|
搜索
搜 索
高等教育领域数字化综合服务平台
光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法
本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法，可以对 IC 制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测参数的数值。
华中科技大学
2021-04-14
一种同步合成两种Zno纳米结构的方法
具体作法是：将方块面电阻为10-14欧的掺杂氟的SnO2透明导电玻璃，依次用HCl溶液、洗衣粉溶液、异丙醇溶剂超声洗净，晾干；采用三电极电解池体系，铂片为辅助电极，饱和甘汞电极为参比电极，掺杂氟的SnO2透明导电玻璃为工作电极，电解液为Zn(NO3)2和KCl的浓度均为0.3M的混合液；电解池敞开下沉积1.3-1.5小时，沉积温度70℃，电压为-1.0V；沉积后，液面下的黑色沉积物为ZnO镂空纳米片，液面上的白色沉积物为ZnO纳米棒。该方法可同时获得ZnO镂空纳米片和纳米棒两种不同形貌的ZnO纳米结构，其方法简单、节能，操作容易，成本低，且制备物纯度高。
西南交通大学
2016-10-20
一种加工硅通孔互连结构的工艺方法
本发明公开了一种加工硅通孔互连结构的工艺方法，步骤为：①在基板上刻蚀盲孔；②在基板上沉积一层图案化介电质层；③刻蚀图案化介电质层，刻蚀掉盲孔底部的介电材料，保留盲孔侧壁的介电材料，在基板上形成介电质孔；④在介电质孔上沉积一层导电材料，形成导电孔；⑤在导电层上再沉积一层图案化介电质层，填充导电孔；⑥刻蚀板背面，暴露出导电层，在导电层上形成焊料微凸点。图案化介电质层的材料优选聚对二甲苯。本发明简化了工艺步骤，减少工艺时间并降低了费用；使用二层图案化介电质层，降低了寄生电容，提升了互连电性能，适用于高速和
华中科技大学
2021-04-14
一种多层薄膜微结构自对准制备方法及装置
本发明公开一种多层薄膜微结构自对准制备方法，通过分隔板将喷头内腔体纵向分为至少两个腔室，在各腔室内注入不相溶的高分子溶液，并汇聚于喷头的喷嘴处；施加高压静电场，同时驱使接收板做平面直线运动，在高压静电场作用下喷嘴处的溶液变形成泰勒锥，从泰勒锥尖端拉出射流，射流中的多种高分子材料先后沿着接收板运动的方向进行静电纺丝，形成多层薄膜微结构。本发明还公开一种实现上述方法的装置，分隔板纵向设于喷嘴内，将喷嘴内腔体分隔为至少左右两个腔室；在喷嘴端部设有端部盖板，端部盖板与喷嘴端部之间设有密封片；喷嘴的侧面开有溶
华中科技大学
2021-04-14
锗硅纳米低维结构的可控制备方法及产品
本发明公开了一种锗硅纳米低维结构可控制备方法及产品，该 方法具体为：(a)清洗硅衬底；(b)在硅衬底上外延生长锗硅合金形成外 延衬底；(c)涂敷电子抗蚀剂，通过电子束光刻技术在电子抗蚀剂上曝 光所需的锗硅纳米低维结构图形；(d)采用干法刻蚀将锗硅纳米低维结 构图形转移到外延衬底上得到样品；(e)去除样品上的电子抗蚀剂；(f) 高温环境下进行氧化和退火，使得氧气优先与硅反应形成氧化硅而锗 被析出；(g)在氮氢混合气氛下
华中科技大学
2021-04-14
基于机床不同结构状态的数控机床频响函数获取方法
一种基于机床不同结构状态的数控机床频响函数获取方法，该方法包括，步骤(1)将整个机床划分为两部件，包括固定部件和可动部件；步骤(2)获得可动部件在第一位置时机床结构状态的模态参数；步骤(3)获得可动部件在第二位置时机床结构状态的模态参数；步骤(4)利用不同结构状态的模态参数先计算得出模态标定因子，后结合频响函数的模态表达式合成机床在该结构状态的频响函数，本发明方法不需要测量输入力即可获得频响函数，应用本发明方法可实时监控机床的动态特性。
华中科技大学
2021-04-14
一种利用组合结构实现承重墙托换方法
本发明公开了一种利用组合结构实现承重墙托换方法，该方法包括步骤:施工前障碍物清除，掏空 钢柱位置砖墙，设置支撑安全措施;基础放线定位开挖，钢筋制作，架设模板，预埋地脚螺栓，浇筑基 础混凝土并养护;钢柱及节点板制作，柱脚安装及节点连接;原砖墙包钢加固，加固框梁包钢处理;钢 梁制作与安装;钢结构防腐处理;待钢框架稳定无异常后，清理钢框架周围杂物并进行基础回填，对钢 梁和混凝土楼
武汉大学
2021-04-14
基于机床不同结构状态的数控机床频响函数获取方法
一种基于机床不同结构状态的数控机床频响函数获取方法，该 方法包括，步骤(1)将整个机床划分为两部件，包括固定部件和可动部 件；步骤(2)获得可动部件在第一位置时机床结构状态的模态参数；步 骤(3)获得可动部件在第二位置时机床结构状态的模态参数；步骤(4)利 用不同结构状态的模态参数先计算得出模态标定因子，后结合频响函数的模态表达式合成机床在该结构状态的频响函数，本发明方法不需 要测量输入力即可获得频响函数，应用本发明方法可实时监控机床的 动态特性。
华中科技大学
2021-04-14
一种纳米级尺寸结构测量方法及装置
本发明公开了一种纳米级尺寸结构测量方法及装置，可以同时测量纳米级尺寸结构宽度、深度、侧墙角等参数。本发明方法步骤如下：将白光光束经滤光、起偏后垂直投射到包含纳米级尺寸结构的样件表面；采集样件表面反射信号，计算得到纳米级尺寸结构显微成像图；将测量离焦扫描成像分布图与理论离焦扫描成像分布图进行匹配，提取得到待测纳米级尺寸结构的几何参数值。本发明所提供的纳米级尺寸结构测量装置，能为纳米制造技术如传统光刻和纳米压印等基于图形转移的批量化制造技术中所涉及的各种典型纳米级尺寸结构，如孤立线条阵列结构、密集型线条
华中科技大学
2021-04-14
一种多层薄膜微结构自对准制备方法及装置
本发明公开一种多层薄膜微结构自对准制备方法，通过分隔板 将喷头内腔体纵向分为至少两个腔室，在各腔室内注入不相溶的高分 子溶液，并汇聚于喷头的喷嘴处；施加高压静电场，同时驱使接收板 做平面直线运动，在高压静电场作用下喷嘴处的溶液变形成泰勒锥， 从泰勒锥尖端拉出射流，射流中的多种高分子材料先后沿着接收板运 动的方向进行静电纺丝，形成多层薄膜微结构。本发明还公开一种实 现上述方法的装置，分隔板纵向设于喷嘴内，将喷嘴内腔体分隔为至 少左右两个腔室；在喷嘴端部设有端部盖板，端部盖板与喷嘴端部之 间设有密封片；
华中科技大学
2021-04-14