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一种激光触发
真空开关
及
开关
系统
本发明公开了一种激光触发真空开关及其触发系统装置。激光 触发真空开关包括密闭壳体、第一电极主件、第二电极主件。第一电 极主件包括燃弧电极、第一电极法兰、第一电极平台、聚焦镜。第二 电极主件包括燃弧电极、第二电极法兰、第二电极平台、靶电极。触 发系统装置主要包括计算机、转换器、开关电路板、激光器和激光触 发真空开关。激光触发真空开关的工作电压高达 30kV,工作电流高达 500kA,不存在以往电脉冲触发高压隔离困难、触发稳定性差、使用寿 命短等问题,能有效降低激光触发能量,改善开关器件的延时与抖动。触
华中科技大学
2021-04-14
5、高压
真空开关
用铜铬合金触头材料
本项目采用真空熔铸方法,解决了 Cu-Cr 合金铸造产生的成分偏析及组织不 均匀问题,得到的显微组织细化、成分均匀化,尤其是合金中 Cr 粒子的细化问 题,大幅度提高耐电压强度,同时又能保持铜的高导电性,触头的小型化才有实 现的可能。本方法还能回收利用生产废料,因此生产工艺更为环保。而且生产成 本大大降低,性能还有所提高。本项目制备的触头材料,性能与国内外同类产品 相比,在导电性,均匀性,组织细化等多方面全面领先。
上海理工大学
2021-01-12
一种沿面击穿型两对棒极结构触发
真空开关
本发明公开了一种沿面击穿型两对棒极结构触发真空开关;触 发真空开关采用三段式结构,包括上段波纹状陶瓷外壳,下段波纹状 陶瓷外壳,中段金属屏蔽罩,设置在金属屏蔽罩内的上电极和下电极, 触发电极,上电极金属连杆,上电极法兰盘,下电极金属连杆以及下 电极法兰盘;上电极法兰盘与上段波纹状陶瓷外壳连接,下电极法兰 盘与下段波纹状陶瓷外壳连接,再与金属屏蔽罩共同构成密闭壳体; 通过上段波纹状陶瓷外壳连接上电极法兰盘,以及通过下段波纹状陶 瓷外壳连接下电极法兰盘能有效提高上电极法兰盘与下电极法兰盘之 间的爬电距离
华中科技大学
2021-04-14
一种
真空
触发
开关
本发明公开了一种真空触发开关,包括密闭壳体;密闭壳体的 两端分别设有阴极和阳极,阴极包括阴极导杆、阴极触头和阴极触头 片,阳极包括阳极导杆、阳极触头和阳极触头片;阴极导杆和阳极导 杆均为中空的圆筒形,其上有螺旋状开槽;阴极触头和阳极触头均为 杯状结构,杯壁为圆筒形,杯底中心开有圆孔,杯壁上有螺旋状开槽; 阴极导杆和阳极导杆分别与阴极触头和阳极触头的杯底同轴紧密连 接,阴极触头和阳极触头的杯口分别与阴极触头片和阳极触头片紧密 连接。该开关避免了由于电弧集聚所带来的电极烧蚀问题,能有效阻止电弧中的金属等
华中科技大学
2021-04-14
VKV型
真空
有载分接
开关
VKV 型真空有载分接开关(以下简称分接开关)是一种典型的复合式分接开关,它把切换开关和分接选择器的功能合二为一,分接开关借助于开关头部法兰安装于变压器箱盖上。分接开关上还可加装转换选择器,有载分接开关不带转换选择器时,分接工作位置最多为12 个,带转换选择器时,分接工作位置最多为23 个。 VKV 型真空有载分接开关适用于设备最高电压40.5~126kV,最大额定通过电流600A,频率为50Hz~60Hz,三相接法为D接或Y接中性点调压的电力或工业变压器,在带负载的情况下变换变压器接头,来改变变压器的输出电压,以达到输出端电压稳定在规定范围之内;或根据载荷要求来达到增加或减少输出电压,以实现调整线路上的电压的目的。
山东泰开变压器有限公司
2021-08-26
一种双极性触发型多棒极
真空
触发
开关
本发明公开了一种触发型多棒极真空触发开关,包括密闭壳体; 密闭壳体由绝缘外壳及设置在绝缘外壳两端的阴极法兰和阳极法兰构 成;密闭壳体的两端分别设有阴极和阳极,阴极和阳极结构相同,均 包括电极底柱、电极平台和设置于电极平台上的多个棒状电极,阴极 的棒状电极与阳极的棒状电极相向延伸且相互交错排列,相邻棒状电 极的间隙宽度相等,且该间隙宽度与棒状电极顶端到相对的电极平台 的间隙宽度相等;阴极和阳极中分别设有阴极触发结构和阳极触发结 构。该开关可以保证无论主间隙的电压为何种极性,都能够稳定触发, 能满足电力
华中科技大学
2021-04-14
新型
真空
玻璃
该产品由我扬州大学以张瑞宏教授为首的团队经过十年的努力,攻克了许多技术难关,已完成了中试。 2005 年最终实现关键工艺上有所突破,特别是侧边封头工艺及一次性封接法在世界上处于领先地位,可大大简化生产工艺,大大降低生产成本。目前,根据扬州大学的生产工艺生产的真空平板玻璃可将其成本控制在 100 元/m2 左右。
扬州大学
2021-04-14
精准
开关
"精准开关:在各种用电器具上,当它的电流一超过,电源就切断,过流当量,可达千分之几。在交流电流线路上,电压的精准控制 "
厦门大学
2021-04-10
真空
镀膜(PVD 技术)
真空涂层技术起步时间不长,国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD(化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行(工艺温度 高于 1000ºC),涂层种类单一,局限性很大,起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末,开始出现 PVD(物理气相沉积)技术,之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展,究其原因: (1)其在真空密封的腔体内成膜,几乎无任何环境污染问题,有利于环保; (2)其能得到光亮、华贵的表面,在颜色上,成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色,能够满足装饰性的各种需要; (3)可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层,应用在工装、模具上面,可以使寿命成倍提高,较好地实现了低成本、高收益的效果; (4)此外,PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点,几乎可以在任何基材上成膜,因此,应用范围十分广阔,其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD(物理化学气相沉积)、MT-CVD(中温化学气相沉积)等新技术,各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。
西安交通大学
2021-04-10
真空
调压成型技术
本技术的真空、反重力充型特点,能够平稳地将液态金属充入到铸型中,使毛坯中含有极少的气体和气孔;本技术的压力下凝固补缩特点,能够对补缩通道施加大的补缩压力,减少或消除凝固收缩形成的缩松和缩孔缺陷。采用本技术生产的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,获得高质量、优质毛坯。 本技术直接对坩埚内和真孔罩内部的压力进行调压,设备结构简单,密封性好,调压空间小,增强了控制系统的快速性与及时性,降低能耗;炉体具备倾翻机构,坩埚与调压管路间采用软管连接简化机构,便于倾倒剩余液体,操作简单,降低成本。另外,本技术通过对成型过程中铸型内液态金属液面位置和温度的检测,可根据所获得的信号设置坩埚内的压力控制,实现真空调压铸造工艺的精确控制。 主要应用范围: 本技术适合于各种壁厚的铝合金及其复合材料的毛坯生产。 技术经济分析: 本技术为铝合金及其复合材料的液态反重力成型制造技术,该技术可以在真空条件下将液态金属平稳地充入到铸型(金属、石墨、树脂砂、水玻璃砂等铸型),在压力下完成凝固,实现凝固补缩。该技术能够达到的真空度低于-0.1MPa,可以实现的补缩压力为0.2MPa。本技术采用计算机实现真空、充型过程和凝固补缩过程的精确控制。 目前,本技术已经成功用于我国高速客车铝基复合材料制动盘的制造生产,获得了优质的制动盘质量,取得了好的社会经济效益,正在进一步推广应用到高强度铝合金轴箱的成型制造过程。
北京交通大学
2021-04-13
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