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各类材料复杂构件表面的磁性复合流体抛光技术
各类材料复杂构件表面的磁性复合流体抛光技术
上海理工大学 2021-01-12
烫光机托布带、烫光机毛毯带
托布带:克重4600g/㎡,厚度10mm 吸油毡:厚度10~20mm 适用于:人造毛皮行业,毛纺行业,烫光机、烫剪机以及各类进口、国产机械以上产品规格根据客户需求均可定制。
上海芸英工业皮带有限公司 2025-01-09
生物组织石蜡包埋机
1.微电脑控制,中文界面,彩色液晶显示,触摸屏操作,简洁、直观、方便。全程电脑自动控制或手工控制开关机,自动加热并恒温,自动制冷并恒温。2.智能保护:任意路不加热、不制冷或温度传感器损坏,界面中文报故障,并自动切断该路的加热或制冷,保护该路器件免受损坏。3.开关机:任意预设周1至周日每天任意自动开关机两次;手动开机在工作4小时后自动关机。 4.专利流蜡控制方式,流蜡管道不滴蜡、渗蜡;出蜡方式:手动、脚动,出蜡流量可调节。5.分体式结构:包埋部分和冷冻台分开,包埋部分带小冷台,冷冻台为整体铝合金材质。6.工作台和小冷台二路照明,照明灯采用DC24V  LED灯珠,手动开关灯珠照明,在主机停止工作后自动熄灭。7.自带放大镜,便于观察微小标本。(可配置)8.制冷方式:冷冻台:压缩机制冷。为避免因压缩机反复启动而损坏压缩机,自动延时启动压缩机。小冷台:半导体制冷。9、温度控制:室温~99℃预设,恒温精度±1℃
孝感奥华医疗科技有限公司 2025-01-21
溶剂/高固含量环境友好型自抛光防污涂料用基体树脂
海洋生物污染给海洋船舶运输带来诸多危害,现有海洋船舶防污涂料功能单一,而且自抛光涂料严重污染海洋生态环境、危及人类健康。研制环境友好型低表面能自抛光双重防污功能涂料用树脂关系到国家利益也牵涉到民生,具有重要意义。本项目以杂化聚合为方法支撑,制备了环境友好型自抛光防污涂料用树脂。主要解决的关键技术与创新点有: (1)“自抛光”和“防污”的实现 如何将自抛光和防污性能结合,是海洋防污涂料用树脂研究的热点。本项目中的自抛光主要是基于聚酯的可降解性实现的,而防污效果主要是基于
常州大学 2021-04-14
奥华液基薄层细胞制片机染色机64通道
主要特点1、微电脑自动控制,中文界面,液晶显示,触摸屏操作,简捷、直观、方便。全程电脑自动控制,无需人工干预。2、每张标本独立沉降制片、独立固定、独立染色。独立分化、独立返蓝、独立倾倒废液,标本与耗材(一次性移液针筒、沉降仓等)一一对应,不交叉使用,不反复使用,保证单独制片染色,无标本间交叉污染。3、一次性移液针筒抽取染色液、盐酸酒精,无堵塞管道、腐蚀管道风险,染色液无浪费。4、随着季节温度变化,仪器自动检测温度并自动调整染色时间,保证最佳染色效果。(此功能可选择)5、有效细胞单层、均匀地平铺到载玻片圆形区域上,制成细胞成分丰富、背景清晰、颜色鲜艳、形态完整、分布均匀的细胞涂片。6、上皮细胞、化生细胞、颈管细胞及微生物等清晰,既可直接查癌及癌前病变,也可查炎症,HPV感染、滴虫、霉菌等微生物。7、配有净化排气装置,环保密封罩活性炭过滤,吸附有害气体,保证仪器内外空气洁净,保护操作者健康。8、单次制片染色1-64任意数值只标本;9、巴氏、HE两种染色方式,一键切换。10、妇科、非妇科1、非妇科2三种工作模式,一键切换。
孝感奥华医疗科技有限公司 2025-01-20
熨烫夹机烫台硅胶海绵
整烫垫料我公司代理经销的服装整烫用进口硅胶海绵,高温毛毡,烫台布,不锈钢斜纹网等,已为全国众多服装生产厂家配套使用,可替代意大利迈埤,罗东迪等进口整烫设备上原装垫料。用途:主要用在干洗,湿洗设备上,烫台和压烫机等熨烫机器上。烫台 整烫机专用硅胶海绵,标准宽幅1.5米。适用于:服装厂 制衣厂 洗衣房手烫台 整烫机用烫台硅胶海绵垫。
上海芸英工业皮带有限公司 2025-01-09
生物组织摊片烤片机
1.微电脑控制,中文界面,液晶显示,触摸键操作,简洁、直观、方便。全程电脑自动控制,开机自动加热并恒温。2.分摊片、烤片、烘片三个功能区。3.温度控制:0-99 ℃预设,恒温精度±1℃
孝感奥华医疗科技有限公司 2025-01-21
大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工方法
本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工 方法,该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道,对待抛光 加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电,产生的等离子弧经过磁流体 通道后,得到强度和密度增强的等离子弧,该增强等离子弧对金属表 面凸起部位进行轰击,使该部位形成阳极斑点后蒸发去除,并通过放 电极性的调节实现去除凸起的光亮化,实现该位置的抛光加工。本发 明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力 和表层损伤等问题。能够在大气压下进行,可实现粗抛、细抛和精抛, 不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物,精密化抛光后 形成的表面粗糙度小,可达到 Ra0.2μm。
华中科技大学 2021-04-13
加工第三代半导体晶片光电化学机械抛光技术
第三代半导体氮化镓和碳化硅因其禁带宽、稳定性好等优点,已广泛应用于电子和光电子等领域。各种氮化镓和碳化硅基器件是5G技术中的关键器件。将半导体晶片制成器件,其中的一个关键加工步骤是晶片表面的抛光。然而,氮化镓和碳化硅的化学性质极其惰性,半导体工业目前常用的化学机械抛光方法无法对其实现高效加工。对此,我们从原理上创新发展了一种光电化学机械抛光技术,不仅可快速加工各种化学惰性半导体晶片(如:加工氮化镓的材料去除速率可达1.2 μm/h,比目前的化学机械抛光的高约10倍),而且可加工出原子台阶结构的平滑表面。设备简单,技术具有完全的自主知识产权。
厦门大学 2021-04-10
大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工装置
本发明涉及一种大型复杂金属表面等离子体与脉冲放电复合抛 光加工装置,目的是解决常规金属表面精密加工和抛光方法的不足及 加工和抛光效率低、易产生加工应力和表层损伤等问题。该装置包括 射频电源、射频电源匹配器、高压直流脉冲电源、脉冲电源极性调节 装置、高压直流脉冲电源阻抗、等离子体炬、加工保护罩、控制电路 和联动机构;本发明是在大气压下对金属的表面的精密加工和抛光, 不需要真空室和特制的抛光液,可降低设备成本并扩大其使用范围。 加工效率是传统抛光方法的几倍,并且是无应力加工,无表面和亚表 层损伤、无表面污染,抛光工件的表面粗糙度可达到 Ra-0.2μm。 
华中科技大学 2021-04-13
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