本实用新型提供一种柔性驱动机构，包括驱动单元、力放大单元、控制单元和储能单元。驱动单元通过镶嵌有单向轴承的力放大单元放大输出力作用于储能单元。驱动单元通过不断往复运动将能量输入储能单元中，当储能单元中的弹性能达到所需的要求时，通过通信单元遥控控制单元将储能单元中储存的弹性能一次性释放出来，以实现步行、爬行、滚动、跳跃、突进多种功能以及功能之间的相互切换。本实用新型采用智能软材料作为驱动器，其机电转换效率高，能量密度大，噪音低。并且大部分的结构都可以使用柔性材料进行替代，抗破坏能力强；同时柔性驱动机构通过与不同外壳的组合可以同时实现步行、爬行、滚动、跳跃、突进多种功能，可以应用于机器人，玩具，能量收集等多方面。

产品概述： FCP磁场控制平台是根据磁控原理设计的理想磁测量系统，磁场范围超过3T，利用TESTIK475高斯计稳定磁场控制，适合各系列电磁铁配置，连续可变的电磁气隙，实心的和光学入口极帽，线型双极，真实四象限电磁铁电源。   您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 磁场控制平台磁控原理磁测量系统 FCP磁场控制平台控制特征： TESTIK475型高斯计努力保持确切的磁场密度，用户输入的控制设定点，用G、T、Oe、A/m来表示。北京锦正茂的电磁铁磁场控制平台集成了硬件和控制部件来形成一个变化的磁场平台，可以被独立的被利用或做为用户设计的测量系统的一个基础。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！  磁场控制平台磁控原理磁测量系统 ※ 磁场控制平台包括锦正茂公司的电磁铁、双极电源、具有控制能力的DSP技术的高斯计、霍尔探头及支架等。 锦正茂提供的磁场控制平台具有不同的配制用来满足在磁场强度、磁场均匀性、样品尺寸、自定义测量要求等基础之上的用户要求。可以独立的形成用户所需要的不同磁场强度的可变磁场。广泛用于磁光测量系统、VSM测量系统、在线退火、霍尔效应、磁化率测量、自旋磁共振、B-H曲线测量和精准的传感器校准等领域。 475高斯计从高斯计霍尔探头得到反馈来计算并调整控制（模拟）输出。为了更大程度实现控制的稳定性，475型高斯计每33毫秒更新模拟输出。结果是一个内置的PI 控制器提供了峰值-到-峰值的0.5 G*的磁场稳定性。 ※ 当设定点速率激活的时候，仪器会开始从当前磁场读数加速而不是当前设定点，基于对P和I的设定。另外，475高斯计能设定速率来控制设定点，从当前磁场读数到一个新的值，使用一个磁场中平滑线性变换而不是瞬态特性的PI控制。 ※ 开环磁场控制也可能用手动输出来使用475模拟输出，这意味着忽视了反馈并且模拟输出停留在手动用户调整。这个方法使磁体电源操作处于恒定电流模式。 ※ 475也包含了用户可设定的控制斜率限制和模拟输出电压限制。这些软件限制保证了磁体电源如果磁场控制系统遭到不合适的调整或开始摆动而不会损坏。 您也可以在淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，就能看到我们的企业店铺，联系更加方便快速！ 锦正科技以现代高科技产业和传统产业为核心业务，对内承接科研生产任务，对外以商务平台方式实现军民两用技术成果转换，形成了科学管理的现代化经营模式，专门从事物理、化学和材料等领域的科学仪器研发、销售各类型超低温测试设备（液氮 液氦）制冷机系统集成 ，定制 ，高低温真空磁场发生系统，Helmholtz线圈（全套解决方案），电磁铁（全系列支持定制），螺线管，电子枪（高稳定性双极性磁铁恒流电源1ppm），高低温磁场真空探针台，霍尔测试系统，电输运测量解决方案，磁光克尔效应测量系统等产品种类齐全，性能可靠，至今已有近10余年的历史，是国内（较早）生产探针台，电输运，电磁铁的厂家之一。    

针对传统光栅衍射效应固定不变，不可调节，运用面狭窄的问题，提出了一种磁流体光栅，利用外磁场的强度来控制磁流体的折射率和吸收系数，进而使得磁流体光栅的折射率调制和吸收系数调制随外磁场的改变而改变，实现磁流体光栅衍射效率可调的特性。   所述磁流体光栅包括一个周期性凹槽、一种磁流体、一个光学透明的刚性覆盖层及一个磁场产生装置，磁流体填入周期性凹槽的各个凹槽中，光学透明的刚性覆盖层将磁流体密封在周期性凹槽中，磁场产生装置置于周期性凹槽外，磁场产生装置通电后在磁流体所在的位置产生均匀、可调的磁场，用于改变磁流体的折射率和吸收系数。   所述的周期性凹槽是在光学透明的刚性衬底上用带折射率的光学材料隔成一个个凹槽，制作凹槽的方法采用蚀刻法。所述磁流体，由表面包覆活性剂的磁性微粒和用于分散磁性颗粒的液相载液组成。所述周期性凹槽的深度在1μm—10μm之间、宽度在1μm一200μm之间。所述光学透明的刚性衬底和光学透明的刚性覆盖层为石英(Si02）、光学玻璃。所述的周期性凹槽的周期Λ、深度d、入射光波长λ和磁流体光栅的平均折射率n0满足关系式2πλd／(noΛ)2<<1薄光栅条件，形状选用矩形、锯齿形、余弦形。所述的磁流体的磁性微粒选用四氧化三铁(Fe304)、三氧化二铁(Fe203)、锰锌铁氧体，表面活性剂选用油酸、亚油酸、橄榄油，液相载液选用水、煤油。所述的磁场产生装置包括一个或一对螺线圈和一个可调直流恒流源，该可调直流恒流源用于给电磁铁或螺线圈供电，其输出电流的大小控制电磁铁磁场或螺线圈感应磁场的强度。所述的磁场产生装置产生的磁场平行于衬底或覆盖层的表面、并且垂直于凹槽的长边侧壁。  将磁流体这一液相磁性物质用来制作光栅，利用磁流体的折射率和吸收系数随外磁场强度变化的特点，通过外磁场即可控制光栅的衍射光效率，从而实现了衍射奴率可调的光栅。实现了可在线、实时调节指定阶次衍射光的衍射效率，为光通讯和光子器件领域的性能提高提供了新的方法。

产品详细介绍安装简单方便粘贴式磁性带传感器磁头安装允许的间隙小（10mm）非接触式线性测量系统，无磨损抗液体、抗油污、抗振动，可以在-20～70℃温度范围内正常使用 广泛应用于各种行业的位置、角度检测中 

320mm×220mm×200mm，酒精灯加热，轮子会转动。

简介：本发明公开了一种新型低端MOSFET/IGBT负压箝位驱动电路及其控制方法，属于电力电子驱动领域。它包括电路连接的负压箝位驱动单元与BOOST升压单元；控制方法的步骤为：（1）控制S1与S4处于导通状态，S2与S3处于关断状态；（2）控制S1、S2、S3和S4处于关断状态，Q栅源极上的电压始终维持在U3上不变；（3）控制S2与S3处于导通状态，S1与S4处于关断状态，Q上的栅源电压将会被箝位在电压U4上，Q瞬间被关断；（4）控制S1、S2、S3和S4都处于不导通状态，Q栅源极上的电压维持在U4上。其中S1、S2、S3、S4和Q均代表不同的MOSFET开关管。本发明提高了驱动电路的抗干扰能力，可有效防止开关器件的误导通。

本发明公开了一种新型钢铸件表面电镀工艺，属于金属表面处理领域。采取新的酸性电镀工艺，实现铸件的快速优质电镀，该工艺具有镀层厚度均匀、镀层光亮度好、镀层与铸件结合力牢固，镀层致密的优点。该工艺具有下列特点：流程简洁、工艺参数易于控制、成本低廉、电镀效果优良。电镀过程中无废水排放，钢铸件在电镀前不需要对钢铸件表面的气孔进行修补，极大地节省了成本。该电镀工艺实际运行过程中，电流密度变化幅度小，电镀后镀层与铸件结合力牢固，镀层光洁度好、镀层均匀。该工艺实现了前处理工艺简洁、成本低廉与电镀效果优异的共赢。

本实用新型公开了一种瓶体翻转机构，包括：转盘机构，其具有可旋转的转盘，该转盘外周开有多个齿，各齿之间的空间用于容置瓶体；传送带，其设置在转盘一侧，瓶体通过该传送带输入转盘中；螺旋分瓶器，其为螺杆结构，其设置在传送带上并可轴向旋转，用以将传送带上的待进入转盘机构的瓶体之间的间距进行调整，以实现瓶体均匀进行转盘机构的齿形凹槽中；通过传送带输送的多个瓶体在进入转盘机构的转盘前通过螺旋分瓶器进行间距调整，从而分别对应进入转盘各齿形凹槽中，经转盘旋转带动从另一侧的出口输出即可实现瓶体翻转。本实用新型的机构能够

本发明公开了一种输液管上料机构，设置在输液管组装生产线上，用于实现输液管原料管体的自动上料，包括装载输液管管体的上料组件和抓取上料组件上的输液管管体并输送到下一工序工位上的输送组件，上料组件包括可移动的送料架，其上设置有多个用于容置输液管管体的沟槽；输送组件包括可移动的支架，其下端安装有多个气爪，用于抓取移动送料架上的输液管管体；该可移动支架带动抓取有输液管管体的气爪移动以输送到下一工序的工位，实现自动上料。本发明的上料机构通过利用可移动式送料架，解决了管与管之间容易缠绕的问题，使操作更加便利；采用