“循环撞击流干燥机” （中国专利号Chinese Patent  ZL No 03235519.x）为我室研制的新型干燥机。 在化工、医药、轻工等许多工业生产中需要对物料进行干燥处理；其中的一大类是粉粒状物料。湿的粉粒状物料中水分的赋存状态大致有三类：表面游离水、孔隙水和结晶水。凡含有孔隙水或结晶水的物料，同时也含有游离水。游离水很容易脱除，现有的多种干燥机例如流化床干燥机、气流干燥机等都可以满足脱除这类水分的要求；脱除孔隙水和结晶水就比较困难，通常需要相当长的时间。对某些孔隙水或结晶水含量较低的松散粉粒状物料，采用流化床这类停留时间较长的干燥机可以满足要求。然而某些物料水分含量较高，并含有孔隙水或结晶水，例如悬浮法制得的PVC含水25%，其中表面游离水约5－8%，其余为孔隙水。这类物料的干燥必须解决好两个问题：(1)必须快速脱除绝大部分表面水，否则半干状态的物料很容易结成团块，破坏干燥机正常操作；(2)总的干燥时间必须足够长，否则产品水分含量达不到要求。对于这类物料，传统的技术多半是采用气流—流化床两级干燥，至今仍广泛采用。气流干燥在数秒钟内迅速脱除表面水；流化床则提供足够长的干燥时间，保证达到最终脱水要求。这种两级干燥技术流程长、设备庞大，能耗也较高。上世纪80年代末至90年代初，德国研发了一种名为旋风干燥机的PVC专用干燥装置；我国已引进消化并在若干生产厂使用。该机本体外形为圆筒，内壁设有螺旋形折流挡板。热空气携带湿物料切向进入干燥机下部并旋转向上运动。由于折流挡板的存在延长了物料停留时间，可以满足干燥要求。该技术的不足之处是已干燥物料全部被气体带出干燥机，增加了旋风分离除尘回收系统的负荷，动力消化较大；装置结构也较复杂。 本实用新型的目的，是克服上述现有技术的不足，提供一种能够同时满足脱除游离水和孔隙水或结晶水要求的更有效和节能的粉粒状物料干燥装置。 本实用新型采用同轴垂直撞击流原理工作。循环撞击流干燥机由本体、上加速管和与之等直径的下加速管三个基本部件组成；本体为异径锥/柱形圆筒。其下半部分为较小的圆筒下接锥台形筒体，锥台小直径端与下进气管连接；锥台近圆筒壁处设有出料管；该下半部分与下加速管之间形成环室，是循环物料运动的空间；下加速管的下端与下进气管的顶端之间保留一定的距离，使得从下进气管进入的气流能够抽取并携带环室中下流的物料进入下加速管向上运动。本体的上半部分直径逐渐扩大为一个更大的、带顶盖的圆筒，其内部除了与之同轴的上加速管所占截面以外是沉降室；顶盖上设有排气管。上加速管兼作上进气管；在其伸出本体顶盖一定高度处连接进料管。上加速管的下端与下加速管的顶端之间保持一定的距离，即撞击距离；从上加速管出来向下流动的气－固两相流与从加速管出来向上流动的气－固两相流在该距离的中点处撞击，形成高度湍动的撞击区。 操作时在下进气管和上加速管连续通入热气流的情况下，先用适当的加料机例如螺旋给料机通过进料管加入同种干物料，由热气流带入干燥机，直至环室中充满干物料时停止加干料。此时干物料在干燥机内循环。待干燥机内温度达到正常后，用加料机通过进料管连续加入待干燥湿物料，开始运行。从进料管进入上加速管的湿物料与热气流混合并被加速，形成气－固悬浮体从上加速管出口高速向下流出；经下进气管进入的热气流抽取并携带环室底部的部分基本干燥的物料沿下加速管向上流动并加速物料颗粒，形成气－固悬浮体从下加速管出口高速向上流出；两股反向流体在上、下加速管出口之间撞击，形成撞击区。撞击过程中发生强烈的相间热、质传递，湿物料所含水分大部分被脱除。撞击后两股流体合并，并转为径向向外流动。由于重力的作用，部分固体颗粒直接落入环室；部分颗粒随气体向本体上部内壁运动并与壁碰撞后沿壁滑落进入环室；小部分颗粒可能被气体携带向上运动，但在沉降室中与气体分离、落入环室。分离掉大部分固体颗粒、温度已降低的气体经排气管排出干燥机，随后再经过适当的装置除尘、回收处理后放空。进入环室的物料藉重力向下运动，到达环室底部时被经下进气管进入的热气流抽取、携带，再次通过下加速管向上运动，并与从上加速管出来的向下流体撞击，如此反复循环。通过若干次循环后物料水分含量可以保证达到要求。出料管在控制流量下连续卸出已达到干燥要求的物料作为产品。出料量的控制应使得环室中料位基本恒定。本实用新型循环撞击流干燥机的突出特点是包括两个最基本的要素：两股气－固两相流相向流动撞击和固体物料循环运动。撞击流有利于达到高的干燥强度；物料循环则可以保证足够长的平均干燥时间。撞击流是一种新的技术方法，已有大量实验结果证明它对强化相间传递非常有效。本实用新型充分利用了撞击流的这一特性。因此，与现有其它技术相比，其突出优点就是干燥强度高，从而设备较小。与传统的、用于同时含游离水和孔隙水或结晶水的物料的气流—流化床两级干燥技术相比，本实用新型流程、设备简单、紧凑，能耗、动力消耗较低；与前述旋风干燥机相比，由于绝大部分产品在干燥机底部回收，本实用新型具有除尘系统负荷低、动力消耗较小的优点。

产品详细介绍按工作温度分普通型和高温型，控温方式有自动恒温型和精密程序控温型，工作室尺寸有多种规格，内胆有冷钢板和不锈钢两款。主要技术参数1、最高温度：300℃；2、电源及功率：AC220V/4KW；3、工作室尺寸：500×600×750mm；4、测温：K分度热电偶+智能数显控温仪；5、控温：智能数显自动恒温，控温精度：±1℃；数显时间控制，到达时间自动关机；6、大视野钢化玻璃观察窗；7、活动搁层，层高可调。

产品详细介绍适用范围：电热鼓风干燥箱适合测定煤中水分、烘干物品及其它需要干燥热处理用。主要特点：1.采用铂电阻测量和数字温度调节仪调控温度，测温灵敏，控温准确，操作简单，使用方便。2.外壳用冷轧钢板制作，表面经静电喷涂工艺处理，造型新颖、美观、大方。3.箱门上的大尺寸双层玻璃观察窗，使工作室内的情况一目了然。4.箱门口镶嵌耐高温胶条，密封性好，防止热量流失。5.工作室底部设有进风孔，顶部装用排风阀，箱内空气可自然流通。另外工作室的电机强制鼓风，能使温度均匀一致。6.不同材质的两种型号，能满足不同需求：A型产品工作室由喷涂耐热涂层的钢板制成，经济实用；B型产品工作室采用不锈钢制成，美观。

产品详细介绍

产品详细介绍

 一、 产品特点： 1 智能全自动控温，智能半自动控制、切片功能，液晶LCD触摸屏动态显示：标本行程、切片厚度、定功能控制、温度控制及日期、时间、温度、定时开关机、即时熏蒸、即时除霜及定时除霜等。 2采用进口双压缩机制冷和采用环保型制冷剂的结构双冷冻台，冷冻头，冷冻箱，冷冻刀五点制冷。确保制冷速度快，效果好，切片精度高，性价比高，完全可以替代进口产品                                                                           3 人性化的休眠功能，冷冻室温度可自动控制，既可省电又能延长压缩机寿命，如有切片、停止休眠，30分钟即可达到切片温度。 4 样本夹具使用方便，手轮可多方位完全锁定 5 流线型外观设计，美观大方 6 样本回缩功能，防止样本损伤，保证切片完整性 7 进口步进电机驱动载物台和步进电机控制的样本行进系统 8  紫外线消毒功能和冷光照明功能 9 自动除霜功能、防溅水功能 10 切片自动回缩功能 11 载物台自动回缩功能 12 冷冻箱外抗卷扫片功能 13 切片效果，平、薄、均、连切片平整，可以选配宽刀片或窄刀片进行切片。 14 进退刀电动完成，分快进快退慢进慢退 15有显示总数量和切片总厚度功能                                                           二、技术参数 冷冻箱温度：-5℃～-35℃（±2℃） 冷冻台温度：-10℃～-55℃ （±2℃）可调 冷冻头温度：-5℃～-40℃（±2℃）可调 冷冻刀温度：-5℃～-40℃（±2℃）可调 冷冻点位：≥12个、速冻位点：≥1个 切片厚度范围：0-100μm（ 0-2μm，以0.5μm递进； 2-10μm，以1μm递进；10-20μm以2μm递进， 20-50μm以5μm递进， 50-100μm以10μm递进。） 修片范围：0-600μm可调（0-10μm，以5μm 递进； 10-100μm，以10μm 递进；100-200μm 以20μm递进；  200-600μm以50μm递进 ） 最大样品尺寸：30*30mm 样品臂上下最大移动距离:  60mm/70mm 切片刀角度：0-15°             样品臂前后最大移动距离: 20mm/28mm 切片最小分度值:  0.5μm、切片精度：±1um 样品自动回缩：20um，总回缩距离0-600μm 样品头XY8度 Z360度精确定位 电动进样，速度为0.8mm/s 50分钟内冷冻室可降温至-30℃ 无霜玻璃门: 玻璃门加热后可除雾            尺寸：600×640×1150mm       重量：130kg 输入电源：AC220V/110V 频率50/60HZ      功率:  560W

真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度 高于 1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现 PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因： （1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保； （2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要； （3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。

本技术的真空、反重力充型特点，能够平稳地将液态金属充入到铸型中，使毛坯中含有极少的气体和气孔；本技术的压力下凝固补缩特点,能够对补缩通道施加大的补缩压力，减少或消除凝固收缩形成的缩松和缩孔缺陷。采用本技术生产的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,获得高质量、优质毛坯。 本技术直接对坩埚内和真孔罩内部的压力进行调压，设备结构简单，密封性好，调压空间小，增强了控制系统的快速性与及时性，降低能耗；炉体具备倾翻机构，坩埚与调压管路间采用软管连接简化机构，便于倾倒剩余液体，操作简单，降低成本。另外，本技术通过对成型过程中铸型内液态金属液面位置和温度的检测，可根据所获得的信号设置坩埚内的压力控制，实现真空调压铸造工艺的精确控制。 主要应用范围： 本技术适合于各种壁厚的铝合金及其复合材料的毛坯生产。 技术经济分析： 本技术为铝合金及其复合材料的液态反重力成型制造技术，该技术可以在真空条件下将液态金属平稳地充入到铸型（金属、石墨、树脂砂、水玻璃砂等铸型），在压力下完成凝固，实现凝固补缩。该技术能够达到的真空度低于－0.1MPa，可以实现的补缩压力为0.2MPa。本技术采用计算机实现真空、充型过程和凝固补缩过程的精确控制。 目前，本技术已经成功用于我国高速客车铝基复合材料制动盘的制造生产，获得了优质的制动盘质量，取得了好的社会经济效益，正在进一步推广应用到高强度铝合金轴箱的成型制造过程。

真空镀膜技术广泛用于航空、航天、工业、农业等各行各业，本单位长期从事镀膜技术的研究和开发，先后研制出两台镀膜机，达到国内领先水平，同时开展真空技术及器件、蒸铝技术、滤光片技术、各种保护膜的研究和开发，有多名长期从事相关技术研究的教授和专家，理论基础扎实及实践能力强。 

产品详细介绍真空原位分析表征系统是为红外光谱吸附态表征和催化剂酸性测定设计的专用真空系统，配有石英红外吸收池，可以与Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要红外光谱仪连接使用，进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化学吸附测定。具体应用吸附态研究和催化剂的表征　　红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中最有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化剂表面存在的“活性中心”信息。用这种方法可以表征催化剂表面暴露的原子或离子, 更深入地揭示表面结构的信息。与其它方法相比较, 这样的红外研究所获得的信息只限于探针分子（或反应物分子）可以接近或势垒所允许的催化剂工作表面。 CO吸附态研究　　由于CO具有电子受授性质，未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用。CO同许多重要的催化反应有密切关系。如羰基合成、水煤气合成、氧化等。并且具有很高的红外消光系数。因此, 在过渡金属表面吸附态的研究是一个十分广泛的研究课题。 双金属原子簇催化剂的研究（红外光谱方法研究催化剂表面组成和相互作用）利用两种气体混合物吸附在双组元过渡金属催化剂上通过红外光谱侧其吸附在不同组元上吸收带强度的方法可以测定双金属载体催化剂的表面组成。例如：CO和NO混合气吸附在Pt-Ru/SiO2上的红外光谱测定Pt-Ru/SiO2催化剂的表面组成。催化剂红外酸性测定 氧化物表面酸性的测定　　酸性中心一般看作是氧化物催化剂表面的活性中心。在催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子和表面酸性中心相互作用形成正碳离子, 是反应的中间化合物。正碳离子理论可以成功地解释烃类在氧化物表面上的反应, 也对酸性中心的存在提供了强有力的证明。为了进一步表征固体酸性催化剂的性质, 需要测定表面酸性中心的类型（L酸、B酸）、强度和酸量。利用红外光谱研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等碱性吸附质, 其中应用比较广泛的是吡啶和氨利用红外光谱研究固体酸。 氧化物表面羟基的研究 红外光谱应用于反应于反应动态学研究 催化剂原位表征高真空系统解决的问题　　由于红外光谱方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究载体催化剂, 由于大部分载体低于1000cm, 就不透明了,所以很难获得这一范围的许多重要信息。　　2) 金属粒子不同的暴露表面边、角、阶梯、相间界面线等,分子吸附在所有这些中心上的光谱都可对测得的光谱有贡献, 因而解释起来有困难。　　3) 由于催化反应过程中, 在催化剂表面上反应中间物浓度一般都很低,寿命很短（尤其是反应活性的承担者）, 红外光谱的灵敏度和速度不够高。　　4) 红外光谱只适用于有红外活性的物质。　　随着光谱技术的发展, 这些局限性将通过真空系统克服。系统基本情况　　一套用于催化剂原位表征的真空装置及红外原位测量系统，配备红外吸收池统。 提高真空系统的性能使其在较短的时间内达到测量需要的中高真空度。主要技术指标　　1. 样品处理开始后样品池中真空度应在30 分钟内达到10-5 Torr；　　2. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行吸附或脱附探针分子；　　3. 由于测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了相互污染；　　4、真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组合抽气，达到客户对测试池中高真空的要求，抽速快，体积小,低噪音，操作简单，使用方便的特点,并且价格适中。　　5、低真空部分主要是抽出系统中的高浓度气体或吸附的残余气体。　　6、各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试。　　7、真空测量仪使用数显高精密真空计。　　8、本系统配备透过式石英红外吸收池，采用透射模式，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，也可利用配备的延长管路进行原位表征和实验。其加热方式可采用程序升温方法控制温度的升降，也可使用调压变压器对温度的升降进行控制，使用温度可以高达450度，标准配置的吸收池窗口为CaF2，工作区间为4000—1200波数之间，用户也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子或更换样品。　　10. 波纹管更换方便。　　11．为满足客户的要求真空系统可做相应改变。配置单序号 设备名称 数量高真空装置 1.1 机械泵 1 1.2 玻璃油扩散泵 1 1.3 真空计 1 1.4 压力规表头 1 1.5 吸附阱、冷却室、管道、真空工作架、玻璃节门、电控标准连接件等 1测量系统 2.1 石英样品池 1 2.2 温控装置 1 2.3 操作手册 1