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一种多平面耐压结构
本发明属于抗压结构领域，更具体地，涉及一种多平面耐压结构，由多平面柱体和设置在其两端的多平面半球壳共同组合而成；或直接由两个相同的多平面半球壳组合而成；所述多平面半球壳整体呈球壳形状，它的表面由多个第二基本平面板块彼此拼接而成，彼此相邻的第二基本平面板块之间均存在一定的平面夹角，并且在多平面半球壳与多平面柱体/多平面半球壳的连接处，各个基本平面板块之间不以平滑的曲线过渡。本发明的多平面耐压结构在保证抗压性能的同时，降低了柱体与球壳之间的过渡段对整个多平面柱壳结构的力学特性影响，具有抗压能力强、生产工艺简单，制作周期短、易于大规模生产等优点。
华中科技大学
2021-04-14
一种深硅刻蚀方法
本发明公开了一种深硅刻蚀方法，包括如下步骤：（1）在硅片表面制备图形化的光刻胶掩膜；（2）对硅片进行深感应耦合等离子体干法刻蚀，包括多个刻蚀阶段，每个刻蚀阶段均在感应耦合等离子体机内，通过钝化、轰击和刻蚀三个步骤交替循环加工完成，随着刻蚀深度的增加，各刻蚀阶段中轰击步骤的轰击强度逐渐增强。本发明有效解决了现有技术中侧壁垂直度及粗糙度难以控制以及大刻蚀深度难以实现的问题，在提高刻蚀效率的同时，提高了对光刻胶的选择比，刻蚀槽侧壁垂直度高，粗糙度小，刻蚀深度大。
华中科技大学
2021-04-14
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温州市育人教仪制造有限公司
2021-08-23
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2021-08-23
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沈阳市朝阳一校近视防控教室正式投入使用，为解决在校生近视率，提出了完善的解决方案！
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2021-08-23
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2021-08-23
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2021-08-23
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宁国市兴宏工艺标本有限公司（宁国工艺标本厂）
2021-08-23
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苏州英示测量科技有限公司
2021-12-15
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河北润旺洁具制造有限公司
2021-08-23