产品概述： 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 磁光克尔效应测量系统 磁光克尔效应装置是一种基于磁光效应原理设计的超高灵敏度磁强计，是研究磁性薄膜、磁性微结构的理想测量工具。旋转磁光克尔效应（RotMOKE）是在磁光克尔效应测量基础上的一种类似于转矩测量各向异性的实验方法，可以定量的得到样品的磁各向异性的值。但由于电磁铁磁场大小的限制，只适合于测量磁各向异性的易轴在膜面内而且矫顽场不太大的磁性薄膜材料。结合源表可以进行样品的磁输运性能测量。RotMOKE具有以下特点：测量精度高、测量时间短；非接触式测量，是一种无损测量；测量范围为一个点，可以测量同一样品不同部位的磁化情况；可以产生平滑、稳定的受控磁场，并且磁场平滑过零。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 应用领域： 磁光克尔效应测量系统广泛应用于诸如磁性纳米技术、自旋电子学、磁性薄膜、磁性随机存储器、GMR/TMR等磁学领域。 可测试材料：记录磁头，磁性薄膜，特殊磁介质，磁场传感器 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 产品特点： 1·测量灵敏度高，稳定性好，噪音低 2·非接触式测量，是一种无损测量 3·可以测量同一样品厚度不等的楔形磁性薄膜 4·可以将样品放到真空中原位测量 5·可以测量同一样品不同部位的磁化情况 6·纵向、横向和极向克尔效应测试 7·三百六十度电动旋转样品，可测试样品各向异性 8·手动左右和上下位移样品，可测试样品表面不同点的克尔效应 9·样品座有电接口，可加入磁电耦合测试。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 技术指标: 1· 样品尺寸：大Φ10mm的圆 2· 克尔角分辨率（δ）：0.001度； 3·椭偏率分辨率（ε）：0.1%； 4·小光斑（Φ）：10微米； 5· 大磁场：单维0.26特斯拉； 6· 样品电动角度步进0.1度，手动位移步进10微米； 7·噪音：1%。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 技术参数： 1·光学平台：    刚性隔震，不锈钢贴面，1200*800*800mm，M6螺孔，25mm阵距，150mm台板厚度，带脚轮。台面平整度0.1/1000mm，平台载荷300Kg，固有频率≤2.5Hz，阻尼比0.12~0.13R/S。 2·矢量电磁铁： 锦正茂二维矢量电磁铁，每维大磁场0.26T，极面直径30mm，磁场间隙40mm，中心10mm正方体内均匀区1%。 3·电磁铁电源： 锦正茂单相双极性恒流，大10A，小分辨率0.1mA，稳定性50ppm/h，对应小分辨率0.1Gauss。 4·激光器： Newport    632.8nm，2mW，2%稳定度，噪音<1% rms（30Hz~10MHz），通过聚焦透镜光斑小为10μm的圆。 5·起偏/检偏器：格兰-汤普森棱镜，外径25.4mm，通光孔径10mm，消光比<5*10^-5，角度范围14~16°，波长范围350~2300nm。 6·聚焦透镜：K9双凸，设计波长633nm，外径25.4mm，焦距150mm，焦距误差±0.5%，面精度X方向λ/4，Y方向λ/2。 7·四分之一波片：Ø25.4mm，波长632.8nm，投射波前畸变λ/8，相位延迟精度λ/100。 8·光电传感器：15mm²感应面积，0.21A/W响应度，暗电流1nA，对430~900nm波长光敏感，分流电阻200Mohm。 9·电流放大器：1pA/V大增益，1MHz带宽，大输入±5mA，大输出±5V，增益精度为输出的±0.05% 10·高精度电压表：六位半，小分辨率0.1μV，90天准确度达到0.002%，四位半精度下快2000 readings/second 11·手动位移和电动旋转样品杆：   XYZ三维位移，XY行程25mm，Z行程13mm，转动360度，样品座为直径11mm的圆，上有电接头。 12·计算机：联想商用，集成多串口卡。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！

一种应用于预制墙体单元中的竖向连接预埋件，所述预埋件包括侧面敞口的盒体，所述盒体的底板上设有贯穿的L形连接孔，所述底板左右延伸至左、右侧板外构成延伸部，所述延伸部垂直连接有一定长度的钢筋件。本实用新型竖向连接预埋件预埋于预制混凝土墙体单元中，在墙体单元竖向连接时，本实用新型竖向连接预埋件与墙体单元对应的起吊吊点配合，通过螺杆、螺母将上下墙体之间进行牢靠固定，方便了墙体之间的上下连接拆装，且稳定性好。

本发明公开了一种面向计算过程的四边形单元实时加密-减密方 法，用于提高基于四边形单元的板料冲压有限元模拟的计算效率。本 发明包括四边形单元加密方法和四边形单元减密方法两部分，其中四 边形单元加密方法包括步骤(1)：初始加密判断；步骤(2)：补充加密判 断；步骤(3)：单元分割，四边形单元减密方法包括步骤(1)：减密判断； 步骤(2)：单元合并。将本发明应用于板料冲压有限元模拟，能实时调 整有限元计算过程中的网格密度，

本发明公开了一种电场辅助写入型磁隧道结单元及其写入方法； 电场辅助磁隧道结单元具有双势垒结构，包括第一电极层，以及依次 形成在第一电极层上的第一磁性层、第一绝缘隧穿层、第二磁性层、 第一金属层、第二绝缘层和第二电极层。第一磁性层为参照层 RL，第 一绝缘层为隧穿层 I，第二磁性层为自由层 FL，第一金属层为非磁金 属层 NM，第二绝缘层为介电层 I*；当在磁隧道结单元的两端施加电 压时，电场通过两个绝缘层引入到 I/FL 和 FL/NM 界面，从而调控 I/FL 的界面磁各向异性，并控制 FL/NM

本发明公开了一种电场辅助写入型磁隧道结单元及其写入方法； 电场辅助磁隧道结单元具有双势垒结构，包括第一电极层，以及依次 形成在第一电极层上的第一磁性层、第一绝缘隧穿层、第二磁性层、 第一金属层、第二绝缘层和第二电极层。第一磁性层为参照层 RL，第 一绝缘层为隧穿层 I，第二磁性层为自由层 FL，第一金属层为非磁金 属层 NM，第二绝缘层为介电层 I*；当在磁隧道结单元的两端施加电 压时，电场通过两个绝缘层引入到 I/

本实用新型涉及一种多关节柔性水下机械手关节单元结构。本实用新型以中间单元的两轴端为支撑，联接端盖通过其轴端圆槽定位，同时联接端盖和中间单元侧面分别开有联接端盖侧壁孔、中间单元侧壁孔；挡片安装在中间单元的内腔；内筒两端和挡片的另一端面接触，挡片的该端面开有和内筒外径一样大小的挡片圆槽；内壳安装在中间单元的内腔，两端面和联接端盖的下表面接触，并通过联接端盖的下表面定位防止其轴向运动，内壳的内壁和挡片外圆周面接触，并对其产生周向定位作用。本实用新型在满足强度要求的前提下，为减少机械手质量，主要零件都采用挖空处理，因此关节单元的自重相较传统的水下作业机械臂很小。

本发明涉及一种电液伺服阀叠合量气动测量装置及方法。本装置及系统对电液伺服阀的进油腔或回油腔提供稳定的气压，驱动阀芯缓慢及微量的移动，采集阀芯运动过程中气体流量、阀芯位移数据，并进一步计算出电液伺服阀各工作边的叠合量。本装置及系统主要包括：电动平移台、接触式位移传感器、流量控制器、配气座、气动滑台、气爪、气路系统等。电动平移台带动阀芯做缓慢及微量移动；气动平移台实现工艺壳体的压紧、阀芯的夹紧、位移传感器与气爪的接

FCP磁场控制平台产品概述： FCP磁场控制平台是根据磁控原理设计的理想磁测量系统，磁场范围超过3T，利用TESTIK475高斯计稳定磁场控制，适合各系列电磁铁配置，连续可变的电磁气隙，实心的和光学入口极帽，线型双极，真实四象限电磁铁电源。 FCP磁场控制平台磁测量系统磁光测量仪器 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ TESTIK475型高斯计努力保持确切的磁场密度，用户输入的控制设定点，用G、T、Oe、A/m来表示。北京锦正茂的电磁铁磁场控制平台集成了硬件和控制部件来形成一个变化的磁场平台，可以被独立的被利用或做为用户设计的测量系统的一个基础。FCP磁场控制平台磁测量系统磁光测量仪器 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ FCP磁场控制平台标准配置： TESTIK475有1个计算机接口：RS-232串口:。这个接口可以设置所有仪器参数和测量值得读回。在磁场控制期间，接口的读数率是额定每秒30个读数。475的LabVIEW驱动是提供的（选配）。磁场控制平台不含应用软件。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 锦正科技以现代高科技产业和传统产业为核心业务，对内承接科研生产任务，对外以商务平台方式实现军民两用技术成果转换，形成了科学管理的现代化经营模式，专门从事物理、化学和材料等领域的科学仪器研发、销售各类型超低温测试设备（液氮 液氦）制冷机系统集成 ，定制 ，高低温真空磁场发生系统，Helmholtz线圈（全套解决方案），电磁铁（全系列支持定制），螺线管，电子枪（高稳定性双极性磁铁恒流电源1ppm），高低温磁场真空探针台，霍尔测试系统，电输运测量解决方案，磁光克尔效应测量系统等产品种类齐全，性能可靠，至今已有近10余年的历史，是国内（较早）生产探针台，电输运，电磁铁的厂家之一。    

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本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测 量方法，可以对 IC 制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参 数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最 优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际 纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光 学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取 算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与 待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测 参数的数值。