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一级反渗透设备（带物联网功能）
根据用户需求订制工艺，工艺段分预处理、单级反渗透、电子级混床等。全自动运行、自动正反洗，水质在线监测，液位及压力等在线显示，系统模块化一体化设计，产水量范围0.5T/H---500...T/H
湖南中沃水务环保科技有限公司
2022-06-08
二级反渗透设备（带物联网功能）
根据用户需求订制工艺，工艺段分预处理、单级反渗透、二级反渗透、EDI电除盐、电子级混床等。全自动运行自动正反洗，水质在线监测，液位及压力等在线显示，系统模块化一体化设计，产水量范围0.5T/H---500...T/H
湖南中沃水务环保科技有限公司
2022-06-08
中国地形图模型 地理模型 教学设备模型
产品详细介绍供应,中国地形图,世界地形图,地动仪模型15种地形地貌模型,浑天仪模型,立体地球仪,日晷模型等地理教学设备模型供应地理园地理模型：中国地形图，世界地形图，立体地形地球仪，18种地貌模型（丹霞地貌，黄土地貌，冰川地貌，地下水地貌，等高线模型，喀斯特地貌，五种地形地貌，地上河地貌，梯田地貌，煤和石油地貌，风蚀地貌，风沙地貌，风化地貌，海岸地貌，火山地貌等），日晷模型，地动仪模型，浑天仪模型，九月星空亭模型，地球内部构造等模型。主要经营产品: www.midandiaosu.com 1、各种雕塑—名人头像/名人像/动物雕塑.校园文化浮雕,圆雕/花盆工艺/小工艺品雕塑； 2、教学设备模型：历史模型/地理模型/生物模型； 3、壁画/油画/画册设计
广州市米丹雕塑艺术有限公司
2021-08-23
中央空调实验设备（模拟房间）带微机接口
产品详细介绍
上海信霸网络科技有限公司
2021-08-23
AHK机电一体化实训设备
此实训台能满足AHK授课和考试标准化设计的多功能实训台，学生能在此平台上安装、接线、编程、调试等课程学习、实践和考试。面板上的三相四线制电源可为电机提供电源，强电和刷卡模块能够为学生安全用电提供保障。电源模块具有漏电保护、短路的功能。三相指示灯可以明确看出电路是否断路和缺相。提供一个三孔和两孔的相插座，方便学生外接实验检测设备。六路24V电源模块可直接给编程设备，传感器等提供安全供电。气源模块含有三种直径的气管孔径，可方便用于不同气动元器件同时调节气体压力。急停模块用于当设备处于安全隐患下能够快速切断设备主电源。同时实训台还配有电脑，提供学生自动化编程、画面组态等用途，显示器可360度距离调节。
上海旭拓电子通讯设备有限公司
2021-12-15
工信部等八部门联合印发《“十四五”智能制造发展规划》
智能制造是制造强国建设的主攻方向，其发展程度直接关乎我国制造业质量水平。发展智能制造对于巩固实体经济根基、建成现代产业体系、实现新型工业化具有重要作用。
工信微报
2021-12-28
一种铝合金周期性点阵多孔结构的快速成形制造方法
本发明公开了一种铝合金周期性点阵多孔结构的快速成形制造 方法。通过 CAD 软件构建基于点阵单元的周期性点阵多孔结构的三维 模型，将模型以 STL 格式输出，导入到 SLM 成形设备中，激光束根 据切片层的数据选择性地熔化区域内的铝合金粉末得到二维的金属结 构，经层层堆积最终可以得到与 CAD 模型一致的三维铝合金多孔结 构，再经过热处理、分离、喷砂等后续处理即可得到表面光洁、性能 良好的铝合金周期性点阵多孔结构。本
华中科技大学
2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO<sub>2</sub>薄膜、2)在有 SiO<sub>2</sub>层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO<sub>2</sub>，将光刻的图形转移到 SiO<sub>2</sub>层、4)镀Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微
华中科技大学
2021-04-14
制造有机场效应晶体管的方法、实现该方法的喷嘴及装置
本发明公开了应用混合型喷嘴喷印制造有机场效应晶体管的方 法，包括以下步骤：1)喷印 Gate 极；2)喷印介电层；3)成形导电单元： 混合型喷嘴喷出的液体在接收基板上沉积形成导电单元及覆在导电单 元上的油层；4)转印；5)制造连接电极层；6)组合封装。本发明工艺简 单，在混合型喷嘴制备完成的情况下，静电纺丝工艺实现简单，对环 境要求也较低；成本低，设备成本低，同时制造过程中均只需要一定 浓度的溶液，损耗少；精度、分辨率高，不需重复定位，而且静电纺 丝所得纤维器件均在微纳尺度，集成度完全满足电路要求；
华中科技大学
2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工 艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO2 薄膜、2)在有 SiO2 层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO2，将光刻的图 形转移到 SiO2 层、4)镀 Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微米线表面镀一层 ZnO 膜、8)在 Si 微米线表面生长 ZnO 纳米线、9)在 ZnO 纳米线表面制备一层 CdS 薄 膜 、 10) 在 ZnO/CdS 结 构 表 面
华中科技大学
2021-04-14