D3600采用嵌入式架构，在纤小的1U机箱内，集成了视频采集和自动调音模块，并可扩展全自动跟踪功能。一体化的设计让D3600在保证低功耗的同时，具备多路视音频采集、编码、直播、视频特效处理、图像侦测等功能，均需一台录播工作站，就可以实现教学过程的全自动录播。 　　产品特色 　　支持5路全高清摄像机、1路多媒体信号采集录制 　　支持电影、资源的同步录制和同步直播模式 　　支持台标、字幕、画中画、特效、片头片尾等功能 　　采用B/S架构的浏览器远程导播模式 　　标准1U机架式设备，无风扇全静音 　　标配1TB 2.5寸高速硬盘，可扩展硬盘存储 　　产品规格 特性 技术参数 处理器 嵌入式ARM双核处理器 操作系统 Linux系统 硬盘 内置1T硬盘（可扩展） 视频接口 输入：HD-SDI x 5、DVI- I x1；输出：HDMI x 1、VGA x 1 分辨率 320 x240至 1920 x 1080 码流 256K - 8Mbps 音频模块 内置自动调音台、话筒输入x 4、线路输入x 1、立体声输出x 1 其他接口 2 x USB2.0、2 x 10/100/1000M自适应网口、6 x RS232、1 x RS422/RS485 外形尺寸 480mm(长)x330mm(宽)x43mm(高)

MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；升降基片台：尺寸直径100mm，高度60～120mm可调，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；磁控靶：直径2英寸2只（可升级成3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；质量流量计：10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

EV-246小型电阻蒸发镀膜机真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；基片台：可拆卸式，尺寸60✕60mm，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能）；蒸发源及电源：水冷铜电极3组，逆变式蒸发电源，功率2KW，配源间防污隔板；膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

本发明公开了一种水体表观光谱二向性自动测量装置及方法，装置包括总控系统、观测几何自动调 整系统、全球定位系统、多角度光学测量系统；总控系统分别通过电缆与观测几何自动调整系统、全球 定位系统、多角度光学测量系统连接，多角度光学测量系统安装在观测几何自动调整系统上；方法包括 安装部署、位置信息输入、实时时间信息输入、太阳方位角计算、观测几何自动调整、多角度光谱采集； 本发明能轻松实现若干个观测方位上的水体表观光谱的自动测量，严格调整观测角度，并行采

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

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MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构； 真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）； 极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能； 磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

SEV-400手套箱金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：采用立式方形结构，前门为水平滑开式，位于手套箱体内部，前开门便于蒸发材料和样片在保护环境下装卸，后开门便于真空室的清理维护（后门带锁紧装置在充气条件下保持腔室密闭与大气环境隔离），整机位于手套箱体下面，节约占地面积； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限高达2.0✕10-5Pa，另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限高达3.0✕10-6Pa； 真空抽速：大气～5✕10-4Pa≤30min（手套箱环境中）； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板，基片台公转，转速0～20r/min可调，衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 蒸发源及电源：4～6组欧美技术金属或有机束源炉蒸发源可选，多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定；真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制，电流、功率可以预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

一种用于切布机的自动寻线装置，其特点是可以根据待切割布料上的切割线自动切割。该装置由基础固定架、控制系统和切割系统构成。通过固定架固定在切布平台的悬臂上，控制系统可以根据线阵摄像机拍摄返回的信息控制切割的方向，切割系统可以根据布料上的切割线进行切割布料。辅助装置有切布平台和固定在切布平台上的滑动槽，在与辅助装置的配合使用下可以实现对布料进行自动寻线切割，达到高效、准确的切割效果。

本实用新型涉及一种陶瓷灯管素坯的自动抛光机，包括机架，机架上设置有工件传动机构、气动机构和抛光机构，气动机构在工件传动机构之下，抛光机构在工件传动机构之上；待抛光的工件落料于大胶辊与小导辊形成的工件传动机构；气动机构的气源气体通过二位五通电磁阀经减压阀调压后通过真空发生器，在二口二位流体控制阀的作用下吸收从气腔气口进入的气体，保证陶瓷灯管素坯稳定旋转；张紧轮在摆尾气缸的带动下绕连接在连接板和机架的转轴旋转，实现抛光机构的进给；另外，本实用新型还通过所述的吸气过程吸收抛光粉尘，利用气源气体经二位五通电磁阀，在减压阀调压后向气腔气口吹气的过程完成工件主动下料。