于将平行光束汇聚聚焦，汇聚后的光斑大小随波长的增加而增大；光阑设置在汇聚透镜后并间隔一定波长焦距位置处，通过设定该光阑的大小使紫外波段的光斑可透过该光阑而可见到近红外波段的光斑被阻挡，从而减小可见到近红外波段的光束光强，实现平滑。本发明还公开了一种氙灯光线光强平滑处理方法。本发明没有损失任何波段的光线，探测

由于超颖表面具有在极短距离内，以亚波长分辨率对出射光的波前进行任意调控的能力，使得它有望成为传统光学元件的替代品。超颖表面体积小、重量轻、具有丰富设计自由度的特点能够大大简化传统光场调控装置的体积以及复杂度。近些年来，项目组在超颖表面的光束整形与偏振调控领域做出了许多有意义的工作。通过将达曼光栅原理与超颖表面相结合实现了三维涡旋阵列以及贝塞尔光束阵列的产生。利用相变材料、Ω形天线以及介质纳米柱结构实现了对出射光束偏振态的调控，并将其应用于矢量光束的产生之中。同时，基于超颖表面对出射光的复振幅调制实现了近场表面等离激元的操控以及远场衍射级次的选择性激发。 基于光学超颖表面的光束整形与偏振调控技术具有体积小、重量轻的优点，能够解决传统光场调控装置体积较大、复杂度较高的缺点。同时，不同种类超颖原子所提供的丰富设计自由度以及多种波前调控工作机理，为超颖表面对出射光的振幅、相位、偏振、频率以及多物理量的灵活调控提供了保障，丰富了实现光场调控的手段。该技术有望在激光加工、光通信、粒子捕获，超分辨成像、信息存储以及光学防伪和加密等应用之中。

本发明提供一种基于偏振态控制的双档变焦透镜，在光的前进方向上，依次设有起偏器、1/4 波片、 透镜 1 和透镜 2，透镜 1 和透镜 2 采用由纳米砖阵列构造的平面纳米砖透镜，纳米砖阵列中各纳米砖的 尺寸相同，相邻纳米砖的中心间隔相同，纳米砖的转角根据距离透镜中心距离确定。这种双档变焦透镜 的特点在于，仅需要将照射纳米砖超材料结构透镜的圆偏光的旋向改变(即 1/4 波片转动 90°)，两片纳米 砖超材料结构透镜的焦距值均会变成原来焦距值的相反数

成果创新点 1.多偏振态多角度散射表征颗粒； 2.基于详细形貌模型的反演算法 技术成熟度 样品样机测试阶段 市场前景 气溶胶测量领域。目前市场上并无商业化产品。 转化计划 2020 年完成产品化，自主转化寻求投资。 所需支持 资金 500 万。

1.多偏振态多角度散射表征颗粒； 2.基于详细形貌模型的反演算法 

郭光灿院士团队在固态量子存储领域取得重要进展。该团队李传锋、周宗权研究组基于自主加工的激光直写波导，实现了光子偏振态的可集成固态量子存储，存储保真度高达99.4±0.6%，该工作显著推进了可集成量子存储器在量子网络中的应用。

首次提出利用高Z涂层的电离效应在激光光压加速过程中动态补充电子，弥补RT不稳定性带来的加速等离子体片的电子损失，从而实现动态致稳RPA。这一全新方案非常皮实，三维粒子模拟显示在目前真实的激光和靶参数条件下，此方案可实现稳定的离子光压加速，并且可以应用于加速高Z重离子源。