产品详细介绍产品名称:  EDA电子压力控制器产品型号:  EDA压力表，开关变送器一体化介质: 可兼容的液体或气体. 接液材质: 316L SS. 外壳: Glass filled plastic. 精度: ±1% of F.S. including linearity, hysteresis, and repeatability (indicator and transmitter). 稳定性: < ±2% of F.S. per year. 压力限制: Ranges up to 6,000 psi: 1.5 x range; 8,000 psi range: 10,000 psi. 温度限制: Ambient: 20 to 140°F (-6.6 to 60°C); Process: 0 to 176°F (-18 to 80°C). 补偿温度限制: 32 to 122°F (0 to 50°C). 热效应: ±0.05% of F.S./°F. 显示: 4-digit backlit LCD (Digits: 0.60"H x 0.33"W). 电源: 12 to 30 VDC/AC. 能耗: 2.5 watts. 电气连接: Removable terminal blocks with two 1/2" female NPT conduit connections. 封装等级: Meets NEMA 4X (IP65). 预热时间: <10 seconds. 安装方向: Any position. 重量: 1.18 lbs (535 g). 认证: CE and UL.  开关特性: 开关类型: 2 SPDT relays. 电气额定: 5 A @ 120/240VAC, 1 A @ 30 VDC. 重复性: ±1% of FS (switching only). 设定点: Adjustable 0-100% of FS. 开关指示: External LED for each relay on the front panel. 开关复位: Manual or Automatic.  变送器特性: 输出: 4-20 mA, 1-6 VDC, 1-5 VDC, 0-5 VDC, or 0-10 VDC (direct or reverse output selection). 最小激励电压: 14 VDC. 零满调整: Menu scalable within the range 显示单位: psi, kg/cm², bar, in Hg, ft w.c., kPa, MPa, %FS, in w.c., mbar, cm w.c., mm Hg, or oz/in² (choices depend on range).测试方式: Simulates input over the range without pressuring to easily test switches and transmitter output feature.故障保护: For sensor failure, over pressure, high temperature limit, low temperature limit, or keypad short. User chooses if relay is de-energized, energized, or no action. With transmitter option, user chooses an output of 3.6 mA 22 mA, or no action.交替: Selectable alternation of set points between the relays for even wear on duplex pump applications.

产品详细介绍

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执行标准：GB/T-50081-2002 北京耐尔得经过多年为客户多线程的配置试验环境，研究出一系列的养护室恒温控温方案，满足国标对混凝土试块的养护要求，也适应各种场所恶劣试验环境的要求，控制设备可以测量30路温度（可扩展），控制1～8通道温湿度的采集及控制，实现养护室网络控制。可以通过中央控制系统对应该控制的制冷机组、加热机组、热泵循环系统、空压机雾化系统、超声波雾化器等，综合评价后给出适合的解决方案，确保养护室内温度恒定在20℃±2℃，相对湿度95%RH以上。

执行标准：GB/T-50081-2002 北京耐尔得经过多年为客户多线程的配置试验环境，研究出一系列的养护室恒温控温方案，满足国标对恒湿恒温的要求，多功能恒湿恒温控制系统，可检测30路养护箱及其他温度（可扩展），能满足1～8通道模拟信号的温湿度采集及控制，同时满足1～8通道数字温湿度的采集及控制。可实现各通道的网络智能控制。 通过中央控制系统对应各部门的制冷机组、加热机组、加湿系统等分别监测与控制，任务前，我们将对用户的需求综合评价，并给出适合的解决方案，相对湿度值恒定在75±5%RH以内的任意值。本产品适用于徐变室、收缩室、有温湿度要求的工作室。

本发明公开了一种用于草酸二甲酯加氢制取乙二醇的铜硅催化剂及制备方法。所述催化剂是以正硅酸酯为硅源,在以醇作为共溶剂的条件下,通过一锅法制备得到的。具体为正硅酸酯在铜氨络合物的水醇混合溶液中水解、陈化,然后通过蒸发水分、醇和氨使铜氨溶液中的铜组分均匀沉淀,最后经过水洗、干燥、焙烧和还原而得到的。所述催化剂由铜和二氧化硅组成,其中铜与二氧化硅的物质的量之比为0.05～0.4∶1。该催化剂在草酸二甲酯加氢制乙二醇的反应中,在较宽的温度范围内,都显示了很高的反应活性和选择性,易于操作,有利于工业化应用。

【发 明 人】李伟；文红梅；王天麟；周莹；陈磊【摘要】本发明公开了一种2，5-二羟甲基-3，6-二甲基吡嗪(liguzinediol)的合成和精制方法，该方法以2，5-二甲基吡嗪为原料，通过自由基反应直接生成liguzinediol。此工艺仅一步反应，反应温和，操作简便，反应时间短，成本低，收率高，易分离纯化，适于工业化生产。

本发明公开了一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备工 艺，光探测器包括从上之下依次排列的电极结构、多个层状二硫化钼 薄膜以及衬底；电极结构为电极、主支、分支三部分，相邻主支之间 和相邻分支之间的间距为二硫化钼薄膜的平均大小，起到并联二硫化 钼薄膜、增大光敏面积的作用。二硫化钼薄膜的生长采用化学气相沉 积(CVD)的方法，硅片作为衬底，MoO3 粉末作为钼源，硫粉作为硫源， 通过控制钼源与衬底之间的间距、硫蒸气进入反应的时间和反应温度， 制备得到大面积的层状二硫化钼薄膜。使用该方法制备层状二硫化钼

本发明公开了一种二维层状二硫化钼薄膜的光探测器及制备工 艺，光探测器包括从上之下依次排列的电极结构、多个层状二硫化钼 薄膜以及衬底；电极结构为电极、主支、分支三部分，相邻主支之间 和相邻分支之间的间距为二硫化钼薄膜的平均大小，起到并联二硫化 钼薄膜、增大光敏面积的作用。二硫化钼薄膜的生长采用化学气相沉 积(CVD)的方法，硅片作为衬底，MoO3 粉末作为钼源，硫粉作为硫源， 通过控制钼源与衬底之间的间距、硫蒸气进入反应的时间和反应温度， 制备得到大面积的层状二硫化钼薄膜。使用该方法制备层状二硫化钼