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结合产业化发展出原位制备硫化锂/微孔碳复合电极材料的新技 术
锂-硫电池真正能够满足实用化需求，除了需要解决前述硫正极材料的导电 性、体积膨胀以及多硫化物的溶解等问题外，还存在锂-硫电池中因使用金属锂 作为负极可能导致的安全问题，鉴于此，团队研究者设计了一种原位制备硫化锂 /微孔碳复合电极材料的新方法，将前期研究制备的碳/硫复合电极材料延伸到与 产业化结合，实现商用锂离子电池的电解液在锂-硫电池中的使用，因此，该方 法可满足现有锂离子电池生产工艺需求，并与国际知名电池企业 SAFT 公司开展 相关技术合作。
上海理工大学
2021-01-12
一种硼、氮共掺杂下有机固废余辉碳点及制备方法和应用
本发明公开了一种硼、氮共掺杂下有机固废余辉碳点及制备方法和应用，涉及有机固废水热转化技术。该方法是将生物质模型化合物和硼酸混匀，在微波辅助水热的条件下进行反应，之后依次进行离心、透析和冷冻干燥，形成预处理后的碳点；之后三聚氰胺作为外源氮源与预处理后的碳点以及去离子混合后进行水热反应，之后依次洗涤和真空干燥，即可得到目标产品。本发明提出了一种全新的通过有机固废制备余辉碳点的策略，在杂原子掺杂机制的作用下，通过两步水热法构筑碳点，优化掺杂与缺陷调控，实现了荧光向余辉发光的可控转换。
南京工业大学
2021-01-12
一种采用图形喷嘴的有机气相成膜装置及其成膜方法
本发明公开了一种采用图形喷嘴的有机气相成膜装置，包括蒸 发腔、与蒸发腔连通的喷印头及与喷印头相距一定间隙的基板载台， 基板载台受控制相对喷印头分别沿喷印头主轴方向、与喷印头主轴垂 直平面内的水平方向以及平面内与水平方向垂直的第三方向直线移 动。喷印头包括喷印头基体、包覆喷印头基体的加热套、位于喷印头 基体一端的图形喷嘴、与图形喷嘴连通的混合腔以及连通所述蒸发腔 与混合腔的气体入口。图形喷嘴的开口具有一定形状，蒸发腔用于蒸 发固体有机材料得到气相有机材料并通过喷印头的气体入口进入喷印 头的混合腔，接着
华中科技大学
2021-04-14
国家发改委：把碳达峰碳中和摆在环资工作突出位置
会议指出，推进碳达峰碳中和是党中央经过深思熟虑作出的重大战略决策，是我国对国际社会的庄严承诺，也是推动高质量发展的内在要求。
人民网
2022-01-12
一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜、其制备方法及用途
本发明公开一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜及其制备方法。该膜由聚合物树脂、磺化聚合物树脂和糖类高分子组成，在优选的原料与比例下对LDL有良好的特异性吸附作用，且具有良好的稳定性和生物相容性，可重复使用，成本低廉，有望投入大规模临床应用。其制备方法包括以下过程:将膜用聚合物树脂、磺化聚合物树脂、糖类高分子、致孔剂按一定比例溶于溶剂，制成均一的纺丝制膜液，将纺丝制膜液过滤、真空脱泡后，通过浸没沉淀相转化法纺丝制备中空纤维成膜，然后将所制得的中空纤维膜依次在去离子水和超纯水充分漂洗。本发明采用的共混溶解制备法具有操作简便安全、原材料廉价易得等优点。
浙江大学
2021-04-11
超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法
简介：本发明提供一种超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法,属于材料表面技术领域。本发明该超硬膜是由电弧离子镀的纳米晶体相Cr2N和磁控溅射镀的非晶体相WC层交替沉积而成,并且,超晶格的调制周期为10～20nm,Cr2N单层和WC单层的厚度分别为8～14nm和2～6nm。本发明的优点在于:Cr2N层与WC层交替分布实现了Cr-N基膜成分多元化和结构多层化,解决了抗氧化性较强的Cr-N基膜获得超高硬度的难题,同时非晶WC层进一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蚀性能,满足不能热处理的
安徽工业大学
2021-04-14
一种高效选择性捕获三价铬离子的复合膜及其制备方法
本发明涉及一种高效选择性捕获三价铬离子的复合膜及其制备方法。所述复合膜由聚醚砜（PES）基膜、锌离子与生物分子自组装层以及ZIF‑8金属有机框架层组成。其制备方法包括：通过邻苯三酚与氨基酸协同改性PES基膜表面，形成稳定的负电荷层；利用静电作用将锌离子与生物分子自组装于改性膜表面，并以此为基底原位生长ZIF‑8层。该复合膜通过ZIF‑8的孔隙限域效应及表面官能团配位作用，实现对Cr3+的高效捕获，吸附容量提升，截留率超过99%，且在复杂共存离子体系中表现出优异的选择性吸附性能。
南京工业大学
2021-01-12
高稳定金属膜电阻器用磁控溅射中高阻靶材及制备技术
成果与项目的背景及主要用途：
Cr-Si 中高阻膜电阻器具有精度高、噪声低、温度系数小、耐热性和稳定性好等优点，在精密电子设备和混合集成电路中大量采用。对于溅射制备电阻膜来说，靶材是至关重要的，它制约着金属膜电阻器的电阻率、精度、可靠性、电阻温度系数（Temperature Coefficient of Resistance, TCR）等性能。电阻温度系数(TCR)是金属膜电阻器的一个重要性能技术指标之一，较大的 TCR 在温度变化时会造成电阻值漂移，从而影响电阻器的精度和稳定性。目前国内外生产的金属膜电阻器用高阻靶材，其性能不能满足低 TCR（≤25ppm/℃）要求。
技术原理与工艺流程简介： 靶材炼制工艺如下图所示所制备的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在溅射成电阻器薄膜后, 电阻温度系数小(≤25 ×10-6 / ℃), 电阻值高(要求不刻槽数量级为千欧, 刻槽后数量级为兆欧)且稳定(随时间变化小), 因此, 在本靶材研究中, 将选择 Cr 、Si 作为高阻靶材的主体材料。由于 C r 、Si 熔点高, 原子移动性低, 因此由其所组成的薄膜稳定性高。通过在金属 C r 中引入半导体材料 Si 来提高电阻器合金膜的阻值。C r 是很好的吸收气体的金属元素, 在电阻器薄膜溅射过程中, 可通过通入微量的氧来提高薄膜的电阻率, 同时调节电阻温度系数。技术指标如下：温度冲击实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 过载实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 寿命实验后ΔR/R ≤±1 .0 %,电阻温度系数 TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。
应用领域：
集成电路、电子元器件
合作方式及条件：具体面议
天津大学
2021-04-11
过碳酰铵生产技术
过碳酰铵是一种新型的高效无毒灭菌，杀菌，消毒剂，外观为白色的细小晶体，易溶于水，化学性质较稳定，与传统的消毒剂―过碳酸钠相比，过碳酰铵活性氧的含量较高，在水中溶解度大，功效更安全，性能优异，广泛用于日化，生化，化工，饮食，医药，医疗卫生，纺织印染，造纸，皮革等多种工业部门。同时还应用于有机高分子合成作引发剂，使聚合反应转化率大为提高，在发达国家中，过碳酰铵的研究，生产和应用是相当热门的，而我国由于种种原因，对它的研究开发，生产和应用还处在启蒙阶段，不过由于2003年全国“非典”的教训，使人们对过碳酰铵的性能认识和生产应用肯定会出现。
武汉工程大学
2021-04-11
碳基CMOS集成电路技术
发展了高性能、低功耗碳基CMOS集成电路技术，性能和功耗全面超越现有技术，有望成为未来主流信息器件。发表了包括两篇Science在内的SCI论文150余篇；相关成果两获国家自然科学二等奖以及其他重要奖励，多次被NatureIndex等专题报道。
北京大学
2021-02-22