产品详细介绍  三用紫外分析仪|暗箱式紫外分析仪|手提式紫外分析仪|紫外分析仪zf-1|台式紫外分析仪|zf-1三用紫外分析仪|紫外分析仪价格|紫外分析仪英文|紫外分析|紫外分析软件|三用紫外线分析仪|紫外线杀菌器 产品规格：UVG20 产品规格：200*200mm，波长302nm 产品产地：上海 产品价格：4100 产品简介：领成UV220型紫外分析仪（暗箱替代型），结构现代，替代传统的庞杂的暗箱型紫外分析仪。特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 产品特点 领成UV220型紫外分析仪（暗箱替代型），结构现代，替代传统的庞杂的暗箱型紫外分析仪。 特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小，它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察，可检测蛋白质，核甘酸等，在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量，对薄层分析，各种同功酶，纸层分析进行观察分析和摄影，并可作为PCR技术的专用仪器。 配合领成GJ250型割胶装置，组成UVGJ20型紫外割胶装置。 二、仪器结构 仪器装有二组透射紫外光源，提供不同的光强度。并专业设计的进口防紫外玻璃盖，可对样品全面直观地观察分析，紫外玻璃盖能过滤99%以上的紫外线。 三、技术参数 紫外透射滤色片尺寸：200×200mm 波长：302nm 外型尺寸（长×宽×高）365×310×152mm 四、使用说明 将样品放在紫外透射滤色片中央，开启“UV1“或同时开启“UV2” 电源，观察样品。 相关链接：http://www.tocan.cn/index.php?do=product&CategoryID=1003 详情请链接网址：www.tocan.cn联系电话：021-51863860、18917331948   联系QQ：278622785                        传　　真：021-55236681 公司地址：上海市翔殷路165号A区319室 邮编：200433  

本发明公开了一种光纤 EFPI 次声波传感器及次声信号探测系 统。本发明与同类型的其他声学探测方法相比，在换能器中采用聚合 物薄膜，并对聚合物薄膜的厚度和直径进行了优化设计，使得传感器 能探测 1～20Hz 的次声波，且灵敏度高达 121mV/Pa。在换能器的聚合 物薄膜内侧中心粘贴铝质薄膜，并对铝质薄膜的厚度和直径进行了优 化设计，不仅大幅提高了换能器的光学反射率，而且使聚合物薄膜的 中心振动保持平稳。本发明与传统

紫外探测技术是继激光探测技术和红外探测技术之后发展起来的又一军民两用光电探测技术。几十年来，紫外探测技术已经逐渐应用于光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对现代科研、国防和人民生活都产生了深远的影响。特别是在先进光谱仪器方面，国内急迫需要响应波段拓展到紫外的硅基成像器件。先进光谱仪器是集光、机、电和计算机于一体，技术密集的高科技产品。它是现代科技必不可少的精密检测和分析手段，是现代天文学、航空航天、分子生物学、现代医学、环境和生态等新科技建立和发展的基础。国家对发展先进光谱仪器和研制光谱仪器用的探测器件非常重视，“十一五”国家科技支撑计划专门设立了科学仪器设备研制与开发专项“先进大型光谱仪器的关键部件——高分辨分光器件和探测器件的研制”，技术人有幸成为承担该课题的主要研究人员，负责高分辨探测器件的研制工作。 硅基成像器件如CCD和CMOS是最广泛应用的光电探测器，而且先进的光谱仪器都采用了CCD或CMOS作为探测器件，这是因为CCD和CMOS具有灵敏度高、低噪声等优点。但由于紫外波段的光波在多晶硅中穿透深度很小（<2nm），一般的硅基成像器件如CCD、CMOS等都在紫外波段响应很弱，这种很弱的紫外响应限制了硅基成像器件在先进光谱仪器及其他紫外波段探测方面的使用。 因此，本技术的研究成果硅基成像器件的紫外响应增强薄膜是经济建设和社会发展迫切需要。 增强硅基成像器件的紫外响应，目前有两种方法：一是改变硅基探测器的结构，如背照式CCD；另外一种是在现有的成像器件光敏窗口加镀一层下变频膜，把紫外光先转化为可见光，然后再接收。国外自1980年起就开始增强硅基探测器紫外响应的下变频薄膜研究，按使用材料的属性，可以把变频膜分为有机变频膜和无机变频膜两种。有机变频膜技术相对成熟，也有相关的专利出现。哈勃太空望远镜CCD、星球相机（WFPC）CCD和Photometrics等公司提供的响应波段延伸到紫外的CCD都是镀的有机变频膜。目前紫外增强有机变频膜可使普通CCD的响应波段延伸到200nm，Roper Scientific公司开发的Metachrome II薄膜在120-430nm波段都具有良好的下变频效果。有机变频膜技术尽管成熟，但该类薄膜有着致命的缺点，那就是有机物分子在紫外辐射下降解速度很快。在照明度为1μW/cm2的光照下，有机分子以高达每小时3%的速率成指数降解。在这一方面，而无机变频膜具有不可比拟的优点。无机变频膜材料可以在它使用期限的前2%时间里，减少90%的降解量，因此，无机变频膜具有非常优越的稳定性。在无机变频膜方面，国外研究也刚起步，最早的报道见于2003年[1]，目前尚无成熟的增强硅基成像器件的紫外无机变频膜技术。国内在有机和无机变频膜方面，都没有已见报道的研究工作。  为了提高探测器对紫外辐射的敏感性，我们采取了在硅基成像器件光敏窗口上镀变频膜的办法，成功地使CCD及CMOS的响应波段拓展到150nm。该产品可广泛应用在光谱分析、军事、空间天文、环境监测、工业生产、医用生物学等诸多领域，对推动国家的科研和产业在这些领域的发展有极大帮助。

用于模型和零件的快速制造。应用领域：家用电器、汽车制造、航天航空、船舶、工业设计模具加工等。以低成本的紫外光灯为光源，以光固化的原理，通过叠层制造的方法快速制造零件，扫描速度：20～500mm/s。工作精度±0.2mm。该成型机是首创使用低成本紫外光源灯替代激光发生器，光源价格仅相当于激光器的1/100，性能价格比高，是目前国内外价格最低的快速成型机，具有

徐永兵课题组于2014年启动了国家重大仪器研究计划（飞秒级时间分辨并自旋分辨电子能谱探测系统，项目编号61427812）。此项目就是旨在建立国内第一套极深紫外的光源系统。目前已经成功地在实验室中，实现了波长为120~24 nm左右的脉冲光源，脉冲重复频率为1kHz，单个脉冲为30fs。单个光子能量最大到50 eV左右，亮度为1 ´ 1011光子/s。从光

臭氧协同紫外（UV/O3）的高级氧化消解技术是一种高效的新型水处理工艺，运用光、电、水产生高活性的羟基自由基对水样进行氧化消解，使水样中难以降解的有机污染物中的大分子氧化成容易降解的低毒性或无毒性的小分子物质。该氧化消解技术需要的反应条件十分温和，而且氧化消解效率远高于传统的重铬酸钾氧化消解方法，反应过程无二次污染产生，是一种极具发展潜力和竞争力的绿色氧化消解技术。 本装置根据 COD 是“以化学方法测量水样中有机物被强氧化剂氧化时所消耗之氧的相当量”的定义，在 UV/O3进行水样消解的过程中，利用多传感器检测消解过程的参数，建立还原物降解特征信息检测模型，实现 COD 的在线监测。其主要特点在于： （1）该装置反应条件温和，在常温常压下操作，消解效率高于重铬酸钾法，且绿色环保无污染。 （2）真正实现 COD 的免化学试剂在线检测，完全避免了毒性铬盐、汞盐的二次污染，克服了消耗银盐产生的高费用等缺点。 （3）可以针对复杂水质实现自适应检测，包括地表水、工业污水或生活污水等，无需更换氧化剂或调整任何装置参数。检测结果不受水样的物化性质影响。