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同腔原位
复合
沉积铱-氧化铝高温
涂层
设备与工艺
同腔原位复合沉积铱?氧化铝高温涂层设备与工艺,涉及化学气相沉积技术领域。设备包括反应腔体系统、四条管路系统、真空系统和尾气处理系统,系统之间通过管路密封连接。四种前驱体源置于源瓶中,源瓶与四条管路分别相连。通过四个气动阀调控前驱体源的通入,N2作为源的载气,真空泵系统为设备提供一定真空度,尾气处理处理系统对反应后产物进行处理后排放;通入Al(CH3)3、H2O源,ALD沉积复合材料的Al2O3层,通入Ir金属化合物、O2源,ALD沉积复合材料的Ir层,将Ir化合物源通入反应腔内高温分解,CVD沉积Ir层。按照复合涂层工艺方案沉积,得到耐高温抗氧化、高粘附力、抗热震的Re基Ir?Al2O3复合涂层材料。在航空航天、能源动力以及国防等领域具有广泛的应用。
东南大学
2021-04-11
一种高耐磨性的WC-Mo-Co
复合
涂层
简介:本发明公开了一种高耐磨性的WC‑Mo‑Co复合涂层,属于材料表面强化技术领域。该复合涂层成分设计为:在Co基粉末中添加质量分数10~20%的WC颗粒,同时联合添加5~10%的Mo。Mo的添加可促使WC/Co基涂层凝固时析出更多高硬度一次碳化物和共晶碳化物,与未添加Mo的WC/Co基涂层相比,可显著提高耐磨性能。本发明的激光熔覆WC‑Mo‑Co复合涂层可广泛应用于对表面耐磨性有较高要求的零部件绿色制造及再制造修复。
安徽工业大学
2021-04-11
一种耐液态熔融锌腐蚀的
复合
涂层
及其制备方法
本发明公开了一种耐液态熔融锌腐蚀的复合涂层,属于金属材 料表面改性领域,该涂层包括涂覆在基体表面的打底层和涂覆在打底 层上的合金涂层,所述合金涂层同时包含元素 Cr、Mn、W、Nb、B、 S 以及余量的 Fe,所述打底层同时包含元素 Co、Cr、Al、Ni、Y、O 以及不可避免的杂质元素。本发明还公开了制备该复合涂层的方法, 包括:采用雾化法制备合金涂层粉体,对基体表面进行喷砂处理,采 用热喷涂方式制备打底层,以及在
华中科技大学
2021-04-14
一种氨基化
复合
涂层
及其制作方法和应用
本发明公开一种氨基化复合涂层,所述氨基化复合涂层是通过将3-氨丙基三乙氧基硅烷涂层在150~180℃与聚乙烯亚胺接触1~10小时得到.经过聚乙烯亚胺处理的3-氨丙基三乙氧基硅烷涂层的流动电势值随时间的变化减小,涂层的稳定性更好,该氨基化复合涂层在水溶液中的稳定性要比未改性的3-氨丙基三乙氧基硅烷涂层更为稳定。
兰州大学
2021-01-12
CVD
涂层
设备
产品详细介绍 CVD涂层设备 CVD涂层设备主要由涂层沉积真空室、外加热炉、气路系统、尾气处理系统等组成。 具体技术交流请电话或电邮联系!
上海晨鑫电炉有限公司
2021-08-23
神经形态忆
阻
器
传统计算机采用分立的处理器和存储器,所有计算数据都要通过总线进行搬运,造成了存储墙、功耗墙等突出问题。基于忆阻器的神经形态器件能够在物理层面模拟生物突触、神经元信息处理功能,从而实现局域的存算融合,从根本上解决冯诺依曼瓶颈,带来巨大的性能和能效提升。
北京大学
2021-02-01
一种新型韧性颗粒强化的铁基非晶基
复合
涂层
本发明提供一种新型韧性颗粒强化的铁基非晶基复合涂层,以 铁基非晶合金粉末和韧性金属粉末的机械复合粉末为原料,其中铁基 非晶合金粉末由下述元素和不可避免的杂质组成:Cr10.0-17.0; Mo12.0-20.0;B4.0-8.0;C10.0-18.0;Y0.0-5.0;Fe 余量(原子百分比); 韧性金属粉末可以采用:不锈钢粉末、镍基金属粉末、钴基金属粉末、 铝基金属粉末或铜基合金粉末;该涂层采用超音速火焰喷涂技术制得。 本发明获得的铁基非晶基复合涂层结构致密,孔隙率低,具有较高的 韧性以及与金属基材良好的结合强度。该复合涂层水力及油气田开发 设施、管道运输、船舶甲板等诸多工业领域有着极大的应用前景
华中科技大学
2021-04-13
医用金属植入体表面壳聚糖季铵盐/胶原
复合
涂层
的制备方法
本发明公开的医用金属植入体表面壳聚糖季铵盐/胶原复合涂层的制备方法,包括配制含钙、磷、胶原、壳聚糖季铵盐的电解液,以铂片作为对电极,以酸清洗过的金属基板作为工作电极,采用多电位阶跃模式进行电化学沉积,通过调整每段阶跃工作电极电位的正负、大小以及每段沉积时间,无需多次沉积,可快速简易地实现壳聚糖季铵盐在基板表面矿化胶原涂层中空间分布可控,即胶原涂层里层富集壳聚糖季铵盐和涂层外层富集壳聚糖季铵盐。利用壳聚糖季铵盐带有正电荷的性质,将生物生长因子承载到胶原涂层不同空间位置,实现了生物生长因子释放行为可控调节,同时增大了涂层承载生物生长因子的能力,在硬骨组织修复领域具有广泛的应用前景。
浙江大学
2021-04-13
高可靠忆
阻
器件及其视听觉传感应用
技术成熟度:技术突破 传统CMOS工艺的图形处理器通常是由探测、存储、处理等多个分立系统构成,不可避免的增加了集成电路的复杂性、功耗和成本,忆阻器在新型信息存储器件、存算一体化技术及人工神经网络等领域有着巨大应用潜力。 研发团队发展的感存算一体化新型光电忆阻材料与器件能够解决传统人工视听觉系统在容量、集成度、速度等方面的技术瓶颈问题,是实现高效智能视听觉传感系统的基础。研发团队首次在基于氧化钨材料忆阻突触器件的视听觉系统中模拟了速度检测的多普勒频移信息处理,进而实现高通滤波和处理具有相对时序和频移的尖峰数据。这些结果为视听觉运动感知的模拟提供了新机会,促进了其在未来神经形态传感领域的应用。 意向开展成果转化的前提条件:中试放大及产业化工艺开发资金支持
东北师范大学
2025-05-16
低粗糙度低方
阻
的柔性透明导电
复合
薄膜及其制备方法
本发明属于光电子技术领域,更具体地,涉及一种低粗糙度低 方阻的柔性透明导电复合薄膜,该薄膜为三层复合结构,最底层为透 明聚合物薄膜,中间层为金属纳米线构成的导电网络,最顶层为均匀 覆盖在所述透明聚合物薄膜与导电网络上的透明导电层,该柔性透明 导电复合薄膜的平均粗糙度小于 20 纳米,方阻低于 30 欧姆/平方米, 可见光范围内保持高于 80%的透光率,该透明导电薄膜能够承受曲率 半径 2 毫米的弯折。本发明还公开了该
华中科技大学
2021-04-14
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