本实用新型涉及一种土壤样品研磨工具，尤其是一种具备筛选功能的土壤研磨装置，包括：研磨装置，所述研磨装置包括密封外壳、研磨仓、筛选仓、底座、储土仓等五大部件组成，密封外壳安放在底座上，所述外壳为空心圆柱体结构，通过卡扣可在底座上自由拆卸，通过卡扣可在底座上自由拆卸；研磨仓位于密封外壳内，包括粉碎叶片、研磨柱和研磨壁等部件，粉碎叶片和研磨柱通过转轴与放置于底座内部的电机相连，筛选仓位于底座内部电机两侧，内部可安置筛网，筛网可通过卡槽安放在底座两侧的出土口处，储土仓位于底座下部，为抽拉式。本实用新型可同时完成土壤研磨与筛选，并且通过更换筛网可满足不同的需求，一机多用，省时省力。

产品详细介绍品牌：久滨型号：JB-250A名称：陶瓷乳钵式微粉研磨机一、产品概述：　　JB-250A型陶瓷乳钵式微粉研磨机，主要用于替代国内生产中手工研磨或高等院校的物料研磨实验，可广泛用于化工、电子、制药、冶金等行业的超硬颗粒或微粉研磨，粉末细度可达纳米级，是一款高效节省人工的自动化研磨设备。二、技术参数：1、乳钵口径：250mm2、最大研磨量：300g/次3、研棒转速：120rpm4、研钵转速：10rpm5、研棒功率：60w6、研钵功率：40w7、研钵材质：高铝陶瓷8、研棒棒头材质：高铝陶瓷9、运行时间控制：自动设定10、长X宽X高：500*500*920mm11、重量：35kg12、电压：220V  50/60HZ三、适用条件：1、研磨颗粒要求：颗粒硬度没有限制，颗粒大小≤0.5mm；2、研磨方式：可干磨也可湿磨；

产品详细介绍产品介绍TJ2011高通量组织研磨机是一款名副其实的实验室多功能高效样品制备仪器，是专门为“少量样品”而推出的新产品。高通量组织研磨机可在1-3分钟内对硬性、软性、弹性等样品进行快速有效的干磨或湿磨，亦可达到对粉体及混浊液混合、均相化的目的，还可以进行低温液氮冷冻研磨，也可以进行生物细胞破碎和DNA/RNA提取。高通量组织研磨机可研磨的样品种类包括：植物组织、动物组织、细胞、细菌、芽孢和酵母等，大大提高了淹没的效率和质量。广泛应用于生物医药、农业、地质、法医、食品、冶金、化工、RoHS、玩具、环境、质检、高校等各行各业。工作原理 TJ2011高通量组织研磨机具有对称的一对高速大振幅的摇臂，研磨罐在水平方向上进行高频钟摆式振动，研磨球在惯性的带动下以高能量反复撞击及摩擦，从而达到粉碎研磨的效果。 研磨罐的运动是与罐内研磨球的运动进行叠加，将样品充分混合。混合效果可以通过使用多个不同直径的小研磨球来得到进一步的提高，高通量组织研磨机研磨时使用多个不同直径的小研磨球可以大大提高样品的均混度。生物细胞就可以通过使用大量小球（如玛瑙球）进行细胞破壁。球与球之间的巨大撞击和摩擦可有效地实现细胞的破壁。性能优点 u       在1-3分钟内可以同时对2、48、192个样品进行快速、有效的研磨；u       通过预冷冻样品和研磨罐，可以成功地对热敏性和弹性材料进行研磨，将样品和研磨套件浸入   液氮中，充分冷冻后将研磨罐快速固定开始研磨u       可选择多样离心管、PCR管适配器，或者不同材质的研磨罐u       8字形振动，样品研磨无死角u       简单、安全的操作设计u       精致、小巧的外形u       旋盖研磨罐，密封，防尘u       自动中心定位和安全锁紧u       适用于多种样品的干磨、湿磨u       分隔设计，使用封闭式的研磨罐或一次性的离心管，避免样品交叉污染技术指标2        应用领域: 粉碎、混合、均相化以及细胞破碎、冷冻研磨2        样品特征: 硬的、中硬性、软性的、脆性的、弹性的、含纤维的2        粉碎原理: 撞击力、摩擦力2        进样尺寸: ≤8mm2        最终出料粒度：～3μm（不同材料研磨细度有差异）2        振动频率设置: 10-1700次/分钟2        典型粉碎时间: 2min2        干磨/湿磨/低温冷冻研磨2        带自动中心定位的紧固装置2      控制系统和机械震动系统分离，避免对电子元器件的损害2        研磨平台数:2 2        研磨罐种类: 旋盖型研磨罐2        研磨套件材料: 硬质钢、特氟龙 尼龙  0.5/1.5mL/2mL（离心管/PCR管）2        研磨适配器:24孔板×2   96孔板×22        研磨套件尺寸: 25mL/50mL（研磨罐）2        研磨球材质: 玛瑙、不锈钢、氧化锆、碳化钨、陶瓷2        粉碎时间设定: 数显1秒-99分59秒2        驱动: 无刷电机2        功率: 150W2        机体尺寸（宽*高*纵深）: 300*180*4202        净重: ~20Kg

KC-48 高通量组织研磨仪 产品特点： ◎垂直研磨：垂直往复振荡球磨式研磨，样品破碎更彻底； ◎通量大：高效快速的工作可以在1分钟内—次可最大处理48个样本省时省力，批间、批内差异小，抽提的蛋白比活更高，核酸片断更长。 ◎效率高：2min内完成样品处理，可成独有高频短时间研磨可以让蛋白质不被破坏，达到最佳提取； ◎无交叉污染：样品管在破碎过程中处于全封闭状态，可采用一次性离心管和珠子。样品完整保留在管内，避免样品间的交叉污染以及外界污染。 ◎安全可靠：安全锁全程保护，独有的防松脱锁紧装置，使用更加安全。采用经典机械推杆门锁，经久耐用；不锈钢内腔保护套； ◎重复性好：同一组织样本设定相同程序，获得相同的研磨效果；工作时间短，样本温度不会上升； ◎操作简便：内置程序控制器，可对研磨时间、转子的振动频率等参数进行设置； ◎稳定性好：采用垂直上下及左右一体的三维震动模式，研磨更充分，稳定性更好；仪器运行过程中，噪音小于70dB，不会对其它实验或仪器产生干扰。 ◎方便低温操作 ：当需要低温研磨环境，可将放有样本的适配器浸入液氮中冷却1-2分钟，取出后移至主机快速固定即可开始研磨，不需要进行再次冷冻处理，节省液氮。 技术参数 *针对工作环境的噪音排放值，取决于样品的类型和研磨仪的设置，表中参数为空载状态。

产品详细介绍应用领域适用于少量干性样品，或悬浮液中固体样品的研磨。也可用于乳浊液的混合和均匀化处理。样品处理量为0-60 ml。是理想化的样品预处理设备，如化学分析，色谱，质谱或X—射线衍射分析等。也可用于矿石、骨头、干水泥、煤炭、土壤等坚硬物料粉碎。 工作原理通过电磁驱动，研磨杯以较高的振幅垂直振荡，通过研磨环的冲击力以及研磨碗和研磨球之间的摩擦力来减小样品的尺寸。设计特性n 体积小、重量轻、便于携带n 与研磨样品接触面积小n 快速锁紧的研磨碗n 旋钮锁紧装置n 垂直振荡频率可达到3000次/分n 研磨时间可设定 n 电磁驱动 n 过载保护n 内置风扇防止过热优点n 操作十分简易n 研磨组件易于清洗n 快速可重复的研磨n 易于维修n 一年的保修期技术参数 电学参数      220±10V 50Hz 6A最大进样尺寸  15 mm最大处理量    可达到60 ml最终精度      <200目，无需过筛，可直接用于实验分析典型研磨时间  2min内（0-5min）可调重量          净重20 kg，毛重23 kg包装描述      木箱25 × 35 × 35 cm

MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；升降基片台：尺寸直径100mm，高度60～120mm可调，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；磁控靶：直径2英寸2只（可升级成3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；质量流量计：10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

EV-246小型电阻蒸发镀膜机真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；基片台：可拆卸式，尺寸60✕60mm，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能）；蒸发源及电源：水冷铜电极3组，逆变式蒸发电源，功率2KW，配源间防污隔板；膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构； 真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）； 极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能； 磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

SEV-400手套箱金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：采用立式方形结构，前门为水平滑开式，位于手套箱体内部，前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸，后开门便于真空室的清理维护（后门带锁紧装置在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离），整机位于手套箱体下面，节约占地面积； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限高达2.0✕10-5Pa，另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限高达3.0✕10-6Pa； 真空抽速：大气～5✕10-4Pa≤30min（手套箱环境中）； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板，基片台公转，转速0～20r/min可调，衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 蒸发源及电源：4～6组欧美技术金属或有机束源炉蒸发源可选，多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定；真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制，电流、功率可以预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。