高等教育领域数字化综合服务平台
云上高博会服务平台 高校科技成果转化对接服务平台 大学生创新创业服务平台 登录 | 注册
|
搜索
搜 索
  • 综合
  • 项目
  • 产品
日期筛选: 一周内 一月内 一年内 不限
128线超广角近距激光雷达
QT128 128线超广角近距激光雷达
上海禾赛科技有限公司 2022-03-01
激光电影放映设备C60
ALPD®激光荧光粉放映解决方案,采用ALPD®3.0多色激光荧光粉技术,其亮度跨越性的提升到了55,000流明,代表了中影光峰除定制款产品以外最高的亮度水平,专为大型银幕量身打造。
深圳光峰科技股份有限公司 2022-09-19
LT2200 激光粒度分析仪
LT2200加持了真理光学首创的衍射爱里斑反常变化(ACAD)的补偿修正技术的使用,使用户无需选择分析模式,即可在全粒径范围获得准确可靠的粒度结果;LT2200系列粒度仪还采用了真理光学独创的高速全息信号处理技术,测量速度最高可达每秒20000次,确保不漏检任何粒径和形状的颗粒; LT2200系列粒度仪的粒径范围为0.02um-2200um, 适用于制药,电池材料,地质,水文,化工和磨料等诸多行业的颗粒粒度分析。
珠海真理光学仪器有限公司 2021-12-08
LT3600 激光粒度分析仪
LT3600是真理光学基于多年的科研成果开发的新一代超高速智能激光粒度分析系统,加持了多项创新和专利技术,无需更换透镜,无需使用标准样校准,量程范围达到0.02微米至3600微米,测量速度最高可达20000次/秒,兼具极高的灵敏度和重现性,对所有类型的样品均可获得准确可靠的结果。 LT3600加持了以下多项创新和专利技术: ◆ 偏振滤波技术 ◆ 衍射爱里斑反常变化(ACAD)的补偿修正技术 ◆ 斜置梯形测量窗口 ◆ 格栅式超大角检测技术 ◆ 粒度分析模式优化及自适应技术 ◆ 双驱动进样分散集成技术 LT3600光学测量系统的卓越性能还包括: ◆ 完全符合ISO13320衍射法测量技术标准 ◆ 独特的光路配置,超大连续的物理测量角度,无检测盲区 ◆ 改进型反演算法,用户无需选择“分析模式”,兼顾极高的分辨率和稳定性 ◆ 无需更换透镜,无需使用标准样校准,量程范围达到0.02微米至3600微米 ◆ 采用全息信号同步处理技术,实时测量速度最高达每秒20000次,不漏检任何形状和分布颗粒的衍射信息 ◆ 采用自动温度恒定技术的超高稳定固体激光光源系统,彻底克服了氦氖气体激光器预热时间长,使用寿命短的缺点 ◆ 采用偏振空间滤波技术,彻底摒弃导致机械和热稳定性差的针孔滤波器 ◆ 高强度金属光学底座及激光能量跟踪和稳定技术,兼具极高的稳定性和抗干扰能力
珠海真理光学仪器有限公司 2021-12-08
RP Resonator 激光谐振腔设计软件
可以用来设计优化光学谐振腔。不仅可以模拟谐振腔特性,而且软件可以计算热透镜效应、失调、色散、Gouy 相移、简并度等对光束半径和光腔模式的影响。软件同时可以用于设计给定要求的激光腔,比如给定在特定位置的模式大小,最小灵敏度,热透镜效应和失调、最小畸变的光束质量等。 ABCDEF矩阵算法: RP Resonator 的计算是基于一个扩展的 ABCDEF 矩阵算法。与通常使用的 ABCD 矩阵算法相比,它不仅可以进行模式半径的计算,也能计算由于腔镜失调所造成的光束位置改变。 另外,它也可以处理与波长相关的折射,比如在棱镜中的折射,在锁模激光器的谐振腔里,其色散补偿是通过一个棱镜来完成。该软件可以计算不同波长的光程和由此而产生的色散。 直线腔和环形腔也可以和从激光谐振腔里输出的光束一样被当作单程传播来处理。对于环形腔,光束的路径可以自动闭合,也就是说,第一个和最后一个镜子的取向及它们之间的路径长度可以自动计算。由此产生的设置可以图形化地显示,以立即识别可能的错误输入。 具体功能与应用: ——分析已有的谐振腔设计,如检查其稳定区域、准直特性、色散效应等。 ——使复杂的谐振腔设计优化工作变得容易,如优化激光器性能。 精炼研究人员对谐振腔的理解。如通过数值模拟演示各种参数。 ——软件带有非常强大的脚本语言并伴随有脚本向导功能,很容易的通过填表格的形式(简单的输入数字或数学公式)生成大段的脚本代码。 ——脚本语言的强大意味着更丰富的灵活性。例如,用户可以定义含有多个激光晶体的光腔模型等。 ——与其它类似的软件相比,RP Resonator 允许用户将谐振腔特性参数化。这意味着用户可以使用数学表达式定义,而不是仅仅只能定义简单的参数如腔长、反射镜曲率半径等。在生成的图像中,用户也可以观察不同位置的光腔特性。与脚本语言相结合,用户开发过程中会拥有极大的灵活性。而这功能是在其它类似软件中很难找到的。   非常适合以下机构: ——开发激光器、参量振荡器,或包含无源光学谐振腔的器件的工业公司 ——详细具体研究这些设备各个方面功能原理的研究实验室 ——教导人们对此类设备形成牢固技术理解的教育机构     在任何情况下,RP Resonator 都将为您提供实质性的竞争优势,因为您的工作将更加有效和高效:您将能够快速可靠的知道谐振腔的功能特性以及改进它们的方式。
武汉墨光科技有限公司 2022-10-19
一种磷硅镉单晶体的生长方法与生长容器
一种磷硅镉单晶体的制备方法,以富磷CdSiP2多晶粉末为原料,工艺步骤为:(1)生长容器的清洗与干燥;(2)装料;(3)将装有生长原料并封结的双层坩埚放入三温区管式晶体生长炉,然后将生长炉的高温区和低温区以30~60℃/h的速率分别升温至1150~1180℃、950~1050℃,并保持该温度,继后调节梯度区的温度,使温度梯度为10~20℃/cm,当所述生长原料在高温区保温12~36h后,控制双层坩埚以3~6mm/day匀速下降,当双层坩埚下降到低温区并完成单晶生长后,使其停止下降,在低温区保温24~72h,保温时间届满,将高温区、梯度温区、低温区的温度同时以20~60℃/h降至室温。一种单晶体生长容器,由内层坩埚和外层坩埚组成,内层坩埚与外层坩埚之间的环形腔室内加有调压用CdSiP2多晶粉末。
四川大学 2021-04-11
一种制备基于叶酸修饰的混合光子晶体复合材料的方法
本发明公开了一种制备基于叶酸修饰的混合光子晶体复合材料的方法,采用二氧化硅胶体微球作为模板,并将其置于反应管中,加入预凝胶A反应、聚合后,去除二氧化硅胶体微球,制得反蛋白石骨架,将预凝胶B加入该骨架中反应、聚合20~60s后,即制得混合光子晶体,随后配制叶酸?二甲基亚砜混合溶液,加入1?(3?二甲氨基丙基)?3?乙基碳二亚胺盐酸盐,混合光子晶体和N?羟基琥珀酰亚胺反应后,洗涤,即可制得该复合材料。本发明的显著优点为制法简单容易,对设备要求低,制得的复合材料稳定性强,具有优越的生物兼容性和磁性响应性,能够特异、灵敏、简单、有效地抓捕到髓性白血病耐药细胞,并使得耐要细胞株具有良好的生物活性。
东南大学 2021-04-11
一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉
本发明公开了一种热场协调控制的提拉法晶体生长炉,包括绝热外壳及设置在绝热外壳内的生长室,生长室设置有坩埚,绝热外壳的外部设置有用于对坩埚进行加热的主电磁感应线圈,主电磁感应线圈的下方设置有副电磁感应线圈,主电磁感应线圈和副电磁感应线圈之间存在间距,有多根底部进气管和多根中部进气管平行伸入绝热外壳内,绝热外壳的顶部设置有气流出口,气流出口作为籽晶杆移动通道,绝热外壳内设置有用于削弱辐射传热的可伸缩遮热板和用于调整
华中科技大学 2021-04-14
一种二维纳米 SnSe2 晶体材料的制备方法
本发明公开了一种二维纳米 SnSe2 晶体材料的制备方法,采用 化学气相沉积法用单质硒和卤化锡在衬底上沉积所需厚度的 SnSe2 晶 体;其中,沉积设备为水平管式炉,顺序设有上游低温区、中心温区 以及下游低温区,所述单质硒和卤化锡分别独立但紧靠放置于上游低 温区,所述衬底放置于下游低温区;利用不同温区的温度差,单质硒 蒸汽和卤化锡蒸汽形成于上游低温区;两者反应生成 SnSe2,并通过 沉积载气带入下游温区,在衬底上沉
华中科技大学 2021-04-14
层状二维材料的晶体和缺陷结构精准调控研究提供了新思路
通过溶剂热方法,成功制备出一种层间距宽化并富有缺陷的1T-VS 2 纳米片,展现出优异的电催化析氢性能。由于有机溶剂分子以及在反应过程中产生的铵离子等的插层作用,该溶剂热法制备出的VS 2 纳米片层间距宽化至1.0 nm,比块体VS 2 材料的层间距(0.575 nm)增加了74%。层间距的宽化引起晶格的畸变而引入众多的缺陷,丰富的缺陷赋予VS 2 纳米片更多的活性位点,层间距的宽化还进一步改变了VS 2 材料的电子结构,从而使得该VS 2 纳米片具有更加优化的氢吸附自由能(∆ G H )。HER测试结果表明,该VS 2 纳米片呈现出优异的电催化性能,具有较小的塔菲尔斜率(36 mV dec −1 )、具有较低的过电位(-43 mV@10 mA cm −2 )和良好的稳定性(60 h)。此外,通过第一性原理计算的结果表明,层间距宽化的VS 2 具有更优化的∆ G H (-0.044 eV),媲美贵金属Pt(如图3 ). 。并且,层间距的宽化可以降低缺陷形成能,使材料更易形成缺陷。这里,理论计算结果和实验相一致,较好地证明了通过层间距和缺陷的精细调控,可以有效提升二维材料的电催化析氢反应活性, 揭示了层间距和缺陷结构调控对提升电催化析氢的基本原理。此项研究工作为层状二维材料的晶体和缺陷结构精准调控研究提供了新思路,为开发高性能电催化析氢材料研究打开了一扇新窗户。
南方科技大学 2021-04-13
首页 上一页 1 2
  • ...
  • 29 30 31
  • ...
  • 357 358 下一页 尾页
    热搜推荐:
    1
    云上高博会企业会员招募
    2
    64届高博会于2026年5月在南昌举办
    3
    征集科技创新成果
    中国高等教育学会版权所有
    北京市海淀区学院路35号世宁大厦二层 京ICP备20026207号-1