产品详细介绍  制冰机价格|制冰机不制冰|制冰机维修 制冰机价格|制冰机不制冰|制冰机维修|制冰机品牌|食用制冰机|小型制冰机|制冰机原理|雪花制冰机|制冰机|实验室制冰机|小型制冰机价格 产品特点： ● 全自动制冰，微电脑自动控制系统,方便、安全、稳定。 ● 采用优质高效无氟压缩机，制冷效果好，噪音低，运行更平稳可靠。 ● 采用优质不锈钢外壳，防腐耐用，独立型一体式结构，节省空间，造型美观. ● 箱体隔热层为无氟发泡，保温效果好，内胆为无氟抑菌型，节能环保. ● 采用专利技术的行腔隔片式制冰蒸发器，制冷效率高，产冰量大。 ● 有冰满显示，缺水显示，过冷保护显示，故障警告显示等保护性停机功能。制冰机冰满缺水时会自动停机，当来电来水时会自动开机，具有自动记忆恢复功能。 ● 螺旋滚刀挤压式制冰型式，所制冰形为不定形的细小颗粒状雪花碎冰，冰形小，能渗入较窄间隙，冷却速度快，冰浴效果好，专为实验室设计。 ● 独特的水箱浮球式进水系统，保证无残水余水，无除冰过程、无水损耗，无殘水、节水节能。  技术参数：

产品详细介绍摩擦磨损试验机|四球摩擦磨损试验机|（立式）万能摩擦磨损试验机|磨损试验机|环快试验机|摩擦系数仪|润滑油（脂）摩擦试验机|四球机 一、与摩擦磨损试验机相关的试验机 ①微机控制四球摩擦试验机（型号：MRS-10A） ②微机控制电液伺服四球摩擦试验机（型号：MRS-10W） ③微机控制立式万能试验机（型号：MMW-1） ④环快摩擦磨损试验机（型号：MRH） ⑤屏显式端面摩擦磨损试验机（型号：MMU-5/10） ⑥微机屏显式高温端面摩擦磨损试验机（型号MMU-5G/10G） ⑦摩擦系数仪（型号：MXZ-1） ⑧人造板滚动磨损试验机（MGL-5） 二、上述摩擦磨损试验机的详细介绍 ㈠微机控制（电液伺服）四球摩擦试验机（型号：MRS-10A） ①主要用途和适用范围 该机主要是以滑动摩擦的形式，在极高的点接触压力条件下评定润滑剂的承载能力。包括最大无卡咬负荷PB、烧结负荷PD、综合磨损值ZMZ等三项指标。该机还可以做润滑剂的长时抗磨损试验，测定摩擦系数，记录摩擦力和温度曲线.该机配有高精度测量装置，可测量摩擦副磨斑尺寸，或实现摩擦副磨斑的计算机屏幕显示，测量和记录。 ②主要技术参数 1、试验力范围（无级可调） 60N~10kN 2、试验力示值相对误差 ±1% 3、试验力长时保持示值误差 ±1%F.S 4、摩擦力测试范围 0~300N 5、摩擦力测试误差 ±3% 6、主轴转速范围（无级可调） 200~2000r/min 7、主轴转速误差 ±5 r/min  8、摩擦副温度控制范围 室温~150○C 9、摩擦副温度控制误差 ±2○C 10、试验时间控制范围 1秒~999小时 11、主轴转速控制范围 1~99999999转 12、试验用钢球 φ12.7mm   13、外形尺寸 1200*870*1700 （mm） 14、重量 800kg ㈡微机控制立式万能试验机（型号：MMW-1） ①主要用途：       该机主要以滑动、滚动和复合摩擦形式，在较低的接触压力下，选择不同的摩擦副形式，用于评定润滑油、润滑脂的长时抗磨损性能，以及金属材料的摩擦磨损性能。该机配有四球、销盘、止推圈等三种摩擦副，根据用户需求可提供球盘、球-三片、销-三柱、模拟凸轮、齿轮等多种摩擦副形式。该机可以测定摩擦力矩，计算摩擦系数，连接计算机，记录温度-时间曲线、摩擦系数-时间曲线。该机配有高精度测量装置，可测量摩擦副磨斑尺寸，或实现摩擦副磨斑的计算机屏幕显示、测量和记录 。 ②主要技术参数： 1、最大的试验力：1000N 2、试验力示值相对误差：±1% 3、摩擦力矩测试最大值：2.5Nm 4、主轴转速范围：10~1500r/min 5、试样温度控制范围: 室温~150℃ 6、外形尺寸（长×宽×高）mm：860mm×740mm×1600mm 7、可接记录仪记录温度-时间和摩擦力矩-时间曲线 ㈢环快摩擦磨损试验机（型号：MRH） ①主要用途：       该机主要以滑动摩擦形式，在浸油润滑条件下，评定各种润滑剂的润滑性能，尤其适用于中高档汽车齿轮油的抗擦伤性能的模拟评定，也可用于各种金属、非金属材料及涂层的磨损性能研究。该机可以测定摩擦力、计算摩擦系数，连接计算机，记录温度－时间曲线、摩擦力－时间曲线。该机配有高精度测量装置，可测量摩擦副磨斑尺寸，或实现摩擦副磨斑的计算机屏幕显、测量和记录。 ②主要技术参数 1、最大径向试验力 3kN 2、试验力控制方式 步进电机闭环控制施加试验力 3、试验力准确度 不超过±1% 4、摩擦力 1－300N 5、摩擦力准确度 不超过±2% 6、主轴转速范围 100－2000r/min，100－5000r/min 7、转速控制精度 不超过±10 r/min 8、试样温度范围 室温－200○C 9、温度控制精度 不超过±2○C 10、数据显示记录方式 液晶显示与计算机屏显 11、试验用标准试样 试环φ42.2×13.06mm 12、试块12.32×12.32×19.05 13、外形尺寸(长×宽×高) 100×700×1340mm ㈣屏显式端面摩擦磨损试验机（型号：MMU-5/10） ①主要用途：       该机以端面滑动摩擦形式，在浸油润滑和无油润滑（或水润滑）条件下，对环状试样施加较高的端面试验力，用于评定材料的摩擦磨损性能。 该机可以根据需要，配备四球、球盘、球三片、销盘、止推圈等多种摩擦副，用于评定润滑油，润滑脂的长时抗磨损性能，以及材料的常温摩擦磨损性能。       该机为机电液一体化精密试验仪器，采用柱塞泵或进口齿轮泵为动力源，溢流阀、节流阀、换向阀均为台湾原装。液压缸采用无摩擦柱塞缸，确保为值传递准确。主轴电机选用松下交流伺服电机及控制器，调速范围宽，低速转矩大，噪声低。测量参数包括试验力、摩擦力、试验时间、主轴转数，当任何一个参数超过预置值时，对应的报警灯亮，同时主轴停止转动。所有试验参数均可以在数显装置及计算机屏幕上显示，记录温度-时间曲线、摩擦力时间曲线。      该机配有高精度测量装置，可测量摩擦副磨斑尺寸。 ②主要技术参数： 1） 最大试验力：10KN 2） 试验力准确度：不超过±1% 3） 摩擦力：1-300N 4） 摩擦力准确度：不超过±2% 5） 主轴转速范围：5-3000r/min 6） 转速控制精度：不超过±2 r /min 7） 温度显示范围：0-150℃ 8） 时间显示与控制范围：1s ～ 9999s （或 min ） 9） 转数显示与控制范围：1 ～ 9999999 10）数据显示记录方式：液晶显示与计算机屏显 11）试验用摩擦副：环状试样，￠26*￠20*12（mm） 12）试验力控制方式：手动和交流伺服电机闭环控制施加试验力 13）主机净重：800kg 14）外形尺寸（长*宽*高）：1200*870*1700（mm） ㈤微机屏显式高温端面摩擦磨损试验机 ①主要用途：       MMU-10G屏显式端面高温摩擦磨损试验机是采用滑动摩擦的形式，在规定的试验条件下用来评定工程塑料、粉末冶金、合金轴承等的使用性能，可在室温~600℃（可定做800℃）条件下，在无油润滑及浸油润滑以及改变负荷、速度、时间、摩擦配偶材料、表面粗糙度、硬度等参数的各种情况下进行试验。可用于测量材料温升、摩擦系数等值。      该机为机电液一体化精密试验仪器，采用柱塞泵或进口齿轮泵为动力源，溢流阀、节流阀、换向阀均为台湾原装。液压缸采用无摩擦柱塞缸，确保为值传递准确。主轴电机选用松下交流伺服电机及控制器，调速范围宽，低速转矩大，噪声低。测量参数包括试验力、摩擦力、试验时间、主轴转数，当任何一个参数超过预置值时，对应的报警灯亮，同时主轴停止转动。所有试验参数均可以在数显装置及计算机屏幕上显示，记录温度-时间曲线、摩擦力-时间曲线。 ②主要技术规格及参数： 1 试验力   1.1 轴向试验力工作范围（无级可调） 1～10kN 1.2 试验力示值相对误差 ±1% 1.3 试验力长时自动保持示值误差 ±1%FS(最大试验力） 1.4 自动卸除试验力 超过最大试验力2%-10% 2 摩擦力   2.1 摩擦力测量范围 10～500N 2.2 摩擦力示值相对误差 ±2% 2.3 自动停车 超预置 3 主轴转速   3.1 主轴转速范围 5～2000r/min 3.2 主轴转速范围误差 ±10r/min 4 试验机测控温范围 室温~600℃ 5 试验摩擦副 提供图纸或用户自定 6 油盒行程 ＞45mm 7 主轴电机功率 4kW 8 试验机主轴控制   8.1 手动控制 手动停车 8.2 时间控制 超预置 8.3 转数控制 超预置 8.4 摩擦力控制 超预置 9 试验机时间显示与控制范围 1s～9999min 10 试验转数显示与控制范围 9999999s 11 试验机外形尺寸（长×宽×高） 约1200×870×1700min 12 试验机净重 850kg ㈥摩擦系数仪 ①主要用途       该设备适用于塑料薄膜、薄片、纸张等材料滑动时的动、静摩擦系数的测试。通过测量材料的滑爽性，可以控制调节包装袋的开口性、包装机的包装速度等生产质量工艺指标，满足产品使用要求。 ②功能与特点 ·同时符合多种国内国际标准、集多种试验方法于一身 ·GB 、ISO 、ASTM测试标准方法可任意选择设定 ·柔性传动系统驱动，使运转更平稳，测试精度更高 ·微电脑控制，操作全部键盘化 ·LCD大屏液晶全图显示试验数据、结果、曲线 ·自动判断材料滑粘状态及试样间测试结果的定量离散性分析 ·动摩擦试验、静摩擦试验、动静摩擦试验自由选择，测试灵活 ·可进行单件、成组试验的结果统计分析处理、多种报告模式微打输出 ·能够保存6次试验数据及结果，具有曲线显示，查询等必要的功能。 ③主要技术参数 ⒈负荷量程：0～5 N ⒉精     度：0.5级 ⒊行     程： 70 mm、150 mm ⒋滑块质量：200g（标准）注：设备支持任意滑块质量试验 ⒌试验速度 100mm/min ⒍环境要求：温度10℃～40℃　湿度20% RH～70%RH ⒎电     源：AC 220V 50Hz ⒏外型尺寸：400（L）×300（B）×180（H）mm ⒐重     量：10Kg ㈦人造板滚动磨损试验机 ①主要用途：       用于木地板及其它非金属的表面耐磨性能试验。 ②主要技术参数： 1. 最大试验力: 5N±0.2N 2. 试件旋转速度：60±2r/min 3. 吸尘嘴距表面：1-2mm 4. 试验件厚度可1-30mm整数级调整。

项目成果/简介:水成膜胶体泡沫是将聚合物分散在水中，加入发泡剂并在氮气的作用下发泡形成的复杂混合体系。经过一段时间后，在泡沫液膜内，聚合物间相互交联形成三维网状结构，构成水成膜胶体泡沫的刚性骨架。防灭火水成膜胶体泡沫既具有凝胶的性质，又具有泡沫的性质，兼有注三相泡沫（注泥浆、注氮气、注两相泡沫）、注凝胶、注复合胶体的优点，同时又克服了各自的不足，从而大大提高其防灭火效果。

纳米金刚石的金刚石晶粒尺寸在100nm以下, 表面极其光滑平整, 摩擦系数极低(可小于0.05), 因此是十分理想的工具(模具)涂层和光学涂层材料, 同时在MEMs (微机电系统)和高性能大屏幕(场发射)显示技术等领域也有非常好的应用前景。 本项目组采用微波等离子体CVD和 DC Arc Plasma Jet CVD两种工艺方法, 在玻璃, 硅, 钼和硬质合金等衬底材料上成功制备了纳米金刚石膜。 在玻璃衬底上制备的纳米金刚石膜晶粒平均尺寸小于100 nm, 表面粗糙度小于Ra 5nm, 采用纳米力学探针测量的显微硬度高达8000kg/mm2, 在可见及近红外区域具有非常好的透过特性, 紫外喇曼光谱(在新加坡国立南洋理工大学测试)显示薄膜几乎为纯净的金刚石纳米晶粒组成。在其它衬底上的纳米金刚石膜的组织结构和性能测试正在进行之中。 纳米金刚石膜涂层硬质合金工具: 其中最有前景的是纳米金刚石膜涂层硬质合金微型钻头; 纳米金刚石膜涂层光学应用: 包括诸如”永不磨损钻石涂层玻璃表壳”和”永不磨损钻石涂层玻璃眼镜片”, 及ZnS, Ge, Si等重要红外军事光学材料的抗(雨滴、沙粒)冲刷涂层; 微机电系统(MEMs)的微机械构件: 如微型齿轮, 轴, 轴承等; 高性能大屏幕显示器件

水成膜胶体泡沫是将聚合物分散在水中，加入发泡剂并在氮气的 作用下发泡形成的复杂混合体系。经过一段时间后，在泡沫液膜内， 聚合物间相互交联形成三维网状结构，构成水成膜胶体泡沫的刚性骨架。防灭火水成膜胶体泡沫既具有凝胶的性质，又具有泡沫的性质， 兼有注三相泡沫（注泥浆、注氮气、注两相泡沫）、注凝胶、注复合 胶体的优点，同时又克服了各自的不足，从而大大提高其防灭火效果。

本发明涉及以天然成分为原料，开发一种能够抑菌防腐和延长 肉类产品保鲜期，具有一定粘稠度，可与肉类产品表面结合为一体的多功能液 态可食保鲜膜，喷涂于食品表面，对环境常在菌具有显著的抑制作用，无毒无 害，且兼有保健和防伪（隐形标签）作用，已获得国家发明专利。 技术优点或者效益预测:肉鸡屠宰后按部位进行分割，喷涂（或浸蘸）保鲜 膜液后装入食品袋后密封，室温冷却编号，置于微温(30~~40℃)和常温 (20~~25℃)2 种条件下贮藏的保质期可分别达到 3、7d。同时可标识产品生产厂 家。有效防止肉类产品加工过程二次污染，从而延长保鲜期，同时兼有产品防 伪标识作用。应用前景十分广阔。 

该成果是原有的铝反射激光全息防伪末的升级替换品。这种薄膜结构简单，仅有信 息层和基底层两层组成。全息图像以激光全息技术拍摄并用激光雕刻和电铸手段，以光 栅条纹的形式复制到镍质金属模版上。以金属模版热压气凝胶或有机高聚物聚氨酯涂层， 形成承载全息图像的信息层，可在薄膜上再现全息图像。

紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来，紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面，国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。先进光谱仪器是集光、机、电和计算机于一体，技术密集的高科技产品。它是现代科技必不可少的精密检测和分析手段，是现代天文学、航空航天、分子生物学、现代医学、环境和生态等新科技建立和发展的基础。国家对发展先进光谱仪器和研制光谱仪器用的探测器件非常重视，“十一五”国家科技支撑计划专门设立了科学仪器设备研制与开发专项“先进大型光谱仪器的关键部件——高分辨分光器件和探测器件的研制”，技术人有幸成为承担该课题的主要研究人员，负责高分辨探测器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最广泛应用的光电探测器，而且先进的光谱仪器都采用了CCD或CMOS作为探测器件，这是因为CCD和CMOS具有灵敏度高、低噪声等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段响应很弱，这种很弱的紫外响应限制了硅基成像器件在先进光谱仪器及其他紫外波段探测方面的使用。 因此，本技术的研究成果硅基成像器件的紫外响应增强薄膜是经济建设和社会发展迫切需要。 增强硅基成像器件的紫外响应，目前有两种方法：一是改变硅基探测器的结构，如背照式CCD；另外一种是在现有的成像器件光敏窗口加镀一层下变频膜，把紫外光先转化为可见光，然后再接收。国外自1980年起就开始增强硅基探测器紫外响应的下变频薄膜研究，按使用材料的属性，可以把变频膜分为有机变频膜和无机变频膜两种。有机变频膜技术相对成熟，也有相关的专利出现。哈勃太空望远镜CCD、星球相机（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的响应波段延伸到紫外的CCD都是镀的有机变频膜。目前紫外增强有机变频膜可使普通CCD的响应波段延伸到200nm，Roper Scientific公司开发的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下变频效果。有机变频膜技术尽管成熟，但该类薄膜有着致命的缺点，那就是有机物分子在紫外辐射下降解速度很快。在照明度为1μW/cm2的光照下，有机分子以高达每小时3%的速率成指数降解。在这一方面，而无机变频膜具有不可比拟的优点。无机变频膜材料可以在它使用期限的前2%时间里，减少90%的降解量，因此，无机变频膜具有非常优越的稳定性。在无机变频膜方面，国外研究也刚起步，最早的报道见于2003年[1]，目前尚无成熟的增强硅基成像器件的紫外无机变频膜技术。国内在有机和无机变频膜方面，都没有已见报道的研究工作。  为了提高探测器对紫外辐射的敏感性，我们采取了在硅基成像器件光敏窗口上镀变频膜的办法，成功地使CCD及CMOS的响应波段拓展到150nm。该产品可广泛应用在光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对推动国家的科研和产业在这些领域的发展有极大帮助。

通过使用铅的条状非公度相作为铅膜和硅衬底的界面，用超高真空分子束外延技术成功制备出一种宏观面积的、塞曼保护的新型二维超导体。系统的低温强磁场实验表明，该体系的超导电性可存在于超过40特斯拉的平行强磁场中，这一数值远超过体系的泡利极限，是塞曼保护超导电性的直接证据。第一性原理计算结果也表明，条状非公度相中特殊的晶格畸变会延伸至铅膜中，从而在该体系中引入很强的塞曼自旋轨道耦合。同时，新的微观理论也给出了强杂质情形下各种自旋轨道耦合及散射效应对二维超导临界场的影响并定量地解释了塞曼保护超导电性的物理机制。该工作表明，可以通过界面工程在中心反演对称性保护的二维超导中引入面内中心反演对称性破缺，也即在二维晶体超导体系中人工引入塞曼保护的超导电性机制。这一结果预示出人们有望在二维超导体系中，通过界面调制发现新的非常规超导特性。这种宏观尺度强自旋轨道耦合下的二维超导，也为拓扑超导的探索提供了新的平台，并为未来无耗散或低耗散量子器件的设计与集成奠定了基础。图 (a) 脉冲强磁场实验表明6个原子层厚铅膜的超导电性在高达40 T的水平强场下仍不被破坏。(b) 临界场随温度的关系与理论高度重合，有力地证明了超薄铅膜中的塞曼自旋轨道耦合保护的超导电性。 (c) 对外延生长于条状非公度相（SIC）界面上的超薄铅膜进行磁阻测量的示意图。

目前乙酸乙酯等的合成方法是以乙酸和乙醇为原料，采用浓硫酸为催化剂来制取，该法副反应多且受限于反应平衡转化率提高、后处理工艺复杂、生产成本高、设备腐蚀严重、废酸排放污染环境。采用新的酯化反应技术和可代替硫酸的新型酯化催化剂及分离技术具有重要的意义。本项目技术采用固体酸代替硫酸，采用透水膜打破反应平衡，反应转化率可以提高到98%以上，减少废酸排放，反应时间缩短到2h，工艺节能绿色，实现了部分节水减排。