一、 项目简介  采用湿法改性技术对硫酸钡进行表面改性，使其表明由亲水性变为亲油性，便于其在有机基体中分散均匀。通过改性剂复配，使其耐温性能提高，即在使用过程中不会随温度升高而使产品的白度下降。二、 项目技术成熟程度本项目为非专利技术，处在中试阶段。实验结果重复性好，产品质量稳定。三、技术指标产品活化度达到99%以上，使用温度在≤170℃范围内，产品的白度不随温度升高而下降。四、市场前景技术特点：  1.工艺简单。改性在液相进行，保证了有机改性剂在硫酸钡表面分布均匀。  2.产品白度高。在其应用的领域，不改变改性前产品的白度。  3.耐热性能好。产品在110-170℃温度范围内白度不发生变化。  4.成本低。改性工艺简单，能耗低，改性剂用量少。总生产成本不高。市场前景：  本技术制备的改性硫酸钡，白度高、耐温性能好、成本低，在有机基体中的分散性好。硫酸钡作为一种非常重要的无机材料，在涂料、油漆、陶瓷、塑料、橡胶、造纸、蓄铅电池、化纤等行业具有广阔的应用前景。五、规模与投资需求  生产规模根据厂家要求而定。投资受市场影响价格会有波动。六、生产设备在原有生产流程基础上增加1台反应釜、2台改性剂配料釜即可。七、效益分析    每1万吨产品年利润200-500万元人民币。受市场影响价格会有波动。八、合作方式   技术转让等方式，面议。九、项目具体联系人及联系方式（包括电子邮箱）   胡琳娜：女，博士，教授。联系方式：手机号13622124805；qq号745852370；电子信箱hln@hebut.edu.cn十、成果图片该技术生产的改性硫酸钡的扫描电镜照片见图1。产品与水的接触角图像见图2。

该研究利用 1,4- 二溴 -2,5- 二乙炔基苯这一双官能团分子作为反应前驱体。扫描隧道显微镜研究表明，前驱体分子吸附在 Ag(111) 表面后，两个等价溴代位点在不同温度下分步活化，并参与不同的反应：室温（ 300 K ）下，分子首先选择性地脱去一个溴原子，脱溴位点与氢原子反应；同时，分子中的炔基发生分子间反应，形成由炔 - 银 - 炔节点连接而成的一维有机金属链状结构。分子中另一个溴原子的活化需要更高的温度（ 320~450 K ），形成的脱溴位点则与表面银增原子反应生成分子间的有机金属连接，最终得到由炔 - 银 - 炔和炔 - 银 - 苯两种有机金属节点有序排列而成的二维结构。密度泛函理论计算进一步揭示了非对称反应的机理：分子中两个溴原子解离势垒的差异导致了二者在不同温度下分步活化。较低温度下，炔基的反应提供大量氢原子，促进了脱溴位点与氢的不可逆结合；更高温度下，表面氢原子耗尽，稳定的分子间有机金属产物的形成拉动了脱溴位点与银的反应向右进行。该研究为制备复杂的分子纳米结构和高分子提供了新思路。

随着自动控制技术与信息技术在生产和管理中的普及应用，自动化与信息化已经成为带动企业工作创新和升级、提高管理水平和竞争力的重要方式。表面处理过程智能控制系统引入了自动化与信息化的基本思想，通过在现场增加检测设备采集电镀过程中的重要数据，增加控制设备和执行器实现对电镀槽的温度和电流密度的控制，并使用软件工程、项目管理思想以及软件组件技术实现对采集数据的信息化管理，既保证了电镀过程的稳定性和精确性，又实现了对电镀生产过程的信息化管理，提高了电镀生产的自动化水平。

技术先进性、成熟度和知识产权情况：近年来课题组开展了离子预氧化催渗快速离子渗氮技术研究，发现了离子预氧化对离子渗氮具有明显催渗作用，相关研究成果已发表如下论文4篇、获授权发明专利1件：1) Jingcai Li, Xingmei Yang, Shukai Wang, Kunxia Wei, Jing Hu*，A rapid D.C. plasma nitriding technology cata

项目简介： 缸体轻量化是发动机轻

产品详细介绍特点1、测定速度快，平均5分钟一个测试结果，适用于生产在线检测；2、可以多路同时测试，测试效率高；3、只需要一种气体（20%N2/He混合气或20%N2/H2混合气）和液氮即可测试；4、不需要真空环境，省去预处理时间；5、除了加样品之外，其他如电梯升降、阀门开关全部自动控制；5、基于windows的分析控制软件，智能化程度高，自动生成报告。 分析方法      动态法即连续流动色谱法，是在液氮温度下样品处于流动的含氮气氛中进行氮吸附，在不同的氮分压下达到吸附的动态相对平衡，如果使样品管离开液氮并升至室温，样品会将所吸附的氮气全部脱附出来，动态氮吸附仪每测定一个压力点均需使样品管从液氮杯中进出一次；可以采用一个已知比表面的标准样品作为标定物质，在某一个固定的氮分压下（一般取氮/氦= 0.2的混气)，用样品的脱附峰面积直接与标准样品的脱附峰面积相比较，便可计算出样品的比表面。这种方法测试速度快，适合于生产线的在线快速检测，其缺点是没有考虑材料吸附特性的差异，因此当被测样与标样的吸附特性相差大时，测试结果会出现较大的偏差；BET比表面测定法可以克服直接对比法的上述局限，动态法实现BET比表面测定的关键在于能够调整氮气分压，并达到稳定状态，采用了稳压、稳流系统以及霍尼韦尔小流量传感器和流量标定等现代化技术，同时解决了定量体积氮气标定的技术， BET比表面基于多层吸附理论，为国际通用。动态BET比表面测定仪只要把氮分压定在0.2左右，装上标准比表面样品，也可用直接对比法测定比表面；该方法测定比表面积是基于如下函数： 　　 式中: Sx ： 被测样品比表面积        　　 So： 标样的比表面积           Ax： 被测样品脱附峰面积　　         Ao： 标准样品脱附峰面积　　         Wx： 被测样品重量 　　         Wo： 标准样品重量典型报告 技术参数测定范围：≥0.01m2/g，无规定上限样品数量：4个（1个标准样，3个被测样），可以扩展并联测试效率：平均每个样品5分钟重复精度：≤±2％ 工作气体：高纯氦/氮混气（氮分压为0.2）数据采集：高精度双向数字采集模块，最强的灵活性完成最全面的数据采集，误差小，抗干扰能力强有利于提高比表面积结果精度数据处理：标准的windows窗口界面，易理解、学习、操作，丰富的比表面模型，图像分辨率高，易于维护，兼顾到系统后期扩展

高选择性负载型钯催化剂制备及清洁高效回收技术 项目介绍：该项目催化剂制备技术应用物化方法对载体表面的改性，采用附着-沉淀工艺应用于制备负载型钯催化剂，成功解决了活性组分钯粒子在载体上吸附率低，钯纳米粒子团聚、粒径大小、外形控制及负载催化剂活性金属组分分布均匀及负载均匀性难控的难题，获得2015年湖南省科学技术进步二等奖。

随着人们生活水平的不断提高，对家用洗涤剂产品具有越来越高的要求。目前，洗涤剂正朝着超浓缩、多功能和无磷方向发展。 五水偏硅酸钠是偏硅酸钠的一种形态，具有去污、皂化和分散作用、广泛应用于制造肥皂、合成洗涤剂、工业清洗剂以及玻璃、陶瓷、电镀、纺织、建材、金属防腐、石油裂解等行业中。它是取代洗涤剂中磷酸盐的最佳原料，应用它既能提高去污力、降低成本，而且最主要是避免了磷酸盐对自然环境的污染，对提高洗涤用品质量和净化环境有其重要意义。本项目开发了一种生产过程相当简短的新工艺，该工艺设备少，产品途径环节少、产品各项指标容易控制，产品质量可达到美、日、英等国标准的最高要求，而且产品成本低，利润高，有竞争优势。 四乙酰乙二胺（TAED）是一种高效漂白活化剂，它具有优越的低温漂白性能，良好的环保性能和适宜的价格，目前TAED/过硼酸钠系统已成为欧洲标准的漂白活化剂系统，欧洲所使用的漂白洗涤剂中，75～80%采用TAED/过硼酸钠系统。有研究表明，在洗涤剂配方中，当四乙酰乙二胺的含量达到1.5～5.0％时，就能使过硼酸钠在常温下发挥其漂白效力。本项目自主开发了反应精馏过程强化新技术，该工艺具有原料易得，生产路线合理，操作简单，产品纯度及收率高，节能以及成本相对较低等一系列优点。填补了国内空白，达到国际先进水平。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。