光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测量方法
本发明公开了一种光学散射测量中粗糙纳米结构特性参数的测 量方法,可以对 IC 制造中所涉及纳米结构的结构参数和粗糙度特征参 数进行非接触、非破坏的测量。首先,通过仿真分析的手段,选出最 优测量配置与最优等效介质模型;其次,将上述仿真结果运用于实际 纳米结构的测量,包括:在最优测量配置下,对实际纳米结构进行光 学散射测量,获得测量光谱;运用基于最优等效介质模型的参数提取 算法,对测量光谱进行分析,获得提取参数的数值;通过提取参数与 待测参数间稳定性最佳的映射关系式对提取参数进行映射,获得待测 参数的数值。
华中科技大学
2021-04-11