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产品详细介绍 u 三路麦克风输入 u 麦克风独立调节 u 线路立体声输入 u 录音立体声输出 u 外接4-16Ω喇叭 u 高、低音调节 u 话筒48V独立切换 u 话筒反馈状态独立切换 u 供电方式:AC220V/50Hz u 反馈移频量:5Hz±1Hz u 输出功率:100W u 频率响应:非反馈移频状态:20Hz ~ 20kHz       反馈移频状态:150Hz ~ 15kHz
恩平市海天电子科技有限公司 2021-08-23
工信部等八部门联合印发《“十四五”智能制造发展规划》
智能制造是制造强国建设的主攻方向,其发展程度直接关乎我国制造业质量水平。发展智能制造对于巩固实体经济根基、建成现代产业体系、实现新型工业化具有重要作用。
工信微报 2021-12-28
一种铝合金周期性点阵多孔结构的快速成形制造方法
本发明公开了一种铝合金周期性点阵多孔结构的快速成形制造 方法。通过 CAD 软件构建基于点阵单元的周期性点阵多孔结构的三维 模型,将模型以 STL 格式输出,导入到 SLM 成形设备中,激光束根 据切片层的数据选择性地熔化区域内的铝合金粉末得到二维的金属结 构,经层层堆积最终可以得到与 CAD 模型一致的三维铝合金多孔结 构,再经过热处理、分离、喷砂等后续处理即可得到表面光洁、性能 良好的铝合金周期性点阵多孔结构。本
华中科技大学 2021-04-14
一种具有高粉末原料利用率的高能束增材制造方法与设备
本发明公开了一种具有高粉末原料利用率的高能束增材制造方 法及设备。方法根据待成形金属构件切片轮廓形状确定成型缸的内部 结构,使各铺粉层的金属粉末尽量只处于待成形金属构件切片轮廓形 状对应的区域,以大幅度减少金属粉末的用量,并提高高能束增材制 造的功效。设备包括一个或多个成型缸,该成型缸的内部结构与待成 形金属构件切片轮廓形状相匹配。本发明通过使用镶块以及与金属构 件切片轮廓形状相适应的异形基板,实现了针对不同金属构件
华中科技大学 2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺,包括步骤:1)在洁净硅片上热生长一层 SiO<sub>2</sub>薄膜、2)在有 SiO<sub>2</sub>层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO<sub>2</sub>,将光刻的图形转移到 SiO<sub>2</sub>层、4)镀Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微
华中科技大学 2021-04-14
制造有机场效应晶体管的方法、实现该方法的喷嘴及装置
本发明公开了应用混合型喷嘴喷印制造有机场效应晶体管的方 法,包括以下步骤:1)喷印 Gate 极;2)喷印介电层;3)成形导电单元: 混合型喷嘴喷出的液体在接收基板上沉积形成导电单元及覆在导电单 元上的油层;4)转印;5)制造连接电极层;6)组合封装。本发明工艺简 单,在混合型喷嘴制备完成的情况下,静电纺丝工艺实现简单,对环 境要求也较低;成本低,设备成本低,同时制造过程中均只需要一定 浓度的溶液,损耗少;精度、分辨率高,不需重复定位,而且静电纺 丝所得纤维器件均在微纳尺度,集成度完全满足电路要求;
华中科技大学 2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工 艺,包括步骤:1)在洁净硅片上热生长一层 SiO2 薄膜、2)在有 SiO2 层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO2,将光刻的图 形转移到 SiO2 层、4)镀 Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微米线表面镀一层 ZnO 膜、8)在 Si 微米线表面生长 ZnO 纳米线、9)在 ZnO 纳米线表面制备一层 CdS 薄 膜 、 10) 在 ZnO/CdS 结 构 表 面
华中科技大学 2021-04-14
中药饮片质量标准生产执行系统及智能化中药炮制设备-中药饮片质量标准生产执行系统计算机软件著作权登记证
南京中医药大学 2021-04-13
自来水生产过程控制关键技术研究与自动化、信息化示范工程建设
“自来水生产过程控制关键技术研究与自动化、信息化示范工程建设”项目通过对制水生产流程的关键性工艺流程的研究,针对整个工艺流程大时滞、大惯性和非线性的特点,在原有检测和控制设备的基础上,通过建立与实际工艺和设施相应吻合的系统数学模型,改进控制算法,开发臭氧投加,加矾和加氯系统的智能化自动控制系统,并进行大系统整合、优化,实现对自来水厂整个工艺流程的自动控制,进而提高和稳定出厂自来水的水质,并实现节能降耗。该成果已经在南京城北水厂、北河口水厂、苏州相城水厂得到广泛应用。
东南大学 2021-04-10
自来水生产过程控制关键技术研究与自动化、信息化示范工程建设
简介内容文字控制在150-300字,主要说明成果的特点和技术创新点,应用领域(可以包括:主要技术、经济性能指标,成熟程度,应用前景,投资规模,希望的合作方式、获得的荣誉或专利情况等内容)“自来水生产过程控制关键技术研究与自动化、信息化示范工程建设”项目通过对制水生产流程的关键性工艺流程的研究,针对整个工艺流程大时滞、大惯性和非线性的特点,在原有检测和控制设备的基础上,通过建立与实际工艺和设施相应吻合的系统数学模型,改进控制算法,开发臭氧投加,加矾和加氯系统的智能化自动控制系统,并进行大系统整合、优化,实现对自来水厂整个工艺流程的自动控制,进而提高和稳定出厂自来水的水质,并实现节能降耗。该成果已经在南京城北水厂、北河口水厂、苏州相城水厂得到广泛应用。  ①平流池出水实际浊度值与设定浊度值的偏差在95%以上时间内应小于等于±1NTU(目前南京市自来水公司浊度内控标准允差±2NTU ); ②出厂自来水余氯在95%以上时间内控制在0.6mg/L~0.8mg/L (目前南京市自来水公司出厂自来水余氯内控范围为0.6mg/L~1.0mg/L); ③(相比目前)年均节约矾耗≥8%; ④(相比目前)年均节省氯气投加量≥10%; ⑤(相比目前)年均节省电耗≥5%; ⑥(相比目前)年均节约反冲洗水量≥10%; ⑦从自来水总公司调度控制中心,可实现对城北水厂一泵房(取原水)、二泵房(输出自来水)远程监视和远程调度。获得4项发明专利授权,5项软件著作权授权 1.基于废水排放比例采样时刻低比例系数的确定方法 专利号:ZL201110280585.3 2.在线采集水质数据有效性的诊断方法             专利号:ZL200910185421.5 3.一种水厂臭氧接触池进水流量的在线测量方法     专利号:ZL200910233689.14.基于RFID 的记忆式废水留样装置                专利号:ZL201120354013.0   ① 平流池出水实际浊度值与设定浊度值的偏差 在 95% 以上时间内应小于等于± 1NTU (目前南京市自来水公司浊度内控标准允差± 2NTU ); ②出厂自来水余氯在95%以上时间内控制在0.6mg/L~0.8mg/L (目前南京市自来水公司出厂自来水余氯内控范围为0.6mg/L~1.0mg/L); ③(相比目前)年均节约矾耗≥8%; ④(相比目前)年均节省氯气投加量≥10%; ⑤(相比目前)年均节省电耗≥5%; ⑥(相比目前)年均节约反冲洗水量≥10%; ⑦从自来水总公司调度控制中心,可实现对城北水厂一泵房(取原水)、二泵房(输出自来水)远程监视和远程调度。获得4项发明专利授权,5项软件著作权授权 1.基于废水排放比例采样时刻低比例系数的确定方法 专利号:ZL201110280585.3 2.在线采集水质数据有效性的诊断方法             专利号:ZL200910185421.5 3.一种水厂臭氧接触池进水流量的在线测量方法     专利号:ZL200910233689.14.基于RFID 的记忆式废水留样装置                专利号:ZL201120354013.0
东南大学 2021-04-13
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