使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测，选用了高分辨率低照度进口制冷CCD，并完美结合大光圈电动镜头，可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD，较大程度的消除了背景噪声，超大光圈镜头，收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮，满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围： 核酸检测：各种荧光染料，如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测：考马斯亮蓝胶，银染胶，以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统； 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析；； JP-K600化学发光成像系统产品特色： 采用最新一代冷却CCD相机，605万像素（可选配890万像素）； 配备F/0.95大光圈定焦镜头，（可选配F/0.8镜头）具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源，具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台，可兼容拍摄各种厚度的样品，自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台，并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间（0-60分钟）   JP-K600化学发光成像系统技术参数： CCD芯片 Sony ICX695，4/3英寸，2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶（0-65535） 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1，2×2，3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度，相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 ＜0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台，面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜

成果简介：GEOSAR卫星运行在高轨道，长合成孔径时间使得目标回波具有距离徙动量大、空变性剧烈的特点，因而成像处理难度大。同时电离层对信号传播的影响也是影响卫星成像性能的重要因素。 GEOSAR地面成像验证系统利用导航卫星作为照射源、在地面配置多通道接收机分别接收直达波和回波信号，其中直达波信号用于实现卫星与接收机间的时频同步和分析电离层的影响，回波信号可用于实现成像处理。通过研究此模式下回波信号特性和成像算法，因此利用该验证体制可实现对GEOSAR成像机理的等效地面成像验证；同时，

不规则硅胶层析色谱填料 不规则硅胶层析色谱填料大多为裸硅胶，是最传统的，经济性高，工业规模化应用常压低压中最合适的色谱层析填料，请根据实际情况选择各项指标参数。 关键指标： 颗粒度（外在形态、粒径密度大小分布等）； 孔径（如比表面、孔容相关内在指标）。 这两项的选择最为重要，会直接影响色谱应用中如压力、保留值、收率、纯度和效率等生产关键因素。 不规则层析色谱填料选择指南： 1、粒径的选择： 2、孔径的选择：   不规则层析色谱填料指标规格参数： 名称 不规则硅胶层析色谱填料 孔径 （1）30-50Å    （2）60-80Å （3）80-110Å   （4）120-200Å （5）300-500Å   （6）600-1000Å 比表面 50-350-550-700㎡/g 粒径 （1）40-80目    （2）60-80目    （3）60-100目     （4）80-100目   （5）80-120目    （6）100-160目   （7）100-200目  （8）150-250目   （9）200-300目   （10）250-350目 （11）300-400目  （12）230-400目 （13）400-600目  （14）600-800目  （15）800-1000目 （16）20-45um     （17）10-20um    （18）40-63um    pH pH值：3-5、6-8、6-7、7-8 适用色谱层析设备 高中低压柱、常压减压柱、中小试工业化柱； 玻璃、不锈钢等各种层析柱； Flash柱、制备柱； 包装方式 500克、1公斤、10公斤、20公斤； (瓶装、袋装、纸箱、桶装) 备注 以上为批量化生产规格，均可提供试用样品； 如孔径、粒径、金属元素等有特殊要求可定制生产

不规则硅胶层析色谱填料 不规则硅胶层析色谱填料大多为裸硅胶，是最传统的，经济性高，工业规模化应用常压低压中最合适的色谱层析填料，请根据实际情况选择各项指标参数。 关键指标： 颗粒度（外在形态、粒径密度大小分布等）； 孔径（如比表面、孔容相关内在指标）。 这两项的选择最为重要，会直接影响色谱应用中如压力、保留值、收率、纯度和效率等生产关键因素。 不规则层析色谱填料选择指南： 1、粒径的选择：   2、孔径的选择： 不规则层析色谱填料指标规格参数： 名称 不规则硅胶层析色谱填料 孔径 （1）30-50Å    （2）60-80Å （3）80-110Å   （4）120-200Å （5）300-500Å   （6）600-1000Å 比表面 50-350-550-700㎡/g 粒径 （1）40-80目    （2）60-80目    （3）60-100目     （4）80-100目   （5）80-120目    （6）100-160目   （7）100-200目  （8）150-250目   （9）200-300目   （10）250-350目 （11）300-400目  （12）230-400目 （13）400-600目  （14）600-800目  （15）800-1000目 （16）20-45um     （17）10-20um    （18）40-63um    pH pH值：3-5、6-8、6-7、7-8 适用色谱层析设备 高中低压柱、常压减压柱、中小试工业化柱； 玻璃、不锈钢等各种层析柱； Flash柱、制备柱； 包装方式 500克、1公斤、10公斤、20公斤； (瓶装、袋装、纸箱、桶装) 备注 以上为批量化生产规格，均可提供试用样品； 如孔径、粒径、金属元素等有特殊要求可定制生产

技术规格 指向特性:single (electret capacitor) 频率响应:60Hz~15KHz 灵敏度:-45dB/±3dB(1KHz) 低频衰减:125Hz 6dB/OCTAVE 输出阻抗:200Ω 最大承受音压:135dB SPL 1KHz At1% T.H.D 信噪比:66dB.1KHz AT PA 动态范围:111dB.1KHz AT MAX SPL 电源供应:DC 9V~48V 导线长度:5m(unbalanced)   SPECIFICATION： Polar Pattern:single (electret capacitor) Frequency response:60Hz~15KHz Sensitivity:-45dB/±3dB(1KHz) 低LF attenuation:125Hz 6dB/OCTAVE Output impedance:200Ω Maximum bearing:135dB SPL 1KHz At1% T.H.D SNR:66dB.1KHz AT PA Dynamic range:111dB.1KHz AT MAX SPL Power supply:DC 9V~48V Wire length:5m(unbalanced)

技术规格 指向特性:single (electret capacitor) 频率响应:60Hz~15KHz 灵敏度:-45dB/±3dB(1KHz) 低频衰减:125Hz 6dB/OCTAVE 输出阻抗:200Ω 最大承受音压:135dB SPL 1KHz At1% T.H.D 信噪比:66dB.1KHz AT PA 动态范围:111dB.1KHz AT MAX SPL 电源供应:DC 9V~48V 导线长度:5m(unbalanced)   SPECIFICATION： Polar Pattern:single (electret capacitor) Frequency response:60Hz~15KHz Sensitivity:-45dB/±3dB(1KHz) 低LF attenuation:125Hz 6dB/OCTAVE Output impedance:200Ω Maximum bearing:135dB SPL 1KHz At1% T.H.D SNR:66dB.1KHz AT PA Dynamic range:111dB.1KHz AT MAX SPL Power supply:DC 9V~48V Wire length:5m(unbalanced)

主要功能和应用领域：微波反射结合准光学技术是测量等离子体密度涨落空间分布在国际上新的发展方向。微波反射成像诊断是近十年来在微波反射技术和准光学成像技术基础之上发展起来的，主要用于测量等离子体二维或三维磁流体不稳定性以及电子密度涨落的新技术。 微波反射成像系统照片 特色及先进性：采用微波反射及准光成像相结合的方式，探测聚变等离子体内部密度扰动，为诊断等离子体提供新的更有力工具。 技术指标：纵向分辨率3-8cm可调；接收阵列：2*8。 能为产业解决的关键问题和实施后可取得的效果：可以通过多个频率，将通常的二维密度扰动诊断变为三维诊断，为更深入的研究聚变等离子体内部机理提供有力手段。

微波反射结合准光学技术是测量等离子体密度涨落空间分布在国际上新的发展方向。微波反射成像诊断是近十年来在微波反射技术和准光学成像技术基础之上发展起来的，主要用于测量等离子体二维或三维磁流体不稳定性以及电子密度涨落的新技术。

荧光显微成像是分子生物学研究的主要手段，然而由于激发光的高光子通量和光毒性，成像总次数受限，因而目前还未能全面揭露细胞内部细胞器的相互作用及动态过程。活细胞的高分辨长时程成像目前仍然是生物学研究中的巨大挑战，由于轴向扫描速度的限制，三维荧光成像需要更大的激发光子通量，而光漂白效应则极大限制了三维成像的总时长。同时，由于荧光光谱较宽，成像过程中通道数目受限，荧光成像一般仅能同时标记有限种类的分子。而电镜等辅助成像手段虽可观察多种细胞器，但仅能提供静态快照作为辅助。光学衍射层析显微成像具有光通量低，光毒性小的特点，可有效解决荧光成像遇到的问题。光学衍射层析成像系统中，先前的工作缺少荧光成像作为辅助，衍射层析图像中的多数结构缺乏标定，仅能进行形态学分析。传统光学衍射层析成像中，也仅对脂滴、染色体和线粒体进行了结合宽场荧光成像的鉴别标定。 北大研究团队提出一种结合光学衍射层析显微成像和结构光照明超分辨荧光成像的双模态显微成像方法，用超分辨荧光成像辅助光学衍射层析进行共定位成像。在双模态成像系统中，光学衍射层析成像具有优异的分辨能力，且无光毒性的限制，因而可以长时间、全面地记录细胞内各种细胞器间的三维相互作用动态；荧光成像模态可提供分子层面的化学特异性分辨能力，因此成为鉴别无标记成像模态成像结果的重要依据。利用光学衍射层析-结构光照明荧光双模态成像系统，可开展一系列的活细胞成像研究，并应用于病理诊断、药理分析、耐药性研究等。

本发明公开一种磁纳米温度成像方法，首先，对磁纳米粒子样品所在区域同时施加恒定直流磁场和交流磁场，采集磁纳米粒子的交流磁化强度信号，检测出各奇次谐波幅值；然后，将恒定直流梯度场替换为含梯度磁场的组合直流磁场，采集磁纳米粒子的交流磁化强度信号，检测出各奇次谐波幅值；计算两次谐波幅值差值；利用朗之万函数的泰勒级数展开建立奇次谐波差值与温度的关系式，求解关系式获得在体温度；最后，改变直流梯度场至下一位置，直到完成整个一