电力设备输入电压不稳定，将造成电力设备使用寿命缩短。电力系统电压 可能偏离额定值，过高的电压将造成电能损耗加大、效率降低。改变电力变压 器分接头的方式进行电压调节是电力部门广泛采用的调压措施。在变压器有负 荷电流（有载）的条件下，把变压器某一个电压的分接头切换为另一个电压的 分接头，且保证切换过程电力用户不停电，需要使用高技术含量的有载分接开 关来实现。 目前，现有的有载分接开关切换器中的两个开关都采用先合后开的切换次 序，采用电阻过渡的方式实现两个开关的无缝切换过程。该方式的缺点是：为 了保证两个开关先跳后合之间的时间足够短，以免烧毁电阻，需要复杂的机械 凸轮滑动机构和压缩储能机构，操作振动大、噪音大、可靠性差；开关切换过 程有电弧；整体切换时间长（4 秒）；复杂机械机构决定有载分接开关不允许 频繁切换。

该项目以大规模集成电路液晶硅处理器作为核心器件以及基于其空间光波束智能开关功能设计建造了两个准样机实验系统，其一是针对高性能计算机应用的高速集成光互连组件，其二是光通信网络中使用的节点开关 ROADM（可重构光上下路复用器）。互连损耗~6dB、 串扰≤-36dB、 传输数据率 10Gbps、 高稳定性、 高性价比。

本成果为大功率高性能智能化的直流电源，可广泛用于工业生产各个领域，主要用作通信、电站的直流充电电源，也可用于电解、化成、电镀、焊接、电加热、电火花加工电源。采用高频开关技术，具有体积小，重量轻的优点；采用电流模型PWM控制，精度高、动态性能好；采用单片机为核心的智能控制电路，操作简单方便；具有通信接口，可以遥控遥测。最大功率10KW，输出电压系列40～32

产品详细介绍产品名称:  FS5系列流量开关产品型号:  FS5一般应用,性能可靠输出:SPDT,7.4A@120VAC,3.7A@240VAC流体温度范围:0-107°C最大压力：10.5Kg/cm2最大流速:3m/s适合管径：1",3/4"连接：1",3/4"NPT/BSPT其它型号:FS5-3/4,FS5-D-3/4,FS5-J-3/4,FS5-1,FS5-D-1,FS5-J-1,FS5-S-1,FS5-DS-1

产品详细介绍使用固态技术3000MR 3000MRS Photohelic® 开关/表，把高精度、高重复性差压开关功能与大口径表盘便于读数的模拟压力表功能结合在一起,它们仍采用久经考验的Magnehelic®设计原理.通过仪表面板的旋钮可以设置不同压力范围.压力读数不受开关操作影响, 即使在电流突然中断的情况下，也能准确读数。固态设计大大减小了体积和重量.仪表可埋头安装于4-13/16″(122mm)孔内或通过附件进行表面安装.3000MRS采用银制镀金触点电子机械继电器,适用于于干燥电路,当需要高频动作时, 请选择具有SPST(N.O.)固态继电器3000MRS型. 所有型号都提供高、低限控制和同时附带18英寸（45cm）的电缆线。   这种表的精度当满量程时是±2%， 开关重复性是±1%. 开关死区是一个指针宽度--少于满量程的1%. 可以用于空气和其他非燃、无腐蚀性气体， 它们也可以用于压力高达25psig(1.725bar)的系统中。中压型35 psig(2.42bar)或高压型80 psig (5.51bar)亦可提供选择。 携带附件 安装环，卡环 2个3/16"管到1/8"NPT转接头 2个1/8"NPT堵头 4个6-32 x 1-1/4" RH 螺丝(面板安装) 3个6-32 x 5/16" RH 螺丝(表面安装)  

真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度 高于 1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现 PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因： （1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保； （2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要； （3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。

本技术的真空、反重力充型特点，能够平稳地将液态金属充入到铸型中，使毛坯中含有极少的气体和气孔；本技术的压力下凝固补缩特点,能够对补缩通道施加大的补缩压力，减少或消除凝固收缩形成的缩松和缩孔缺陷。采用本技术生产的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,获得高质量、优质毛坯。 本技术直接对坩埚内和真孔罩内部的压力进行调压，设备结构简单，密封性好，调压空间小，增强了控制系统的快速性与及时性，降低能耗；炉体具备倾翻机构，坩埚与调压管路间采用软管连接简化机构，便于倾倒剩余液体，操作简单，降低成本。另外，本技术通过对成型过程中铸型内液态金属液面位置和温度的检测，可根据所获得的信号设置坩埚内的压力控制，实现真空调压铸造工艺的精确控制。 主要应用范围： 本技术适合于各种壁厚的铝合金及其复合材料的毛坯生产。 技术经济分析： 本技术为铝合金及其复合材料的液态反重力成型制造技术，该技术可以在真空条件下将液态金属平稳地充入到铸型（金属、石墨、树脂砂、水玻璃砂等铸型），在压力下完成凝固，实现凝固补缩。该技术能够达到的真空度低于－0.1MPa，可以实现的补缩压力为0.2MPa。本技术采用计算机实现真空、充型过程和凝固补缩过程的精确控制。 目前，本技术已经成功用于我国高速客车铝基复合材料制动盘的制造生产，获得了优质的制动盘质量，取得了好的社会经济效益，正在进一步推广应用到高强度铝合金轴箱的成型制造过程。

真空镀膜技术广泛用于航空、航天、工业、农业等各行各业，本单位长期从事镀膜技术的研究和开发，先后研制出两台镀膜机，达到国内领先水平，同时开展真空技术及器件、蒸铝技术、滤光片技术、各种保护膜的研究和开发，有多名长期从事相关技术研究的教授和专家，理论基础扎实及实践能力强。 

产品详细介绍真空原位分析表征系统是为红外光谱吸附态表征和催化剂酸性测定设计的专用真空系统，配有石英红外吸收池，可以与Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要红外光谱仪连接使用，进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化学吸附测定。具体应用吸附态研究和催化剂的表征　　红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中最有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化剂表面存在的“活性中心”信息。用这种方法可以表征催化剂表面暴露的原子或离子, 更深入地揭示表面结构的信息。与其它方法相比较, 这样的红外研究所获得的信息只限于探针分子（或反应物分子）可以接近或势垒所允许的催化剂工作表面。 CO吸附态研究　　由于CO具有电子受授性质，未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用。CO同许多重要的催化反应有密切关系。如羰基合成、水煤气合成、氧化等。并且具有很高的红外消光系数。因此, 在过渡金属表面吸附态的研究是一个十分广泛的研究课题。 双金属原子簇催化剂的研究（红外光谱方法研究催化剂表面组成和相互作用）利用两种气体混合物吸附在双组元过渡金属催化剂上通过红外光谱侧其吸附在不同组元上吸收带强度的方法可以测定双金属载体催化剂的表面组成。例如：CO和NO混合气吸附在Pt-Ru/SiO2上的红外光谱测定Pt-Ru/SiO2催化剂的表面组成。催化剂红外酸性测定 氧化物表面酸性的测定　　酸性中心一般看作是氧化物催化剂表面的活性中心。在催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子和表面酸性中心相互作用形成正碳离子, 是反应的中间化合物。正碳离子理论可以成功地解释烃类在氧化物表面上的反应, 也对酸性中心的存在提供了强有力的证明。为了进一步表征固体酸性催化剂的性质, 需要测定表面酸性中心的类型（L酸、B酸）、强度和酸量。利用红外光谱研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等碱性吸附质, 其中应用比较广泛的是吡啶和氨利用红外光谱研究固体酸。 氧化物表面羟基的研究 红外光谱应用于反应于反应动态学研究 催化剂原位表征高真空系统解决的问题　　由于红外光谱方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究载体催化剂, 由于大部分载体低于1000cm, 就不透明了,所以很难获得这一范围的许多重要信息。　　2) 金属粒子不同的暴露表面边、角、阶梯、相间界面线等,分子吸附在所有这些中心上的光谱都可对测得的光谱有贡献, 因而解释起来有困难。　　3) 由于催化反应过程中, 在催化剂表面上反应中间物浓度一般都很低,寿命很短（尤其是反应活性的承担者）, 红外光谱的灵敏度和速度不够高。　　4) 红外光谱只适用于有红外活性的物质。　　随着光谱技术的发展, 这些局限性将通过真空系统克服。系统基本情况　　一套用于催化剂原位表征的真空装置及红外原位测量系统，配备红外吸收池统。 提高真空系统的性能使其在较短的时间内达到测量需要的中高真空度。主要技术指标　　1. 样品处理开始后样品池中真空度应在30 分钟内达到10-5 Torr；　　2. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行吸附或脱附探针分子；　　3. 由于测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了相互污染；　　4、真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组合抽气，达到客户对测试池中高真空的要求，抽速快，体积小,低噪音，操作简单，使用方便的特点,并且价格适中。　　5、低真空部分主要是抽出系统中的高浓度气体或吸附的残余气体。　　6、各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试。　　7、真空测量仪使用数显高精密真空计。　　8、本系统配备透过式石英红外吸收池，采用透射模式，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，也可利用配备的延长管路进行原位表征和实验。其加热方式可采用程序升温方法控制温度的升降，也可使用调压变压器对温度的升降进行控制，使用温度可以高达450度，标准配置的吸收池窗口为CaF2，工作区间为4000—1200波数之间，用户也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子或更换样品。　　10. 波纹管更换方便。　　11．为满足客户的要求真空系统可做相应改变。配置单序号 设备名称 数量高真空装置 1.1 机械泵 1 1.2 玻璃油扩散泵 1 1.3 真空计 1 1.4 压力规表头 1 1.5 吸附阱、冷却室、管道、真空工作架、玻璃节门、电控标准连接件等 1测量系统 2.1 石英样品池 1 2.2 温控装置 1 2.3 操作手册 1