HMDS真空预处理烘箱产品用途:该产品主要用于半导体行业，HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。     一、产品规格： 型号：BD/HMDS-6090   内形尺寸：450×450×450     型号：BD/HMDS-6210   内形尺寸：560×640×600   二、 技术参数： 1、控温范围：RT+10～250℃  2、温度分辨率：0.1℃     3、温度波动度：±1℃ 4、达到真空度：小于133Pa 5、真空度：100Pa～100000Pa 6、定时范围：1～9999min 7、工作室材料：316L 8、样品架：2块、3块 9、真空泵：4L/S 10、电源电压：220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制 11、总功率：3000W、4500W 三、产品特点： 1、外壳采用冷轧钢板制造，表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 四、HMDS预处理系统操作流程： 1、首先确定烘箱工作温度； 2、预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分; 3、再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应; 4、当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。 五、控制系统： 1、7.0英寸维纶彩色触摸屏，三菱PLC控制器； 2、富士微电脑双数显温度PID控制器，控温精确可靠； 六、保护系统： 1、漏电保护； 2、超温保护； 3、缺液保护；              七、设备使用条件： 1、环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃） 2、环境湿度：≤85%R.H 3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西; 八、HMDS真空预处理烘箱服务承诺： 保修十二个月，免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。

北京台式真空干燥箱 产品用途：该产品广泛应用于生物化学，化工制药、医疗卫生、农业科研、环境保护等研究应用领域,作粉末干燥、烘培以及各类玻璃容器的消毒和灭菌用,特别适用于对干燥热敏性、易分解、易氧化物质和复杂成分物品进行快速高效的干燥处理。    台式系列:                                                                         DZF-6021    内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm   RT+10℃～200℃DZF-6051    内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (冷扎板内胆1层搁板) DZF-6020    内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm   RT+10℃～250℃ DZF-6020D                                                        (不锈钢内胆1层搁板) DZF-6030    内形尺寸320×320×300:mm   外形尺寸630×510×490:mm   RT+10℃～250℃  DZF-6030D                                                        (化学专用不锈钢内胆1层搁板) DZF-6050                                                          RT+10℃～250℃DZF-6050D   内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (不锈钢内胆2层搁板)DZF-6053                                                         (不锈钢内胆3层搁板) DZF-6020B   内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm  RT+5℃～65℃DZF-6030B   内形尺寸320×320×300:mm   外形尺寸630×510×490:mm  (生物专用不锈钢内胆1层搁板)DZF-6050B   内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (生物专用不锈钢内胆2层搁板) DZF-6250    内形尺寸700×600×600:mm   外形尺寸1050×760×910:mm   立式系列: DZF-6090    内形尺寸450×450×450:mm   外形尺寸610×660×1400:mm  RT+10℃～250℃DZF-6090D                                                        (不锈钢内胆2层搁板独控)                                                                           DZF-6210    内形尺寸560×600×640:mm   外形尺寸720×805×1680:mm  RT+10℃～250℃DZF-6210D                                                        (不锈钢内胆3层搁板独控)   一、技术参数: 1.控温范围：RT+10～200℃ 、250℃ 、RT+5℃～65℃ 2.温度分辨率：0.1℃     3.恒温波动度：±1℃ 4.达到真空度：小于133Pa 5.工作室材料：优质不锈钢板 6.定时范围：0～9999min 7.电源电压：220V/50Hz 二、产品特点: 1.带定时功能数显微电脑温度控制器,控温精确可靠; 2.长方体工作室,使有效容积达到最大; 3.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然; 4.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶密封圈确保箱内高真空度; 5.工作室采用不锈钢板（或冷扎板）制成,确保产品经久耐用; 三、设备使用条件: 1.环境温度：5℃～40℃（24小时内平均温度≤28℃） 2.环境湿度：≤85% 四、北京台式真空干燥箱服务承诺：保修十二个月,免费送货上门，终身维护

产品详细介绍真空原位分析表征系统是为红外光谱吸附态表征和催化剂酸性测定设计的专用真空系统，配有石英红外吸收池，可以与Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要红外光谱仪连接使用，进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化学吸附测定。具体应用吸附态研究和催化剂的表征　　红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中最有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化剂表面存在的“活性中心”信息。用这种方法可以表征催化剂表面暴露的原子或离子, 更深入地揭示表面结构的信息。与其它方法相比较, 这样的红外研究所获得的信息只限于探针分子（或反应物分子）可以接近或势垒所允许的催化剂工作表面。 CO吸附态研究　　由于CO具有电子受授性质，未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用。CO同许多重要的催化反应有密切关系。如羰基合成、水煤气合成、氧化等。并且具有很高的红外消光系数。因此, 在过渡金属表面吸附态的研究是一个十分广泛的研究课题。 双金属原子簇催化剂的研究（红外光谱方法研究催化剂表面组成和相互作用）利用两种气体混合物吸附在双组元过渡金属催化剂上通过红外光谱侧其吸附在不同组元上吸收带强度的方法可以测定双金属载体催化剂的表面组成。例如：CO和NO混合气吸附在Pt-Ru/SiO2上的红外光谱测定Pt-Ru/SiO2催化剂的表面组成。催化剂红外酸性测定 氧化物表面酸性的测定　　酸性中心一般看作是氧化物催化剂表面的活性中心。在催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子和表面酸性中心相互作用形成正碳离子, 是反应的中间化合物。正碳离子理论可以成功地解释烃类在氧化物表面上的反应, 也对酸性中心的存在提供了强有力的证明。为了进一步表征固体酸性催化剂的性质, 需要测定表面酸性中心的类型（L酸、B酸）、强度和酸量。利用红外光谱研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等碱性吸附质, 其中应用比较广泛的是吡啶和氨利用红外光谱研究固体酸。 氧化物表面羟基的研究 红外光谱应用于反应于反应动态学研究 催化剂原位表征高真空系统解决的问题　　由于红外光谱方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究载体催化剂, 由于大部分载体低于1000cm, 就不透明了,所以很难获得这一范围的许多重要信息。　　2) 金属粒子不同的暴露表面边、角、阶梯、相间界面线等,分子吸附在所有这些中心上的光谱都可对测得的光谱有贡献, 因而解释起来有困难。　　3) 由于催化反应过程中, 在催化剂表面上反应中间物浓度一般都很低,寿命很短（尤其是反应活性的承担者）, 红外光谱的灵敏度和速度不够高。　　4) 红外光谱只适用于有红外活性的物质。　　随着光谱技术的发展, 这些局限性将通过真空系统克服。系统基本情况　　一套用于催化剂原位表征的真空装置及红外原位测量系统，配备红外吸收池统。 提高真空系统的性能使其在较短的时间内达到测量需要的中高真空度。主要技术指标　　1. 样品处理开始后样品池中真空度应在30 分钟内达到10-5 Torr；　　2. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行吸附或脱附探针分子；　　3. 由于测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了相互污染；　　4、真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组合抽气，达到客户对测试池中高真空的要求，抽速快，体积小,低噪音，操作简单，使用方便的特点,并且价格适中。　　5、低真空部分主要是抽出系统中的高浓度气体或吸附的残余气体。　　6、各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试。　　7、真空测量仪使用数显高精密真空计。　　8、本系统配备透过式石英红外吸收池，采用透射模式，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，也可利用配备的延长管路进行原位表征和实验。其加热方式可采用程序升温方法控制温度的升降，也可使用调压变压器对温度的升降进行控制，使用温度可以高达450度，标准配置的吸收池窗口为CaF2，工作区间为4000—1200波数之间，用户也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子或更换样品。　　10. 波纹管更换方便。　　11．为满足客户的要求真空系统可做相应改变。配置单序号 设备名称 数量高真空装置 1.1 机械泵 1 1.2 玻璃油扩散泵 1 1.3 真空计 1 1.4 压力规表头 1 1.5 吸附阱、冷却室、管道、真空工作架、玻璃节门、电控标准连接件等 1测量系统 2.1 石英样品池 1 2.2 温控装置 1 2.3 操作手册 1

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

该系统基于三点准直原理，采用真空激光技术，实现对大尺度建筑变形的精密测量。它将整个测量光路置于真空管道之中，接收器使用面阵 CCD ，配以变焦镜头和定标系统，可对水平和垂直变形量同时进行高精度测量，相对精度可达 10 － 7 （如对 1000m 长的直线型混泥土坝，测量精度为 0.1mm ）。整个系统按工业标准要求设计，实现全封闭，无裸露部件，各个组成部分由主控机控制全自动运行。可在恶劣环境下进行长期稳定的无人值守运行，对微小变形实现高精度监测。

MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构； 真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）； 极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能； 磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

产品详细介绍真空吸盘,真空吸笔吸盘  http://www.qinsidianzi.com/

产品详细介绍适用于在真空条件下对物品进行真空干燥、烘焙、熔腊、灭菌、固化、热处理等，广泛应用于工矿企业、科研院所、大专院校、医药卫生等单位。按工作温度分普通型和高温型，控温方式有自动恒温型和精密程序控温型，工作室尺寸有多种规格，内胆有冷钢板和不锈钢两款。主要技术参数1、最高温度：250℃；2、电源及功率：AC220V/500KW；3、测温：K分度号热电偶+数显智能控温仪；4、控温：数显自动恒温；控温精度：±2℃；5、真空度：-0.1MPa；6、内空尺寸：∮350×400mm；7、冷钢板内胆。

产品详细介绍是根据实验室面积小而设计的一种新型环保台式循环水真空泵。设有外循环装置，真空度稳定、外型美观、小巧玲珑别致独特。     （1）本机采用双抽头，可单独或并联使用装有两个真空表。     （2）泵体采用四氟材质，电机采用中外合资产品，其轴为不锈钢材质，泵头设计符合流体力学，箱体为工程塑料。抽空速度快，每分钟达14升。     （3）耐腐蚀、耐强酸碱、无污染、噪音低、移动方便、使用寿命长，还可以根据用户需要加装真空调节阀。     （4）吸收有害气体，利于环保，确保实验人员身心健康。

产品详细介绍是根据实验室面积小而设计的一种新型环保台式循环水真空泵。设有外循环装置，真空度稳定、外型美观、小巧玲珑别致独特。     （1）本机采用双抽头，可单独或并联使用装有两个真空表。     （2）泵体采用四氟材质，电机采用中外合资产品，其轴为不锈钢材质，泵头设计符合流体力学，箱体为工程塑料。抽空速度快，每分钟达14升。     （3）耐腐蚀、耐强酸碱、无污染、噪音低、移动方便、使用寿命长，还可以根据用户需要加装真空调节阀。     （4）吸收有害气体，利于环保，确保实验人员身心健康。