产品详细介绍面积测量器

本发明公开了一种难选铁矿石多段悬浮磁化焙烧磁选系统装置及方法,属于矿物加工技术领域.其系统装置主要包括:多段悬浮预热器,多段悬浮氧化器,多段悬浮还原器,在线品位分析仪,矿样分流器,磁选机,除尘器和罗兹风机等部件及连接方式.难选铁矿经过本方法处理后可精准制得性质均一的磁铁矿或磁赤铁矿,通过磁选选别,在线品位分析仪检测和矿样分流器分流可获得部分达到设定品位的精矿粉,不合格矿粉进入下段氧化还原磁选分流处理.通过本方法可以获得焙烧质量不同的产品,同时避免以往焙烧过程中容易出现的过烧或欠烧等现象。

产品概述： 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 磁光克尔效应测量系统 磁光克尔效应装置是一种基于磁光效应原理设计的超高灵敏度磁强计，是研究磁性薄膜、磁性微结构的理想测量工具。旋转磁光克尔效应（RotMOKE）是在磁光克尔效应测量基础上的一种类似于转矩测量各向异性的实验方法，可以定量的得到样品的磁各向异性的值。但由于电磁铁磁场大小的限制，只适合于测量磁各向异性的易轴在膜面内而且矫顽场不太大的磁性薄膜材料。结合源表可以进行样品的磁输运性能测量。RotMOKE具有以下特点：测量精度高、测量时间短；非接触式测量，是一种无损测量；测量范围为一个点，可以测量同一样品不同部位的磁化情况；可以产生平滑、稳定的受控磁场，并且磁场平滑过零。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 应用领域： 磁光克尔效应测量系统广泛应用于诸如磁性纳米技术、自旋电子学、磁性薄膜、磁性随机存储器、GMR/TMR等磁学领域。 可测试材料：记录磁头，磁性薄膜，特殊磁介质，磁场传感器 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 产品特点： 1·测量灵敏度高，稳定性好，噪音低 2·非接触式测量，是一种无损测量 3·可以测量同一样品厚度不等的楔形磁性薄膜 4·可以将样品放到真空中原位测量 5·可以测量同一样品不同部位的磁化情况 6·纵向、横向和极向克尔效应测试 7·三百六十度电动旋转样品，可测试样品各向异性 8·手动左右和上下位移样品，可测试样品表面不同点的克尔效应 9·样品座有电接口，可加入磁电耦合测试。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 技术指标: 1· 样品尺寸：大Φ10mm的圆 2· 克尔角分辨率（δ）：0.001度； 3·椭偏率分辨率（ε）：0.1%； 4·小光斑（Φ）：10微米； 5· 大磁场：单维0.26特斯拉； 6· 样品电动角度步进0.1度，手动位移步进10微米； 7·噪音：1%。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 技术参数： 1·光学平台：    刚性隔震，不锈钢贴面，1200*800*800mm，M6螺孔，25mm阵距，150mm台板厚度，带脚轮。台面平整度0.1/1000mm，平台载荷300Kg，固有频率≤2.5Hz，阻尼比0.12~0.13R/S。 2·矢量电磁铁： 锦正茂二维矢量电磁铁，每维大磁场0.26T，极面直径30mm，磁场间隙40mm，中心10mm正方体内均匀区1%。 3·电磁铁电源： 锦正茂单相双极性恒流，大10A，小分辨率0.1mA，稳定性50ppm/h，对应小分辨率0.1Gauss。 4·激光器： Newport    632.8nm，2mW，2%稳定度，噪音<1% rms（30Hz~10MHz），通过聚焦透镜光斑小为10μm的圆。 5·起偏/检偏器：格兰-汤普森棱镜，外径25.4mm，通光孔径10mm，消光比<5*10^-5，角度范围14~16°，波长范围350~2300nm。 6·聚焦透镜：K9双凸，设计波长633nm，外径25.4mm，焦距150mm，焦距误差±0.5%，面精度X方向λ/4，Y方向λ/2。 7·四分之一波片：Ø25.4mm，波长632.8nm，投射波前畸变λ/8，相位延迟精度λ/100。 8·光电传感器：15mm²感应面积，0.21A/W响应度，暗电流1nA，对430~900nm波长光敏感，分流电阻200Mohm。 9·电流放大器：1pA/V大增益，1MHz带宽，大输入±5mA，大输出±5V，增益精度为输出的±0.05% 10·高精度电压表：六位半，小分辨率0.1μV，90天准确度达到0.002%，四位半精度下快2000 readings/second 11·手动位移和电动旋转样品杆：   XYZ三维位移，XY行程25mm，Z行程13mm，转动360度，样品座为直径11mm的圆，上有电接头。 12·计算机：联想商用，集成多串口卡。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！

基于真实成像模型，图像序列/视频数据的通用超分辨率重建方法；对弱纹理目标的高清重建，对超精细纹理的精确预测与重建。

本发明公开了一种电调光反射率薄膜。包括第一光学介质层，依次设置在第一光学介质层上表面的第一阳极、第二光学介质层和第二阳极，以及设置在第一光学介质层下表面的阴极，阴极为匀质导电膜结构，第一阳极和所述第二阳极均由其上布有 M×N 元阵列分布的纳孔的导电膜构成；通过调变加载在第一阳极和阴极间的第一时序电压信号以及加载在第二阳极和阴极间的第二时序电压信号，调变阴极上的阵列化电子的密度和分布形态，进而调变电调光反射率薄膜的光

产品详细介绍1  技术说明ME5368-C型电导率仪是精确测量石油产品电导率的专业仪器。经总后勤部油料技术监督处监制并长期试用，效果很好，现已大批量装备部队。同时，在民用航空、炼油等方面也发挥着重要作用。本产品体积小、测量种类多、功能齐全、环境适应能力强，可在不同的条件下进行测量加电缆后还可进行长距离测量。同时可数据自动锁定。动能更加齐全，使用更加方便。目前，ME5368-C型电导率仪测量精度已达到国内外先进水平。2  主要技术指标显示量程: 0-1999pS/m分 辨 率: 1pS/m测量精度: ＜2%±1pS/m 酸度计检定装置电导率仪检定装置分光光度计检定装置酶标分析仪检定装置气相色谱仪检定装置气相色谱质谱联用仪检定装置液相色谱仪检定装置离子色谱仪检定装置原子吸收检定装置红外光谱仪检定装置粘度计检定装置（可自动检定）密度计检定装置（可自动检定）酒精计检定装置玻璃量器检定装置（可自动检定）烘箱/培养箱检定装置碳硫分析仪检定装置生化分析仪检定装置报警器探头检定装置旋光仪检定装置白度计检定装置阿贝折射仪检定装置离子计检定装置罗维鹏比色计检定装置电位滴定仪检定装置有机元素分析仪检定装置温度计自动检定系统检定装置

产品详细介绍粉末冶金零件密度测试仪÷含油轴承含油率测试仪，粉末冶金比重测试仪，粉末冶金密度计，粉末冶金密度天平：粉末冶金制品在成型之前，先将原资料增加黏结剂、光滑剂如硬脂酸锌、硬脂酸锂及白蜡、石墨粉等加以混杂平均，而后加以成型。使成型胚体中与内部接触的孔隙或多或少被光滑剂和石墨粉所填满。配合现场作业，于试模和密度再确认时，根据生胚密度的测试可立刻调剂粉末填充量，防止粉末适量充填或充填缺乏。为了延长停机的时光，须要疾速的实现密度测量。目前市场上用来检测粉末冶金构造件体密度、有效孔隙率、湿密度、体积的测量仪器有很多，现重要给大家介绍一款产自台湾的粉末冶金密度计，可正确、疾速、不便测出各种粉末冶金构造件的体密度与含油合金的有效孔隙率、湿密度、体积。粉末冶金零件密度测试仪÷含油轴承含油率测试仪重要技巧参数：1、型号：TW－120P、TW－600P2、称重规模：0。001g～120g、0。01g～300g、0。01g～600g3、密度解析精度：0。0001 g÷cm3 0。001 g÷cm34、测量时光：约10称5、测试品种：粉末冶金构造件、含油合金、含油轴承及各种固体、颗粒体、薄膜、浮体功用及特征：1、可间接读取粉末冶金构造件的体密度和含油合金的有效孔隙率、湿密度、体积；2、可间接读取烧结含油轴承含油率、有效孔隙率；3、可根据现场操作习性，间接读取不吸水资料的密度和体积值；4、具备温度弥补设定、溶液弥补设定、防水解决油的密度设定功用；5、主机配有RS－232标准打印接口，能很不便地衔接打印机将测试后果输入；6、采取大水槽设计，可下降吊栏线的浮力所形成的误差；7、两个操作步骤即可显示测量后果；8、操作简朴、不便、测量疾速；9、全主动零点跟踪功用；10、具备环境调剂功用；为什么要测试粉末冶金原料的密度粉末冶金是将金属、合金、或其氧化物、碳化物等粉末装入模具内，施以低压而成形，再进行烧结固化来制作所须要的资料、产品的技巧。粉末冶金是把金属的粉末颗粒微细化后，再制形成外形庞杂的零件，替代传统的机械加工。因为粉末冶金的孔隙构造对粉体的物感性质影响很大，而且粉末冶金产品根据其需求是以体密度、湿密度、视孔隙率、含油率等为重要的认定标准，所以关于成形胚体和烧结体的密度检测更为重要。按照标准：金属烧结资料的烧结密度=试料空气中分量÷（防水解决后试料空气中重－防水解决后试料水中重）。抉择数显台式精细密度计，密度仪，密度测试仪，密度天平，比重计，比重测试仪，比重仪，比重天平，比重密度测试仪÷测量仪

本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测 量方法，可以对 IC 制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参 数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最 优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际 纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光 学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取 算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与 待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测 参数的数值。 

本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法，可以对 IC 制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参数进行非接触、非破坏的测量。首先，通过仿真分析的手段，选出最优测量配置与最优等效介质模型；其次，将上述仿真结果运用于实际纳米结构的测量，包括：在最优测量配置下，对实际纳米结构进行光学散射测量，获得测量光谱；运用基于最优等效介质模型的参数提取算法，对测量光谱进行分析，获得提取参数的数值；通过提取参数与待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射，获得待测参数的数值。