产品详细介绍1. 全封闭式暗箱和紫外防护板两种设计，方便客户根据实际需求选择2. 根据紫外透射面积不同分为三种型号：UV3A   150mm×100mm                                UV3B   150mm×200mm                                UV3C   200mm×200mm3. 双面抛光紫外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰4. 透射波长：312nm5. 采用高频电子控制，节能，启动快，无闪烁，有效延长灯管寿命6. 强力风扇散热，有效防止灯管热量对凝胶样品的影响7. UV3C增置254nm、365nm紫外光及可见光反射装置，满足更多实验要求8. 可选配LCD-240白光板，可见光透射面积240mm×240mm9. 内置220V电源插座，方便其它实验要求10. 暗箱式紫外透射仪预留CCD接口，可增置CCD和凝胶图像分析软件，进行定性或定量分析11. 外观设计精致，节约实验室空间12. 特别适合于科研实验室和教学实验室使用。

产品详细介绍1. 全封闭式暗箱设计，可在明室观察、拍摄2. 130万像素低照度高分辨率CCD，信噪比≥70dB，具备软积分功能3. 日本大孔径6倍光学电动变焦镜头，∮52mm，变焦范围11.5~69mm，USB输出4. 专业紫外增强灯管，紫外光强度达到1000uw/cm25. 双面抛光西外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰6. 紫外透射面积：200mm×200mm，透射波长312nm7. 带254nm、365nm紫外及可见光反射装置8. 电动变焦镜头可通过软件控制光圈、对焦、图像放大或缩小等参数调整，操作方便，精度高9. 标配Hema GSG2000核酸/蛋白凝胶图像分析管理软件10. 图像分析和管理软件可提供多用户管理系统，方便进行实验结果的记录和管理，符合良好实验室标准11. 软件功能强大，界面简洁清晰，操作简便，全中文显示12. 高性价比，特别适合于科研实验室及教学实验室使用。

产品详细介绍

西安科技大学自 2006 年起在国家自然科学基金、陕西省自然科学基金等项目的资助下开始煤矿救援探测机器人的研发工作，研发适用于爆炸、塌方等矿难复杂环境下参与救援的煤矿救援探测机器人，目前已研制出六履带四摆臂探测机器人和两履带式探测机器人两种样机，并分别进行了实验室试验和煤矿井下模拟巷道试验，研制的机器人能够代替或部分代替救援人员，快速、准确地进入灾难现场，及时准确地获取现场信息，为救援指挥赢得时间并为救援决策提供依据，最大限度地减少人员伤亡和财产损失。该成果已申报发明专利 4 项，实用新型专利 5 项；发表高水平学术论文 30 余篇，其中被 SCI 、 EI 收录 16 篇。

项目简介 山地综合电磁法探测技术包括可频域控源音频大地电磁法 CSAMT（Controlled Source Audio Frequency Magneto-Telluric ）、 时 域 瞬 变 电 磁 TEM （ Transient Electro-Magnetic）。解决山地勘探中，山地测点布设、地形影响的快速校正、地表及近 地表电性不均匀导致的静态偏移影响以及不同装置、不同分量对地质体的反映差异等问 题。

无线电近距探测装置具有体积小、重量轻、测距精度高、跟踪速度快 等特点，可广泛应用于高速移动目标的近距精确探测领域。性能指标： 1. 探测参数：探测范围1〜100m；测距精度土0.1〜0.3m； 2. 探测条

紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来，紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面，国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。先进光谱仪器是集光、机、电和计算机于一体，技术密集的高科技产品。它是现代科技必不可少的精密检测和分析手段，是现代天文学、航空航天、分子生物学、现代医学、环境和生态等新科技建立和发展的基础。国家对发展先进光谱仪器和研制光谱仪器用的探测器件非常重视，“十一五”国家科技支撑计划专门设立了科学仪器设备研制与开发专项“先进大型光谱仪器的关键部件——高分辨分光器件和探测器件的研制”，技术人有幸成为承担该课题的主要研究人员，负责高分辨探测器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最广泛应用的光电探测器，而且先进的光谱仪器都采用了CCD或CMOS作为探测器件，这是因为CCD和CMOS具有灵敏度高、低噪声等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段响应很弱，这种很弱的紫外响应限制了硅基成像器件在先进光谱仪器及其他紫外波段探测方面的使用。 因此，本技术的研究成果硅基成像器件的紫外响应增强薄膜是经济建设和社会发展迫切需要。 增强硅基成像器件的紫外响应，目前有两种方法：一是改变硅基探测器的结构，如背照式CCD；另外一种是在现有的成像器件光敏窗口加镀一层下变频膜，把紫外光先转化为可见光，然后再接收。国外自1980年起就开始增强硅基探测器紫外响应的下变频薄膜研究，按使用材料的属性，可以把变频膜分为有机变频膜和无机变频膜两种。有机变频膜技术相对成熟，也有相关的专利出现。哈勃太空望远镜CCD、星球相机（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的响应波段延伸到紫外的CCD都是镀的有机变频膜。目前紫外增强有机变频膜可使普通CCD的响应波段延伸到200nm，Roper Scientific公司开发的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下变频效果。有机变频膜技术尽管成熟，但该类薄膜有着致命的缺点，那就是有机物分子在紫外辐射下降解速度很快。在照明度为1μW/cm2的光照下，有机分子以高达每小时3%的速率成指数降解。在这一方面，而无机变频膜具有不可比拟的优点。无机变频膜材料可以在它使用期限的前2%时间里，减少90%的降解量，因此，无机变频膜具有非常优越的稳定性。在无机变频膜方面，国外研究也刚起步，最早的报道见于2003年[1]，目前尚无成熟的增强硅基成像器件的紫外无机变频膜技术。国内在有机和无机变频膜方面，都没有已见报道的研究工作。  为了提高探测器对紫外辐射的敏感性，我们采取了在硅基成像器件光敏窗口上镀变频膜的办法，成功地使CCD及CMOS的响应波段拓展到150nm。该产品可广泛应用在光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对推动国家的科研和产业在这些领域的发展有极大帮助。