光电轮廓仪
纳米科技是21世纪材料技术革命的核心,而纳米测量是纳米技术中重要环节,我校研制的光电轮廓仪是纳米测量的重要仪器之一。该仪器除在计量系统作为传递基准仪外,也可广泛用于材料科学、生物学、化学、微机械学以及半导体工业等领域中的纳米分析测量。 仪器主要技术指标为: 测量方法:非接触式、三维、光学相移干涉法 物镜倍率:40X 测量范围:0.1×0.1mm 测量列阵:510×510象素 最小显示值:0.1nm 测量表面粗糙度范围:Ra~0.1nm-120nm 最大可测量台阶和孔深:1100nm 仪器Ra测量重复性:Ra≤1nm
上海理工大学
2021-04-11