本发明公开了一种固定化的洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶及其制备方法。所述固定化的洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶，包括碳纳米管基质和洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶，所述洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶通过亲和吸附和/或共价结合的方式结合在碳纳米管基质的开放端口、表面和内壁。所述制备方法包括以下步骤：(1)硫酸超声处理碳纳米管；(2)制备碳纳米管与洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶混合液；(3)将碳纳米管与洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶混合液在 4℃至 60℃下，振荡反应，获得所述固定化的洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶。本发明提供的固定化的洋葱伯克霍尔德菌脂肪酶增

该成果获 2013 年度教育部科学技术进步奖一等奖， 2017 年国家科技进步二等奖。成果探明了我国食源性弯曲菌、沙门菌、单核细胞增生李斯特菌和副溶血性弧菌在全产业链的定量流行病学新特征，创建了其快速定性、定量检测新技术，菌种库和分子溯源数据库以及定量风险评估体系，建立了风险预测模型和软件，定量评估了鸡肉弯曲菌污染对我国人群的健康风险；创制了新型消毒制剂、有机酸和低温控制技术和新型系列防控疫苗等病原菌干预技术，形成了覆盖产业链全程的食源性病原菌集成防控技术体系，实现了传播和风险的有效防控。

产品详细介绍一、用途：用于自动进行抑菌圈测量和抗生素药敏分析、抗生素效价分析、乳酸链球菌素效价分析等二、主要性能参数指标：1 ★成像装置配Epson Perfection V330 Photo超微立体彩色扫描成像仪（最高4800dpi、19mm大景深、微透镜12 线矩阵CCD），亮度可调、自动聚焦，能实现光学分辨率2960万像素的悬浮式暗视野成像，最大色彩深度48位适应培养皿：50～180mm及A4幅面内的矩形平板，同时测定6个90mm平皿2 ★抑菌圈测量（含药敏效价自动分析）1)一键式全自动测定6个90mm直径平皿中的所有抑菌圈，可全自动测定局部粘连的抑菌圈，可在有局部文字干扰的情况下，自动获得抑菌圈面积、直径等结果。测量分析耗时1～4秒钟，能统一保存或查看阅读相关各类分析数据2)平皿可任意方向摆放。具有抑菌圈样本自动挑选、保真的可视化比对、编辑功能。抑菌圈测量系统的读数分辨率≤0.001mm、最高光学测量分辨率≤0.0053mm，重复测量误差≤±0.01mm或≤±0.1%；效价测量误差≤±0.1%；效价重复测量误差≤±0.1%；台间测量差异≤0.2%3)符合中国药典、USP美国药典、EP欧洲药典，可完成最新的国家药典(2020版)一、二、三剂量及合并计算，以及全部菌种的抗生素效价分析。具有效价的组合优化分析特性。4)可按食品添加剂 乳酸链球菌素QB 2394-2007标准，全自动同时测量24个以上抑菌圈并自动分析出效价5)内置美国CLSI“抗微生物药物敏感性试验执行标准”最新第25版(2015)数据，提供数据输入和修改平台，方便更新，为纸片法药敏分析提供快捷工具3 数据导出：分析结果可保存，自动形成Excel或PDF文档报告。软件具有在线升级特性。4★数据追溯、权限保护，操作记录可追踪回溯，符合GLP和GMP要求：采用多重系统构架，分设职能与权限，确保数据信息的安全、完整、真实和可追溯。1)系统管理员：负责创建、管理所有普通管理员与操作员的账户，设置普通管理员和操作员的权限。系统管理员只有一个，拥有系统最高权限。2)普通管理员：负责全部测试数据的审核、存档管理、以及其他系统数据的管理。系统可分配多个普通管理员，其权限由系统管理员设置分配。3)操作员：负责样品制作、测试、修正、形成电子报告、提交审核等。系统可分配多个操作员，其权限由系统管理员设置分配。4)所有账户都可自行修改登录密码，设置自己的电子签名并输出到报告。5)系统自动记录每个账户的操作记录，系统管理员可对操作记录进行追溯、查看、输出等。5 测量功能：全自动尺寸标定，也可人工标定。可鼠标拖动精确测量长度、角度、弧度、面积、弧线、任意曲线。6 系统配置：万深HiCC-T型自动抑菌圈测量分析软件、锁及附件  1套EPson Perfection V330 Photo超微立体彩色扫描成像仪   1台万深HiCC系列自动抑菌圈测量仪专用标准板 1片（附1份权威校准认证书）7．环境条件：温度10~30℃，相对湿度≤85%，防止强光照射。仪器应放在平稳工作台上，周围无强烈的机械振动和电磁干扰；电源要求220V±10%，50Hz。推荐选配：品牌电脑（酷睿i5 CPU / 8G内存/ 19.5”彩显/无线网卡，5个以上USB2.0口，运行环境Windows 10完整专业版或旗舰版） 

项目成果/简介:本发明提供高效降解黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A的溶杆菌及其用.具体地,本发明提供一株双功能高效降解菌(Lysobacter?sp.)CW239及其在降解低污染浓度黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A中的应用.与现有的黄曲霉毒素降解菌相比,本发明的菌株CW239能够在低浓度毒素污染条件下达到极佳的降解效果.在液体发酵条件下,在含有黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A终浓度20μg/L的发酵培养液中,12h菌株CW239对赭曲霉毒素A的降解率为53.1%,48h降解率达到99.8%;12h菌株CW239对黄曲霉毒素B1的降解率为42.5%,48h降解率达到83.4%.用菌株CW239处理毒素污染的饲料(终浓度20μg/kg),48h对赭曲霉毒素A降解率为68.7%,黄曲霉毒素B1降解率为52.1%.菌株CW239在食品及饲料生物脱毒应用方面具有实质性的应用价值和重大意义.

本实用新型提供了一种黄曲霉毒素的连续式等离子体—紫外耦合降解装置，所述装置设计有等离子体发射器、等离子体发生器、紫外光源、传送带、总控制面板。该装置主要用于粮食中黄曲霉毒素的降解。该装置利用紫外光源和等离子体协同降解黄曲霉毒素，可用于工业化连续生产。该装置结构简单，操作方便，可以快速连续化地降解每粒表面的黄曲霉毒素，降解过程低温、无溶剂残留，无环境污染，且处理后的物料保持原有的色香味及营养品质。

本发明提供高效降解黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A的溶杆菌及其用.具体地,本发明提供一株双功能高效降解菌(Lysobacter?sp.)CW239及其在降解低污染浓度黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A中的应用.与现有的黄曲霉毒素降解菌相比,本发明的菌株CW239能够在低浓度毒素污染条件下达到极佳的降解效果.在液体发酵条件下,在含有黄曲霉毒素B1和赭曲霉毒素A终浓度20μg/L的发酵培养液中,12h菌株CW239对赭曲霉毒素A的降解率为53.1%,48h降解率达到99.8%;12h菌株CW239对黄曲霉毒素B1的降解率为42.5%,48h降解率达到83.4%.用菌株CW239处理毒素污染的饲料(终浓度20μg/kg),48h对赭曲霉毒素A降解率为68.7%,黄曲霉毒素B1降解率为52.1%.菌株CW239在食品及饲料生物脱毒应用方面具有实质性的应用价值和重大意义.

本发明公开了一种用于油气田中的可降解水基清洁压裂液稠化剂。本发明将具有酯基和磺基的甜菜碱型两性表面活性剂稠化剂式(I)用于可降解水基清洁压裂液中，得到的可降解水基清洁压裂液可自动破胶，且在剪切一小时后压裂液的粘度仍保持在50mPa·s以上。所述的可降解水基清洁压裂液的主要化学成分为具有酯基和磺基的甜菜碱型两性表面活性剂稠化剂和交联剂，稠化剂的质量百分比为1.5％‑4.0％；交联剂的质量百分比为0.5％‑1.0％。本发明的可降解水基清洁压裂液的生物降解性好，对环境影响小、耐温耐剪切性能好、破胶完全无残渣、配制简单。

本发明公开了一种用于油气田中的可降解水基清洁压裂液稠化 剂。本发明将具有酯基和磺基的甜菜碱型两性表面活性剂稠化剂式(I) 用于可降解水基清洁压裂液中，得到的可降解水基清洁压裂液可自动 破胶，且在剪切一小时后压裂液的粘度仍保持在 50mPa·s 以上。所述 的可降解水基清洁压裂液的主要化学成分为具有酯基和磺基的甜菜碱 型两性表面活性剂稠化剂和交联剂，稠化剂的质量百分比为 1.5％ -4.0％；交联剂的质量百分比为 0.

（专利号：ZL 201410104099.X） 简介：本发明公开了一种用于降解甲醛气体的TiO2光催化涂料及其制备方法，属于光催化涂料技术领域。该涂料包含光催化填料、成膜物质、分散剂、稳定剂、润湿剂、防霉剂、消泡剂以及增稠剂等，所述光催化填料为Cu-La/TiO2，其粒径为110nm～150nm。本发明光催化涂料的制备包括两个步骤：（1）Cu-La/TiO2光催化填料的制备；（2）光催化涂料的制备。本发明光催化涂料能在可见光源下光催化降解

针对目前污水处理中的设备复杂、成本高及二次污染等技术瓶颈问题，本项 目研发了可降解高分子絮凝剂，并与超声方法联合使用，对污水进行处理，解决了目前污水处理的二次污染和高成本问题，产生了较好的社会效益。实现了水资源的修复与循环利用、天然资源的开发与应用以及廉价高效进行污水处理等科技创新和技术进步。获授权发明专利 8 件，申请 PCT 发明专利 1 件；第三方检测结果；发表论文 20 余篇。进行了合成中试和推广试用。成果的技术指标、创新性与先进性以天然产物海藻酸钠为基体，得到新型的改性海藻酸钠絮凝剂；在改性海藻酸纳分子中引入磁性纳米粒子基团，合成了具有磁响应性的纳米絮凝剂；对水中的重金属离子和有机杂质进行了吸附和絮凝作用研究。将絮凝技术与物理超声方法联合使用，将声空化效应运用到大容量废水处理中，设计并制备了新型动力式与压电式两种换能装置，用超声－臭氧-紫外联用技术对工业废水中的有机污染物进行去污处理，取得很好的效果。产品的吸附容量大、脱除率高、速度快，后处理容易，无二次污染，环境友好。对于含有重金属离子 Pb2+、Cu2+ 、Hg2+、Cd2+ 、 Fe3+、Ni2+ 的工业污水进行吸附实验，结果表明：对于重金属离子去除率大于 95%， 选择性吸附性能， Pb(II) ＞ Cu(II) ＞ Hg(II) ＞ Cd(II) ＞ Fe(III) ＞ Ni(II) ＞Cr（VI）。