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一种具有微结构的a-Fe2o3光电极的制备方法
一种具有微纳结构的α-Fe2O3光电极的制备方法,具体作法是:取不锈钢片和钛片,用砂纸抛光,清洗,将洗净的材料超声处理,取出备用;配制电镀液,以钛片做阴极,不锈钢片做阳极,采用稳压直流电源电镀时间分别3-5s,室温30℃,电镀完后将钛片取出,洗净,晾干,得纳米铁立方体,再将覆盖有纳米铁立方体的钛片至于马弗炉中焙烧,取出即得微纳结构的α-Fe2O3光电极。该方法设备简单,能耗低,适合大规模生产;同时用该法制备的所制得的微纳结构的α-Fe2O3呈球形,可以对光进行全方位的反射,同时微米球表面分布很多纳米带,可进一步增强电极的比表面积,作为光电极,其光的利用率高,电流密度大。
西南交通大学 2016-10-20
低维半导体表界面调控及电子、光电子器件基础研究
本项目提出并发展了通用的硅基二维半导体材料范德华外延技术, 实现了多种层状和非层状半导体材料的二维薄膜可控生长,解决了传统外延方法中存在的晶格失配、热失配等多物理失配技术难题,开辟了非层状材料在二维电子器件领域的研究新方向。 一、项目分类 重大科学前沿创新 二、成果简介 基于新材料、新架构的硅基高密度集成信息功能器件的自主发展是国家重大战略需求。本项目围绕新型低维半导体材料的大规模可控制备、物性调控及其电子、光电器件展开系统研究,主要技术创新点有: 一、二维半导体材料及其异质结构的大规模可控制备。本项目提出并发展了通用的硅基二维半导体材料范德华外延技术, 实现了多种层状和非层状半导体材料的二维薄膜可控生长,解决了传统外延方法中存在的晶格失配、热失配等多物理失配技术难题,开辟了非层状材料在二维电子器件领域的研究新方向。在晶圆级二维半导体材料的基础上构建出大规模的二维异质结构,得到了具有高可靠性和稳定性的集成器件。相关成果发表在Science Advances、Advanced Materials等国际知名刊物上,共计40余篇,授权专利16项;与中国电子科技集团公司第十三研究所等合作,成功实现了非层状GaN在大失配硅基衬底上的高质量外延,为第三代半导体的硅基集成提供了新的技术路线。 二、基于低维半导体材料的高灵敏光电器件。本项目通过发展高质量硫族半导体的外延生长新工艺,系统研究了MoTe2、PbS、CdTe等30余种二维半导体材料的光电性质,极大地拓展了传统的半导体光电材料体系;首次提出一种桥接的异质结构筑方式,大大降低了范德华间隙引入的光生载流子注入势垒,获得了高性能二维异质结光电器件;发展了纳米线场效应晶体管器件表面修饰方法,调节晶体管特性为强增强型,利用这种设计,实现了“锁钥”式高选择性、高灵敏度气体检测器件。本项目实现了从深紫外区到中远红外区的宽波段高灵敏度检测,相关成果发表在Science Advances、ACS Nano等国际知名刊物上,共计30余篇,授权专利6项。 三、后摩尔时代新型低维电子信息器件。本项目基于低维半导体材料及其异质结构的物性调控,首次提出了二维半导体材料中的“增强陷阱效应”物理模型,实现了高性能的亚带隙红外探测器和非易失性光电存储器;利用双极性沟道中横向载流子分布的特定电场依赖性,在二维黑磷晶体管中实现了室温负微分电阻特性;通过构筑亚5 nm沟道二维铁电负电容晶体管,使得亚阈值摆幅突破玻尔兹曼物理极限,有效降低了器件能耗;创新性的提出多层二维范德华非对称异质结构,实现了器件高性能与多功能的集成,器件性能为当时最高指标;发展了新型存算一体架构电子器件技术,首次演示了兼具信息存储和处理能力的二维单极性忆阻器,有望突破当前算力瓶颈,提供集成电路发展的新途径。相关成果发表在Nature Electronics、Nature Communications等国际知名刊物上,共计60余篇,授权专利7项。
武汉大学 2022-08-15
西安交大科研人员在多波长高性能二硫化钼场效应晶体管光电探测器的研究取得新进展
近日,西安交通大学电子科学与工程学院电子陶瓷与器件教育部重点实验室任巍教授和牛刚教授团队利用机械剥离获得少层二硫化钼材料制备具有背栅结构和纳米级沟道长度的光电晶体管,实现了较高探测率(>1013Jones)和响应率(>103A/W)。
西安交通大学 2023-02-02
带投币器模拟器
产品详细介绍带投币器,可开驾吧用
上海红外汽车模拟驾驶设备有限公司 2021-08-23
传感器应用实验器
产品详细介绍
齐齐哈尔大学科教仪器厂 2021-08-23
加工第三代半导体晶片光电化学机械抛光技术
第三代半导体氮化镓和碳化硅因其禁带宽、稳定性好等优点,已广泛应用于电子和光电子等领域。各种氮化镓和碳化硅基器件是5G技术中的关键器件。将半导体晶片制成器件,其中的一个关键加工步骤是晶片表面的抛光。然而,氮化镓和碳化硅的化学性质极其惰性,半导体工业目前常用的化学机械抛光方法无法对其实现高效加工。对此,我们从原理上创新发展了一种光电化学机械抛光技术,不仅可快速加工各种化学惰性半导体晶片(如:加工氮化镓的材料去除速率可达1.2 μm/h,比目前的化学机械抛光的高约10倍),而且可加工出原子台阶结构的平滑表面。设备简单,技术具有完全的自主知识产权。
厦门大学 2021-04-10
一种两性分子改性的钙钛矿光电功能材料及其应用
本发明公开了一种有机两性分子改性的 MzAyBXz+y+2 钙钛矿 基光电功能材料,其特征在于,该功能材料是以 ABX3 钙钛矿材料为 基 体 , 以 有 机 两 性 分 子 M 为 改 性 成 分 , 其 化 学 通 式 表 示 为 MzAyBXz+y+2。本发明还公开了所述光电功能材料的制备方法及其应 用。本发明所用的基体材料与改性材料成本低廉,原料丰富;此外, 制备方法可采用全溶液法,制备工艺简单,无需昂贵的设备仪器,同
华中科技大学 2021-04-14
一种基于二氧化锡纳米颗粒的光电逻辑门及其制备方法
本发明公开了一种基于二氧化锡纳米颗粒的光电逻辑门及其制备方法,该光电逻辑门包括相互配合使用的第一正光电导器件和第一负光电导器件,用于接收第一光信号;第一正光电导器件采用二氧化锡纳米颗粒;第一负光电导器件采用二氧化锡/碳纳米管复合材料;第一正光电导器件和第一负光电导器件均具有供能电极和输出电极;第一正光电导器件的输出电极与第一负光电导器件的输出电极相连,作为输出逻辑运算结果的端口用于输出逻辑运算结果,该逻辑运算结果受第一光信号影响。本发明利用二氧化锡/碳纳米管复合材料的负光电导效应,提高了负光电导器件
华中科技大学 2021-04-14
一种用于装配式剪力墙竖向接缝中抗拉不抗剪的连接装置
本发明提出一种用于装配式剪力墙竖向接缝中抗拉不抗剪的连接装置,在预制剪力墙片接缝处安装竖缝耗能装置,该竖缝耗能装置可仅提供竖向剪切耗能而不考虑抗拉问题,通过拉杆将预制剪力墙片水平方向拉结,保持剪力墙水平方向的整体性;在拉杆的一端焊接滑动锚垫板,其上预留竖向长圆孔,在装配式剪力墙片接缝边附近预留螺杆;预留竖向长圆螺栓孔使拉杆只传递水平方向应力而释放竖向剪力,使竖缝耗能装置更有效发挥耗能性能。本发明装置抗拉不抗剪,增加了不抗拉耗能装置在装配式剪力墙结构中的适用范围,增大了预制装配式混凝土剪力墙结构的耗能能力,将耗能装置与预制剪力墙综合考虑,便于工业化生产,可广泛应用于预制装配式混凝土剪力墙结构。
东南大学 2021-04-11
炼化设备 塔器& 分离器
塔器为圆筒形焊接结构的工艺设备,由筒体、封头和支座组成。主要用于蒸馏、提纯、吸收、精馏等化工单元操作,广泛用于气—液与液—液相之间传质、传热。
山东万邦石油科技股份有限公司 2021-06-18
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