产品详细介绍1. 全封闭式暗箱和紫外防护板两种设计，方便客户根据实际需求选择2. 根据紫外透射面积不同分为三种型号：UV3A   150mm×100mm                                UV3B   150mm×200mm                                UV3C   200mm×200mm3. 双面抛光紫外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰4. 透射波长：312nm5. 采用高频电子控制，节能，启动快，无闪烁，有效延长灯管寿命6. 强力风扇散热，有效防止灯管热量对凝胶样品的影响7. UV3C增置254nm、365nm紫外光及可见光反射装置，满足更多实验要求8. 可选配LCD-240白光板，可见光透射面积240mm×240mm9. 内置220V电源插座，方便其它实验要求10. 暗箱式紫外透射仪预留CCD接口，可增置CCD和凝胶图像分析软件，进行定性或定量分析11. 外观设计精致，节约实验室空间12. 特别适合于科研实验室和教学实验室使用。

产品详细介绍1. 全封闭式暗箱设计，可在明室观察、拍摄2. 130万像素低照度高分辨率CCD，信噪比≥70dB，具备软积分功能3. 日本大孔径6倍光学电动变焦镜头，∮52mm，变焦范围11.5~69mm，USB输出4. 专业紫外增强灯管，紫外光强度达到1000uw/cm25. 双面抛光西外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰6. 紫外透射面积：200mm×200mm，透射波长312nm7. 带254nm、365nm紫外及可见光反射装置8. 电动变焦镜头可通过软件控制光圈、对焦、图像放大或缩小等参数调整，操作方便，精度高9. 标配Hema GSG2000核酸/蛋白凝胶图像分析管理软件10. 图像分析和管理软件可提供多用户管理系统，方便进行实验结果的记录和管理，符合良好实验室标准11. 软件功能强大，界面简洁清晰，操作简便，全中文显示12. 高性价比，特别适合于科研实验室及教学实验室使用。

产品详细介绍  三用紫外分析仪|暗箱式紫外分析仪|手提式紫外分析仪|紫外分析仪zf-1|台式紫外分析仪|zf-1三用紫外分析仪|紫外分析仪价格|紫外分析仪英文|紫外分析|紫外分析软件|三用紫外线分析仪|紫外线杀菌器 产品规格：UVG20 产品规格：200*200mm，波长302nm 产品产地：上海 产品价格：4100 产品简介：领成UV220型紫外分析仪（暗箱替代型），结构现代，替代传统的庞杂的暗箱型紫外分析仪。特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 产品特点 领成UV220型紫外分析仪（暗箱替代型），结构现代，替代传统的庞杂的暗箱型紫外分析仪。 特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 配合领成GJ250型割胶装置，组成UVGJ20型紫外割胶装置。 二、仪器结构 仪器装有二组透射紫外光源，提供不同的光强度。并专业设计的进口防紫外玻璃盖，可对样品全面直观地观察分析，紫外玻璃盖能过滤99%以上的紫外线。 三、技术参数 紫外透射滤色片尺寸：200×200mm 波长：302nm 外型尺寸（长×宽×高）365×310×152mm 四、使用说明 将样品放在紫外透射滤色片中央，开启“UV1“或同时开启“UV2” 电源，观察样品。 相关链接：http://www.tocan.cn/index.php?do=product&CategoryID=1003 详情请链接网址：www.tocan.cn联系电话：021-51863860、18917331948   联系QQ：278622785                        传　　真：021-55236681 公司地址：上海市翔殷路165号A区319室 邮编：200433  

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高分辨率电子电路光刻胶是制造高密度、高精度电子电路的核心材料之一， 该类光刻胶在达到分辨率要求的同时，还需具备高感度、高硬度、优异的耐焊性 和耐酸碱性等物理化学性能，以满足电子电路复杂的制造工艺要求。长期以来， 由于我国高性能基础光固化材料开发的滞后，导致国产电子电路光刻胶技术水平低下，相关产品占国内市场份额不足 30%，其中高分辨率电子电路光刻胶更是被国际公司所垄断。针对上述现状，团队通过高性能光固化材料的开发突破了高分辨率电子电路光刻胶制备关键技术和产品创新技术，并制备了以高分辨率阻焊油墨和光致抗蚀剂为主的一系列具备优异物理化学性能的高分辨率电子电路光刻胶产品。

托布带：克重4600g/㎡，厚度10mm 吸油毡：厚度10~20mm 适用于：人造毛皮行业，毛纺行业，烫光机、烫剪机以及各类进口、国产机械以上产品规格根据客户需求均可定制。

紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来，紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面，国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。先进光谱仪器是集光、机、电和计算机于一体，技术密集的高科技产品。它是现代科技必不可少的精密检测和分析手段，是现代天文学、航空航天、分子生物学、现代医学、环境和生态等新科技建立和发展的基础。国家对发展先进光谱仪器和研制光谱仪器用的探测器件非常重视，“十一五”国家科技支撑计划专门设立了科学仪器设备研制与开发专项“先进大型光谱仪器的关键部件——高分辨分光器件和探测器件的研制”，技术人有幸成为承担该课题的主要研究人员，负责高分辨探测器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最广泛应用的光电探测器，而且先进的光谱仪器都采用了CCD或CMOS作为探测器件，这是因为CCD和CMOS具有灵敏度高、低噪声等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段响应很弱，这种很弱的紫外响应限制了硅基成像器件在先进光谱仪器及其他紫外波段探测方面的使用。 因此，本技术的研究成果硅基成像器件的紫外响应增强薄膜是经济建设和社会发展迫切需要。 增强硅基成像器件的紫外响应，目前有两种方法：一是改变硅基探测器的结构，如背照式CCD；另外一种是在现有的成像器件光敏窗口加镀一层下变频膜，把紫外光先转化为可见光，然后再接收。国外自1980年起就开始增强硅基探测器紫外响应的下变频薄膜研究，按使用材料的属性，可以把变频膜分为有机变频膜和无机变频膜两种。有机变频膜技术相对成熟，也有相关的专利出现。哈勃太空望远镜CCD、星球相机（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的响应波段延伸到紫外的CCD都是镀的有机变频膜。目前紫外增强有机变频膜可使普通CCD的响应波段延伸到200nm，Roper Scientific公司开发的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下变频效果。有机变频膜技术尽管成熟，但该类薄膜有着致命的缺点，那就是有机物分子在紫外辐射下降解速度很快。在照明度为1μW/cm2的光照下，有机分子以高达每小时3%的速率成指数降解。在这一方面，而无机变频膜具有不可比拟的优点。无机变频膜材料可以在它使用期限的前2%时间里，减少90%的降解量，因此，无机变频膜具有非常优越的稳定性。在无机变频膜方面，国外研究也刚起步，最早的报道见于2003年[1]，目前尚无成熟的增强硅基成像器件的紫外无机变频膜技术。国内在有机和无机变频膜方面，都没有已见报道的研究工作。  为了提高探测器对紫外辐射的敏感性，我们采取了在硅基成像器件光敏窗口上镀变频膜的办法，成功地使CCD及CMOS的响应波段拓展到150nm。该产品可广泛应用在光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对推动国家的科研和产业在这些领域的发展有极大帮助。

240-280nm范围电磁波谱段也称为日盲紫外波段。日盲紫外探测与成像为电子领域的尖端技术，被公认为国际军事制高点。同时，该技术在电网安全监测、医学成像、环境与生化检测等民生领域也有重要应用。由于日盲紫外技术的重要战略意义，西方国家对我国实行严密核心技术封锁，为维护国家安全，发展我国的日盲紫外探测与成像技术，就必须通过自主创新，开辟新的技术路径。 针对国家在日盲紫外探测及应用技术方面的