高等教育领域数字化综合服务平台
云上高博会服务平台 高校科技成果转化对接服务平台 大学生创新创业服务平台 登录 | 注册
|
搜索
搜 索
  • 综合
  • 项目
  • 产品
日期筛选: 一周内 一月内 一年内 不限
磁性拓扑绝缘体
课题组使用一种名为角分辨光电子能谱的强大表面物理实验工具研究了反铁磁拓扑绝缘体MnBi2Te4。理论预测和此前的实验表明,这种最近合成的材料是第一个理想的反铁磁拓扑绝缘体,其天然解理面应该是绝缘的。但是,课题组通过研究数据表明,它的表面能带形成了一个完整的X形——这证明该表面以不寻常的,拓扑保护的方式导电。这个数据推翻了此前的实验结论,使磁性拓扑体系的研究迈入一个新的阶段。课题组指出,这种奇异的行为可能是由于表面磁性或结构重构引起的。文中的第一性原
南方科技大学 2021-04-14
磁性黑(绿、白)板
产品详细介绍
西安半坡教学设备有限责任公司 2021-08-23
磁性黑(绿.白)板
产品详细介绍
马鞍山市文昌教学用具厂 2021-08-23
磁性黑(绿.白)板
产品详细介绍
马鞍山市文昌教学用具厂 2021-08-23
化学实验装置磁性教具
宁波浪力仪器有限公司(余姚市朗海科教仪器厂) 2021-08-23
同腔原位复合沉积铱-氧化铝高温涂层设备与工艺
同腔原位复合沉积铱?氧化铝高温涂层设备与工艺,涉及化学气相沉积技术领域。设备包括反应腔体系统、四条管路系统、真空系统和尾气处理系统,系统之间通过管路密封连接。四种前驱体源置于源瓶中,源瓶与四条管路分别相连。通过四个气动阀调控前驱体源的通入,N2作为源的载气,真空泵系统为设备提供一定真空度,尾气处理处理系统对反应后产物进行处理后排放;通入Al(CH3)3、H2O源,ALD沉积复合材料的Al2O3层,通入Ir金属化合物、O2源,ALD沉积复合材料的Ir层,将Ir化合物源通入反应腔内高温分解,CVD沉积Ir层。按照复合涂层工艺方案沉积,得到耐高温抗氧化、高粘附力、抗热震的Re基Ir?Al2O3复合涂层材料。在航空航天、能源动力以及国防等领域具有广泛的应用。
东南大学 2021-04-11
基于金属氧化物的复合半导体光催化剂
将纳米级尺寸石墨烯量子点修饰到超薄ZnO纳米片表面,同样可大提高ZnO纳米片的光催化性能。
上海理工大学 2021-04-10
氧化石蒜碱油酸复合物纳米乳(1+6类)
氧化石蒜碱(Lycobetaine, LBT)又名恩其明,是由石蒜科植物Umgernia minor的叶子或Crinum asiaticum的果实中提取出的四级啡啶类生物碱。在相应的细胞学研究中,氧化石蒜碱对于Lewis肺癌,艾氏腹水癌等多种肿瘤细胞株的抑瘤作用都十分明显。但此药物的水溶液制剂生物利用度极低,体内半衰期只有30秒,影响了氧化石蒜碱本身的药效,需要大剂量多次给药。而且由于药物脂溶性太差,不适用于大部分现有载体,限制了其在临床中的使用。 本项目将纳米乳作为氧化石蒜碱的载体,设计了一种能应用于工业化大生产,生产成本低,辅料符合要求,制备工艺简单,可以提高药物在体内的循环时间以提高药物疗效的氧化石蒜碱纳米乳给药系统,并对该纳米乳的理化性质、体内药动学、组织分布、药效学和毒副作用进行了相应的研究。
四川大学 2016-04-18
基于金属氧化物的复合半导体光催化剂
将纳米级尺寸石墨烯量子点修饰到超薄ZnO纳米片表面,同样可大大提高ZnO纳米片的光催化性能,结果如下图所示,这主要归因于石墨烯量子点与ZnO纳米片形成p-n结,促进光生载流子的分离效率。 此外,将 N 掺杂石墨烯量子点与 TiO2 纳米片复合,构筑高效可见光催化剂, 可
上海理工大学 2021-01-12
低钒脱硝、脱二噁英双功能低温锰钛催化剂的研发
小试阶段/n1. VOx /TiO2 体系的催化剂的制备及催化分解 NOx 和氯苯各项指标性能的评价。研究添加 W、 Mn、 Sn、 Ce 等组分,载体 TiO2 的晶型和形貌和制备方法(包括干混法、等体积浸渍法和湿法浸渍法)对催化分解 NOx 和氯苯性能的影响。。 2. 筛选的低钒催化剂的配方和制备工艺优化实验。研究添加不同种类过渡金属氧化物对催化剂催化性能的机理。。 3. 对上述所得到的低钒含量催化剂体系做进一步的配方和制备工艺的优化,。并进行低温催化还原 NO 和催化氧化氯苯的活性研究。。 4. 制备低钒含量,且具有高的低温催化活性的成型蜂窝状催化剂。
武汉工程大学 2021-04-11
首页 上一页 1 2
  • ...
  • 66 67 68
  • ...
  • 381 382 下一页 尾页
    热搜推荐:
    1
    云上高博会企业会员招募
    2
    64届高博会于2026年5月在南昌举办
    3
    征集科技创新成果
    中国高等教育学会版权所有
    北京市海淀区学院路35号世宁大厦二层 京ICP备20026207号-1