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高分辨率电子电路光刻胶制备关键技术
高分辨率电子电路光刻胶是制造高密度、高精度电子电路的核心材料之一, 该类光刻胶在达到分辨率要求的同时,还需具备高感度、高硬度、优异的耐焊性 和耐酸碱性等物理化学性能,以满足电子电路复杂的制造工艺要求。长期以来, 由于我国高性能基础光固化材料开发的滞后,导致国产电子电路光刻胶技术水平低下,相关产品占国内市场份额不足 30%,其中高分辨率电子电路光刻胶更是被国际公司所垄断。针对上述现状,团队通过高性能光固化材料的开发突破了高分辨率电子电路光刻胶制备关键技术和产品创新技术,并制备了以高分辨率阻焊油墨和光致抗蚀剂为主的一系列具备优异物理化学性能的高分辨率电子电路光刻胶产品。
江南大学 2021-04-13
高白度抗静电纳米粉体
        研发团队针对高性能、抗静电热控涂层材料开展自主科研攻关,研发出具有自主知识产权的白色氧化锌导电粉体,与相关企业合作建立了100Kg级导电粉体中试生产线,完成了粉体批次稳定性验证,突破了批量制备导电粉体稳定性差的瓶颈,形成了一套高性能白色氧化物导电粉体的标准生产工艺。产品技术指标经权威检测机构检验达到或超过进口产品水平,并已通过国家航天领域应用验证。同时,产品原料及生产成本远低于进口产品,有望在我国民用市场普及。产品可应用于汽车、电子、纺织、橡胶和化工等领域的防静电、节能、电磁屏蔽等,如轮胎橡胶添加剂、红外反射涂层、防静电涂层等,市场前景广阔。         意向开展成果转化的前提条件:中试放大及产业化工艺开发资金支持
东北师范大学 2025-05-16
高纯气相法纳米氧化铝
产品特点   高纯气相法纳米氧化铝ZH-Alum通过等离子体气相燃烧法制备,反应迅速、产量大、纯度高、原晶粒径小、分布均匀,比表面积大、表面干净,无残余杂质,松装密度低,易于形成单分散,粉体表面带电荷,气相法制备可以替代进口产品。   产品参数 产品名称 型号 平均粒度(nm) 纯度(%) 比表面积(m2/g) 松装密度(g/cm3) 晶型 磁性异物 颜色 气相法氧化铝 ZH-Alum80 20 >99.9 80+-15 0.03 混合相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum100 15 >99.9 100+-15 0.04 混合相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum150 10 >99.9 150+-20 0.05 γ相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum220 5 >99.9 220+-20 0.05 γ相 <200ppb 白色 加工定制 为客户提供定制颗粒大小和表面改性处理   产品应用   1、高纯气相法纳米氧化铝应用于锂电池隔膜材料,提高耐高温性和安全性;也用于锂电池阳极,提高导电性和可逆放电电容;用于负极包覆,提高耐温和安全性;用作锂电池电极涂层,可以起到隔热,绝缘的作用,提高安全性能;   2、高纯气相法纳米氧化铝掺杂铝到钴酸锂中,可形成固溶体,稳定晶格,提高倍率性能和循环性能;   3、用高纯纳米氧化铝对钴酸锂进行包覆,可以提高热稳定性,提高循环性能和耐过充能力,氧的生成和LiPF6的分解,可避免LiCo02与电解液直接接触,减少电化学比容量损失,从而提高LiCoO2的电化学比容量;   4、纳米氧化铝中铝离子的掺杂,可以提高电池的电压,提高电池使用的安全性;   5、高纯气相法纳米氧化铝应用于改性进尖晶石锰酸锂材料,生产出的电池可逆容量大;   6、石油化工:催化剂、催化剂载体及汽车尾气净化材料;   7、抛光材料:亚微米/纳米级研磨材料、单晶硅片的研磨、精密抛光材料。   包装储存   本品为塑料袋内包装,外面为纸箱包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装。   招商代理   气相法纳米氧化铝ZH-Alum100替代国外进口产品、面向全国各大代理商和经销商招商,欢迎大家来厂考察交流。   技术咨询与索样   联系人:王经理(Mr.Wang)   电 话:18133608898 微信:18133608898 QQ:3355407318 邮箱:sales@hfzhnano.com
安徽中航纳米技术发展有限公司 2025-11-28
纳米铝塑板
产品名称:纳米氟碳涂层铝塑板 表面涂层: 铝合金:AA1100series,AA3003series 铝厚:0.3mm,0.40mm,0.45mm,0.50mm 铝厚度:4mm,5mm,6mm 宽度:1220mm,1250mm,1500mm 长度:最长至6000mm,特殊宽度可定制 背涂: 品牌:ALUSHINE 产地:山东临沂
临沂金湖彩涂铝业有限公司 2021-09-02
基于转印激光刻蚀石墨烯的耐用可降解柔性应变传感器
成果介绍一种高性能石墨烯柔性电子皮肤,该电子皮肤结合了一种具备脱水性的商业化妆品胶体以及可编程的激光刻写石墨烯,在无毒、环保、可大量印刷的制备加工工艺下,具有轻薄、贴合皮肤、可降解、高耐用性的特性,实现了高于500的应变系数、大于75[[[%]]]的拉伸范围以及稳定的电阻变化能力。该柔性表皮压阻式传感器可应用在生命体征监测、人机交互等领域中,目前已经将其初步应用在手势识别之中,并做出了一系列人机交互应用。技术创新点及参数采用绿色环保的新工艺,解决了传统激光刻写石墨烯脆弱的问题,实现了可编程激光刻写石墨烯的耐摩擦性、耐用性改善,且传感器可降解回收利用。
东南大学 2021-04-13
Biosafer高纯水机
Biosafer高纯水机以自来水为水源,生产RO纯水和I/II级水的一体化系统。每小时产水量10-40升,电阻率16-18.25MΩ.cm,满足大部分生化、化学类实验室要求的常用纯水设备,目前在国内外实验室的使用相当普及,它取代传统蒸馏法、离子交换法等制水方式,具有使用方便、能耗低、制水水质高等优点。广泛应用于化学分析、生化实验,定性分析等领域。以及玻璃器皿清洗、微生物分析、样品稀释和试剂制备、生产工艺用水,普通化学、水分析及通用HPLC、分光光谱测量、高压蒸汽灭菌器、清洗机、盐雾试验箱、老化仪等仪器用水。 可与雅培、拜耳、德灵、贝克曼、罗氏、奥林巴斯、日立等进口、国产品牌全/半自动生化分析仪配套。 技术参数    型 号 Biosafer-T 产水量(L/H) 台式 10/15/20/30/40 落地式 40-150 取水流速 1-2L/min 源水 市政自来水,TDS<200ppm,源水压力:1.0~5.0kg/cm2 、 源水温度:5~450C,(进水TDS>200ppm,选配软化器) 产水 指标                     电阻率:16-18.25Ω·cm@250C,吸光度(254nm,1cm)≤0.001 水质分别优于国家实验室GB6682-2008规格Ⅲ、Ⅰ级水标准,美国ASTM、NCCLS、CAP标准 TOC <20ppb 微生物 <1cfu/ml 离子截留率 96%~99% 电源 220V 50HZ  30~80W 外形尺寸(mm) 机箱(宽*深*高)370*470*500mm/557*667*1055mm
南京赛飞生物科技有限公司 2026-01-15
高纯纳米二氧化锆
产品特点   高纯纳米二氧化锆通过等离子体气相燃烧法制备,纯度高、粒径小、分布均匀,比表面积大、表面干净,无残余杂质,松装密度低,易于分散,纳米氧化锆,硬度较大、常温下为绝缘体、而高温下则具有优良的导电性,具有抗热震性强、耐高温、化学稳定性好、材料复合性突出等特点。   产品参数 产品名称 型号 平均粒度(nm) 纯度(%) 比表面积(m2/g) 松装密度(g/cm3) 晶型 颜色 纳米二氧化锆 ZH-ZrO215N 15 99.99 65.16 0.11 单斜 白色 纳米二氧化锆 ZH-ZrO230N 30 99.99 45.68 0.35 单斜 白色 纳米二氧化锆 ZH-ZrO23Y 50 99.99 43.26 0.38 3Y 白色 纳米二氧化锆 ZH-ZrO25Y 50 99.99 43.14 0.42 5Y 白色 纳米二氧化锆 ZH-ZrO28Y 50 99.99 43.54 0.40 8Y 白色 加工定制 为客户提供定制颗粒大小和表面改性处理   产品应用   1、高纯纳米二氧化粉体烧结成的陶瓷由于其相变增韧的良好性能;在纳米复合材料研究中,将纳米二氧化锆作为弥散相对基体进行增强韧化;稳定纳米氧化锆作为一种理想的电解质已被应用于固体氧化物燃料电池中;   2、高纯纳米氧化锆具备特殊的光学特性,对紫外长波、中波及红外线反射率高达85%以上。涂层干燥后,纳米粒子紧密填充涂层之间的空隙,形成完整的空气隔热层,并且其自身低导热系数能迫使热量在涂层中的传递时间变长,使得涂层也具有较低的导热系数,从而可以提高涂层的隔热性能;   3、高纯纳米氧化锆还可以耐火材料:电子陶瓷烧支承垫板,熔化玻璃、冶金金属用耐火材料;在高技术领域的应用日益扩大;   4、高纯纳米氧化锆应用于各种油性涂料,油漆。提高耐磨性,用于功能涂层材料中有防腐、**作用,提高耐磨、耐火效果;   5、纳米氧化锆可以用在**度、高韧性耐磨制品:磨机内衬、拉丝模、热挤压模、喷嘴、阀门、滚珠、泵零件、多种滑动部件等。   包装储存   本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装。   技术咨询与索样   联系人:王经理(Mr.Wang)   电话:18133608898  微信:18133608898 QQ:3355407318 邮箱:sales@hfzhnano.com
安徽中航纳米技术发展有限公司 2025-11-28
一种改进的基于支持向量机的纳米结构特征尺寸提取方法
本发明公开了一种改进的基于支持向量机的半导体纳米结构特征尺寸提取方法,步骤为:确定每一个待提取参数的取值范围,生成子光谱数据库;利用训练光谱和支持向量机训练网络进行支持向量机训练;对每一个待提取参数利用训练光谱重复训练多个支持向量机,每一个支持向量机的训练终止条件均不相同;利用多个支持向量机,对测量光谱进行映射;找出所有支持向量机映射结果中出现次数最高的一个,视为最有可能出现的取值区间;建立子光谱数据库,找出其中与测量光谱最为相似的仿真光谱,即认为是待测结构的参数值。本发明可以实现特征线宽、高度、侧
华中科技大学 2021-04-14
安徽中航纳米技术发展有限公司
安徽中航纳米技术发展有限公司 2025-06-20
广州博未特纳米生物科技有限公司
广州博未特纳米生物科技有限公司 2025-09-16
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