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桌面服务大屏监控中心
应用于传统PC、多架构(VDI/VOI/IDV)桌面整体建设与应用的展示,通过定制化的数据展示投射大屏,可直观、清晰的展示桌面云的整体建设数据、桌面访问数据、应用数据、使用趋势等信息。 应用场景 展示厅、监控室 需要针对整体建设数据,应用数据进行监控、展示与汇报,实时掌握大规模建设的传统机房/云机房的使用状态,桌面与软件的应用趋势,通过图形报表直观展示 产品架构 产品功能 云资源实时动态数据展示 通过大屏实时监控资源服务的整体情况,动态展示,当天服务数据一目了然。 资源总体概况、资源使用率 清晰直观了解实时的服务器、存储使用资源,接管教室、终端、桌面总数以及在线数。 教室/终端服务数据实时监控 可视化呈现教室状态、教室使用排行、教室终端情况,终端类型占比、终端状态、终端使用时长。 桌面应用服务数据统计 大数据展示桌面类型占比、桌面状态,桌面一周访问量排行、桌面累计服务次数排行、桌面操作系统类型和占比(win7、win10)。 教学软件服务数据统计 针对所有接管教室的实验教学的应用软件总数、软件类型、软件累计使用排行。 实验室投入使用趋势数据 一周、近一个月服务数据趋势展示,方便对比分析。 用户价值 1、可视化呈现,整体建设信息化展示手段 实现对校园信息云实验室建设全貌集中展现、多维度业务数据联合分析、机房应用状况全面感知,提供基于高校实验环境特点的建设报表与应用状况,直观展示当前云桌面服务中心的建设数据,桌面与应用数据展示。 2、强化云机房管理和制度保障 针对不同院系、不同类型的实验室的应用情况进行实时分析,清晰的展示不同实验室的在线数,桌面访问数据,为实验室的整体管理提供一线真实数据支持。 3、云机房扩容的决策支持 针对云机房的应用趋势数据分析,根据云桌面资源桌面在线情况精细到小时的在线数据展示,能够有效分析资源的负载程度,提早规划扩容方案。
武汉噢易云计算股份有限公司 2022-09-23
英寸级单晶金刚石衬底及其关键设备的产业化
金刚石半导体集热、电、声、机械等特性于一体,在禁带宽度、击穿场强、迁移率和热导率等方面远高于其他半导体,被称为“终极半导体”。英寸级单晶金刚石衬底及其关键设备的产业化,可以极大地推进我国半导体的革命性变革,实现我国微电子行业的跨越式发展,达到国际先进水平。本项目在国家“千人计划特聘专家”王宏兴的推动下,已经完成了两种微波等离子体CVD设备的设计和制造,利用这些设备已经完成了英寸级单晶金刚石衬底的工程样品,实现了克隆衬底工艺的全线贯通,具有小批量产业化能力。按照日本相关公司的预测,随着金刚石半导体的发展,在2030年,中国的市场规模达到100亿美元。由于金刚石生产中的主要成本是甲烷、氢气和消耗电力的费用,成本较低,经济效益显著。 金刚石半导体特性 关键设备-MPCVD 克隆技术 单晶金刚石衬底
西安交通大学 2021-04-11
分米量级尺寸的六方氮化硼二维单晶的制备
团队与合作者首次报道了米级单晶Cu(111)衬底的制备方法,并在此基础上实现了米级单晶石墨烯的外延生长(Science. Bulletin 2017, 62, 1074)。与石墨烯不同,六方氮化硼等其它绝大多数二维材料不具有中心反演对称性,其外延生长普遍存在孪晶晶界问题:旋转180°时晶格方向发生改变,外延生长时不可避免地出现反向晶畴,而在拼接时形成缺陷晶界。 开发合适对称性的外延单晶衬底是解决这一科学难题的关键。研究团队探索出利用对称性破缺的衬底外延非中心反演对称二维单晶薄膜的新方
南方科技大学 2021-04-14
高密高强高纯各向同性石墨材料
以自粘结富碳物质(生焦、炭微球)为原料,添加高纯石墨粉、短切炭纤维或石墨烯,通过预处理、混合、等静压成型、焙烧、后处理等工艺制成高密高强高纯各向同性石墨材料,其各项性能参数如下:抗压强度(MPa)  >130    抗折强度(MPa)   >50肖氏硬度(HS)     70±5    导热系数(KJ/m)  >60体积密度(g/cm3)     ≥1.90    开口气孔率(%)   ≤1.80摩擦系数    ≤0.2高密高强高纯各向同性石墨材料的应用领域包括精密机械密封、苛刻服役环境下的机械(发动机)密封、超高温结构件、电火花加工、火箭喷口等。目前已应用于某型发动机二级游动涡轮泵双端面密封装置、某型发动机液氧涡轮泵氦气接触式端面密封、无控火箭弹喷管专用石墨等。
湖南大学 2021-04-11
GET石墨电极研磨成型机
主要用于电火花加工(EDM)用石墨电极的成形及其修复。可用于模具制造及其它特种加工行业。该设备采用振动研磨的方法,利用三维复制成型的三维研具,一次研磨出三维石墨电极从而加快EDM石墨电极的制造速度。用该电极电火花加工钢模具,可以快速制造注塑模、锻模、压铸模等。工作范围:600×500×400(mm);加工进给速度:0~0.8mm/min;设备精度:±0.0
西安交通大学 2021-01-12
供应威创大屏滤网;威创VPL-003Y背投大屏灯泡
产品详细介绍供应威创大屏滤网;威创VPL-003Y背投大屏灯泡 威创VPL-003Y背投灯泡;VPL-003Y威创大屏灯泡   型号:威创VPL-003Y 编号:VPL-003Y 类型:UHP 瓦数:100W/120W 寿命:6000H 价格:1700 产地:比利时 包装:原封包 品牌:Philips飞利浦   我公司常年供应威创vtron背投灯泡;威创vtron DLP大屏灯泡;原装正货,一级代理,价格公道; 威创vtron背投大屏幕拼接显示屏/墙维护、DLP背投显示墙维修保养服务,承接年保服务,价格优惠、由 厂家授权专业工程师上门服务,专人负责。欢迎来电咨询。 我公司专业承接巴可 科视 威创 三菱 GQY 东芝 背投大屏幕拼接显示屏墙维护保养、背投大屏幕维修售后服务: 巴可(BARCO)背投大屏幕拼接显示屏墙维护保养、维修服务,承接年保服务,价格优惠、由厂家授权专业工程师上门服务,专人负责。 科视(CHRISTIE)背投大屏幕拼接显示屏墙维护保养、维修服务,承接年保服务,价格优惠、由厂家授权专业工程师上门服务,专人负责。 威创(vtron)背投大屏幕拼接显示屏墙维护、维修保养服务,承接年保服务,价格优惠、由厂家授权专业工程师上门服务,专人负责。 三菱、GQY、东芝、科视控制室大屏维护/科视背投大屏维修/科视DLP视频监控显示墙维护其它大屏维护保养、维修服务,欢迎来电咨询。 北京智诚普华大屏幕背投维护运营部 联系人:史先生  13718365685 销售电话:+86-10-51653823 Ext 16 巴可大屏背投技术支持与售后服务- TEL:+86-10-5165 3823
北京智诚科技发展中心 2021-08-23
一种磷硅镉单晶体的生长方法与生长容器
一种磷硅镉单晶体的制备方法,以富磷CdSiP2多晶粉末为原料,工艺步骤为:(1)生长容器的清洗与干燥;(2)装料;(3)将装有生长原料并封结的双层坩埚放入三温区管式晶体生长炉,然后将生长炉的高温区和低温区以30~60℃/h的速率分别升温至1150~1180℃、950~1050℃,并保持该温度,继后调节梯度区的温度,使温度梯度为10~20℃/cm,当所述生长原料在高温区保温12~36h后,控制双层坩埚以3~6mm/day匀速下降,当双层坩埚下降到低温区并完成单晶生长后,使其停止下降,在低温区保温24~72h,保温时间届满,将高温区、梯度温区、低温区的温度同时以20~60℃/h降至室温。一种单晶体生长容器,由内层坩埚和外层坩埚组成,内层坩埚与外层坩埚之间的环形腔室内加有调压用CdSiP2多晶粉末。
四川大学 2021-04-11
湾创未来 粤聚英才 首届粤港澳大湾区创业大赛正式启动
三地深度联动办赛 打造国际化创业平台
人社部 2025-06-05
先进大腔体超高压装置
成果描述:10GPa以上的超高压静态压缩条件将可使绝大多数高强度金属及陶瓷材料进入整体塑性区,材料内部微区偏压力分布趋向稳定,并意味着其压缩行为数据在外推至更高压力区间时的可靠性显著提高。然而,发展与堆源相匹配的大腔体超高压原位中子衍射技术,要求在设计原理、关键技术及关键部件的研制上进行创新。本成果针对堆源中子散射谱仪,研究适用于原位子中子衍射的大腔体超高压加载技术和系统集成技术,包括大尺寸多晶金刚石复合压砧研制、压力加载及控制、高压腔样品封装与压力标定、中子束准直、衍射样品的精确定位与控制、衍射信号采集及背底消除等。将通过自行设计及研制高压加载关键技术及部件,并结合中子粉末衍射谱仪开展系统集成与实验验证研究,进一步提升现有的高压原位中子衍射实验平台的样品环境压力区间,发展具有自主知识产权的大尺寸多晶金刚石超硬复合压砧制备技术,在1毫米尺寸样品腔内实现约30GPa的超高压条件,为新一代超高压原位中子衍射实验研究平台的建立提供技术基础。研发和设计的平台及配套技术可以使毫米级样品在超高压下进行原位中子衍射,以实现超高压原位中子衍射技术的国际领先,并可应用到其它中子衍射平台,快速提升国内高压原位中子衍射平台的实验研究能力。本项目所研制的装置及相关技术,将显著扩展中子探测手段的应用领域,可开展对国防材料(包括重金属材料、含能材料)、能源材料(储氢材料与气水合物等)、非晶态材料(如玻璃、熔体等)、地学材料(如含水矿物等)与纳米材料等在高压下的结构、性能及行为的研究,并将在广阔的科学和工程领域发挥作用。 另一方面,本成果还将将大腔体二级增压技术发展成为了一种与国产六面顶一级压腔相兼容的通用嵌入式系统,方便国内六面顶大腔体静高压装置的升级。所研制装置用于合成超硬材料的二级大腔体静高压装置具有自主知识产权,与国外同类设备相比具有结构简单、操作方便、稳定可靠、运行成本低等优点,可产生40GPa以上高压、2000K以上高温,已成为具有明显技术创新优势的大腔体静高压系统,可广泛应用于材料的高温高压合成、凝聚态物质在高温高压极端条件下的行为与物性研究,并可快速推动我国的大腔体静高压技术迈入世界前列,在高压物理、地学研究等领域有相当的国内外潜在用户。市场前景分析:本成果所设计制造的先进大腔体静高压装置具有自主知识产权,可广泛应用于材料的高温高压合成、凝聚态物质在高温高压极端条件下的行为与物性研究,并可快速推动我国的大腔体静高压技术迈入世界前列,在高压物理、地学研究等领域有相当的国内外潜在用户。本成果所研制的装置及相关技术,将显著扩展中子探测手段的应用领域,可开展对国防材料(包括重金属材料、含能材料)、能源材料(储氢材料与气水合物等)、非晶态材料(如玻璃、熔体等)、地学材料(如含水矿物等)与纳米材料等在高压下的结构、性能及行为的研究,并将在广阔的科学和工程领域发挥作用。与同类成果相比的优势分析:新型一级大腔体静高压装置适用于堆源的原位中子散射,压力可达到30GPa、温度1500K,满足进一步国防研究需求。 二级大腔体静高压装置与国产六面顶一级压腔相兼容的通用嵌入式系统,方便国内六面顶大腔体静高压装置的升级,该二级大腔体静高压装置可产生40GPa以上高压,及2000K以上高温。 国内领先。
四川大学 2021-04-11
先进大腔体超高压装置
10GPa以上的超高压静态压缩条件将可使绝大多数高强度金属及陶瓷材料进入整体塑性区,材料内部微区偏压力分布趋向稳定,并意味着其压缩行为数据在外推至更高压力区间时的可靠性显著提高。然而,发展与堆源相匹配的大腔体超高压原位中子衍射技术,要求在设计原理、关键技术及关键部件的研制上进行创新。本成果针对堆源中子散射谱仪,研究适用于原位子中子衍射的大腔体超高压加载技术和系统集成技术,包括大尺寸多晶金刚石复合压砧研制、压力加载及控制、高压腔样品封装与压力标定、中子束准直、衍射样品的精确定位与控制、衍射信号采集及背底消除等。将通过自行设计及研制高压加载关键技术及部件,并结合中子粉末衍射谱仪开展系统集成与实验验证研究,进一步提升现有的高压原位中子衍射实验平台的样品环境压力区间,发展具有自主知识产权的大尺寸多晶金刚石超硬复合压砧制备技术,在1毫米尺寸样品腔内实现约30GPa的超高压条件,为新一代超高压原位中子衍射实验研究平台的建立提供技术基础。研发和设计的平台及配套技术可以使毫米级样品在超高压下进行原位中子衍射,以实现超高压原位中子衍射技术的国际领先,并可应用到其它中子衍射平台,快速提升国内高压原位中子衍射平台的实验研究能力。本项目所研制的装置及相关技术,将显著扩展中子探测手段的应用领域,可开展对国防材料(包括重金属材料、含能材料)、能源材料(储氢材料与气水合物等)、非晶态材料(如玻璃、熔体等)、地学材料(如含水矿物等)与纳米材料等在高压下的结构、性能及行为的研究,并将在广阔的科学和工程领域发挥作用。 另一方面,本成果还将将大腔体二级增压技术发展成为了一种与国产六面顶一级压腔相兼容的通用嵌入式系统,方便国内六面顶大腔体静高压装置的升级。所研制装置用于合成超硬材料的二级大腔体静高压装置具有自主知识产权,与国外同类设备相比具有结构简单、操作方便、稳定可靠、运行成本低等优点,可产生40GPa以上高压、2000K以上高温,已成为具有明显技术创新优势的大腔体静高压系统,可广泛应用于材料的高温高压合成、凝聚态物质在高温高压极端条件下的行为与物性研究,并可快速推动我国的大腔体静高压技术迈入世界前列,在高压物理、地学研究等领域有相当的国内外潜在用户。 主要技术指标: 新型一级大腔体静高压装置适用于堆源的原位中子散射,压力可达到30GPa、温度1500K,满足进一步国防研究需求。 二级大腔体静高压装置与国产六面顶一级压腔相兼容的通用嵌入式系统,方便国内六面顶大腔体静高压装置的升级,该二级大腔体静高压装置可产生40GPa以上高压,及2000K以上高温。 应用范围: 本成果所设计制造的先进大腔体静高压装置具有自主知识产权,可广泛应用于材料的高温高压合成、凝聚态物质在高温高压极端条件下的行为与物性研究,并可快速推动我国的大腔体静高压技术迈入世界前列,在高压物理、地学研究等领域有相当的国内外潜在用户。本成果所研制的装置及相关技术,将显著扩展中子探测手段的应用领域,可开展对国防材料(包括重金属材料、含能材料)、能源材料(储氢材料与气水合物等)、非晶态材料(如玻璃、熔体等)、地学材料(如含水矿物等)与纳米材料等在高压下的结构、性能及行为的研究,并将在广阔的科学和工程领域发挥作用。
四川大学 2021-04-11
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