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维视智造BT系列双远心镜头
产品详细介绍产品简介BT系列双远心镜头是机器视觉高精度检测、精密测量的关键组件。根据型号列表,可以根据要求快速查询与之相匹配的相机,例如BT-2364代表相机的CCD尺寸最大为2/3″,其可观测到的视野大小为64x48mm。BT系列双远心镜头产品特点● 兼容高分辨率/小像元尺寸的相机,如500万像素, 2/3″的相机;● 远心度小,分辨率高,低于0.1%的畸变;● 在景深范围内没有放大倍率的变化;● 像方和物方双远心设计,光透射率高;● 标准C接口,最高可支持2/3″成像靶面工业相机。应用实例喷砂金属面字符检测 手机外壳背面字符缺陷检测 普通工业镜头拍摄效果 双远心镜头拍摄效果检测手机外壳背面字符缺陷 金属表面砂砾在光线照射下会产生漫反射光晕,影响字符和背景的对比度, 造成字符聚焦不清,增加检测难度。 平行光入射,成像不受漫反射的影响,清晰聚焦,在后期字符检测、识别时变得简易、高效。硅钢片铁芯尺寸测量 硅钢片检测  普通工业镜头拍摄效果  双远心镜头拍摄效果测量硅钢片铁芯外形尺寸 普通镜头景深太小,内边缘会产生纵向视差,影响测量精度;金属边缘会发生杂散光反射现象,产生虚影,无法精确提取轮廓边缘;在视场70%的区域和中心区域会存在1%左右的无规则畸变,会影响测量精度。无纵向和横向视差,可彻底解决视差问题;平行光入射,可避免各种杂散光反射,提高图片边缘锐度;系统畸变小于0.08%,可最大程度减小畸变对测量精度的影响。手机屏幕尺寸、瑕疵检测 手机边框检测  远心镜头检测检测手机屏幕、边框是否有划痕,测量屏幕外形尺寸。 由于手机边框反光,普通镜头无法检测到微小缺陷,双远心镜头平行光入射,检测结果不受杂散光影响。由于手机屏幕透明透光,普通镜头无法检测到细小划痕,双远心镜头平行光入射,细小特征提取对比高。 手机屏幕透明透光、边框反光,使用普通镜头进行尺寸测量,屏幕和边框的过渡区域会因二次反射形成漫反射带,造成边界提取精度不高,使用双远心镜头只有一条过渡带,测量精度高,便于后期算法处理。检测橡胶密封圈内外径尺寸 一般成像系统存在3%或以上的畸变,由其在视场边缘区域,会造成外形轮廓变形失真;同时由于景深小,拍摄图片不清晰,都影响测量精度。 双远心镜头景深大,畸变小(一般控制在0.1%以内),图片边缘清晰,测量精度高。 性能参数①物距:前端物镜到物体的距离。使用时将其设定在标准值的±3%之内可达到最佳分辨率和最低畸变。②远心度:镜头主射线的最大斜率。③景深:虽位于景深边缘的图像测量数据仍然有效,但要获得清晰的图像,应尽量采用标称景深的一半。物距、景深可根据客户具体需要进行适当调整。
陕西维视数字图像技术有限公司 2021-08-23
维视智造E系列千兆网工业相机
产品详细介绍产品简介MV-E系列工业相机为维视推出的高分辨率以太网工业相机,该系列相机为800万像素以上相机,采用更加稳定和通用的千兆以太网络进行传输,相机功耗低、散热良好,具有图像质量清晰、稳定等特点,支持IO信号输入输出,配套多种主流语言开发包及例程,同时支持第三方图像处理软件直接调用,主要应用于高精度视觉检测、尺寸测量、缺陷检测、科学研究等方向,配合双远心光学镜头效果更佳,是您机器视觉项目图像高清获取的理想之选。工业相机产品特点● 采用千兆以太网接口,理论支持100米传输距离● 采用大型数据包形式传输,减少对中断的处理,性能更加稳定● 采用高品质感光器件,较低的功耗及优良的算法,使得图像清晰、低噪声、色彩还原度好● 支持1路外触发输入,可从IO卡/PLC等设备获取控制信号,提高图像获取同步性● 支持1路信号输出,可随曝光时间或自定义输出,如控制频闪灯● CMOS相机支持AOI/ROI进行局部曝光,并提高采集帧率● 支持断网续传功能,在网络断开重新连接时,可自动继续工作● 随机附赠VB/VB.NET/VC/C#/QT等例程并提供源代码方便用户参考及二次开发● 兼容Halcon、Labview、VisionPro、Matlab等第三方图像处理软件● 支持Windows XP、Win7、Win8、Win10操作系统 性能参数C接口相机型号 MV-E800M/C MV-E1000C MV-E1200M/C MV-E1400C最高分辨率 3312×2496 3984×2712 4080*3066 4620×3084像素尺寸 3.88μm×3.88μm 3.4μm×3.4μm 3.1μm×3.1μm 2.86μm×2.86μm传感器类型 CCD CMOS CMOS CMOS光学尺寸 1" 1" 1" 1"有效感光面积 12.8mm×9.6mm 13.5mm×9.2mm 12.7mm×9.5mm 13.5mm×8.8mm最大帧率 14 fps 10 fps 6 fps 7 fps帧存 3帧/128MB 3帧/128MB 3帧/128MB 3帧/128MB曝光时间 黑白:33-100000μs彩色:33-500000μs 300-500000μs 100-78000μs 300-500000μs输出颜色 M为黑白,C为彩色 彩色 M为黑白,C为彩色 彩色数据位数 8 8 8 8曝光方式 帧曝光 行曝光 行曝光 行曝光I/O接口 12芯I/O 12芯I/O 12芯I/O 12芯I/O采集方式 连续/外触发/软触发 连续/外触发/软触发 连续/外触发/软触发 连续/外触发/软触发输出方式 GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s) GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s) GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s) GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s)传输距离 100米 100米 100米 100米可编程控制 增益、帧率、曝光时间 增益、帧率、曝光时间 增益、帧率、曝光时间 增益、帧率、曝光时间镜头接口 C口 C口 C口 C口供电要求 DC 12V DC 12V DC 12V DC 12V功耗 4W 3.5W 2W 4W外形尺寸 50mm×50mm×48mm 50mm×50mm×48mm 50mm×50mm×48mm 50mm×50mm×48mm重量 145g 145g 145g 145gF接口相机型号 MV-E1600M/C-M MV-E2900M/C-M MV-E7000M/C最高分辨率 4896×3264 6576×4384 10000×7000像素尺寸 5.5μm×5.5μm 5.5μm×5.5μm 3.1μm×3.1μm传感器类型 CCD CCD CMOS光学尺寸 ASP-H 35mm 35mm有效感光面积 26.9mm×18mm 36mm×24mm 31mm×21.7mm最大帧率 5 fps 2.5 fps 1.5 fps帧存 3帧/128MB 3帧/128MB 3帧/128MB曝光时间 30-1000000μs 30-1000000μs 100μs~500ms输出颜色 M为黑白,C为彩色 M为黑白,C为彩色 M为黑白,C为彩色数据位数 8 8 8曝光方式 帧曝光 帧曝光 行曝光I/O 12芯I/O 12芯I/O 12芯I/O同步方式 连续/外触发/软触发 连续/外触发/软触发 连续/外触发/软触发输出方式 GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s) GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s) GigE千兆以太网输出(1000Mbit/s)数据传输距离 100米 100米 100米可编程控制 增益、帧率、曝光时间 增益、帧率、曝光时间 增益、帧率、曝光时间镜头接口 F口 F口 M72供电要求 DC 12V DC 12V DC 12V功耗 6W 6W 7.5W外形尺寸 60mm×60mm×150mm 60mm×60mm×150mm 76mm×76mm×71mm重量 420g 420g 360g
陕西维视数字图像技术有限公司 2021-08-23
三维微动并联工作台(博实)
产品详细介绍:三维微动并联工作台(三自由度并联机器人) 采用闭环压电陶瓷驱动,压电陶瓷既作为驱动元件又作为支撑杆件,同时实现机构、驱动、检测一体化的新型3-RPS 微动并联机器人。通过压电陶瓷直接驱动柔性铰链机构实现绕X、Y方向的转动和Z方向的平动。X、Y方向的转角可达±0.8毫弧度,转角分辨率可达0.8微弧度;Z方向位移可达40微米,位移分辨率可达4纳米。主要应用于空间、隔震、医疗、光学和工业等领域。
哈尔滨工业大学博实精密测控有限责任公司 2021-08-23
用于草酸二甲酯加氢制取乙二醇的铜硅催化剂及制备方法
本发明公开了一种用于草酸二甲酯加氢制取乙二醇的铜硅催化剂及制备方法。所述催化剂是以正硅酸酯为硅源,在以醇作为共溶剂的条件下,通过一锅法制备得到的。具体为正硅酸酯在铜氨络合物的水醇混合溶液中水解、陈化,然后通过蒸发水分、醇和氨使铜氨溶液中的铜组分均匀沉淀,最后经过水洗、干燥、焙烧和还原而得到的。所述催化剂由铜和二氧化硅组成,其中铜与二氧化硅的物质的量之比为0.05~0.4∶1。该催化剂在草酸二甲酯加氢制乙二醇的反应中,在较宽的温度范围内,都显示了很高的反应活性和选择性,易于操作,有利于工业化应用。
浙江大学 2021-04-11
2,5-二羟甲基-3,6-二甲基吡嗪的合成与精制方法
【发 明 人】李伟;文红梅;王天麟;周莹;陈磊【摘要】本发明公开了一种2,5-二羟甲基-3,6-二甲基吡嗪(liguzinediol)的合成和精制方法,该方法以2,5-二甲基吡嗪为原料,通过自由基反应直接生成liguzinediol。此工艺仅一步反应,反应温和,操作简便,反应时间短,成本低,收率高,易分离纯化,适于工业化生产。
南京中医药大学 2021-04-13
改性聚间苯二甲酰间苯二胺超滤膜及其制备方法和应用
本成果基于间位芳纶材料,通过调控制膜配方以及制膜工艺,所制备的间位芳纶膜具有高的渗透通量、高的机械强度以及良好的耐酸碱性能。依托于自身实验室的中试平板刮膜装置,实现了间位芳纶膜的中试化制备,并且进行膜组件、膜设备的进一步放大设计。 一、项目分类 关键核心技术突破 二、技术分析 聚间苯二甲酰间苯二甲酰胺(PMIA))纤维是一种新型的有机耐高温纤维,具有出色的综合特性,包括良好的热稳定性,化学稳定性,亲水性和阻燃性。膜材料的耐压性和耐热性是膜分离工艺长期运行所必需的,这些优异的性能使PMIA成为膜制备领域的关键性材料之一。此外,由于该材料易溶于普通有机溶剂中,因此,可以采用非溶剂诱导相转化(NIPS) 法制备PMIA 超滤膜,这为工业化生产提供了可能。 目前我国的膜材料主要还是依赖于进口,并且亲水性差、机械强度低、耐溶剂性能差等诸多问题,而间位芳纶膜材料已经实现了国产化,并且价格便宜,打破了国外垄断的局面。基于间位芳纶材料,我们通过调控制膜配方以及制膜工艺,所制备的间位芳纶膜具有高的渗透通量、高的机械强度以及良好的耐酸碱性能。依托于我们实验室的中试平板刮膜装置,我们实现了间位芳纶膜的中试化制备,并且进行膜组件、膜设备的进一步放大设计。所开发的PMIA膜可以达到及其高于市场同种类产品,其产业化可大大丰富目前水处理市场。 平板膜纯水通量不小于700L∙m-2 ∙ h-1 ∙ bar-1(温度 25℃(不含)以下),静态水接触角低于60°。【纯水通量和接触角测试方法依据国家标准 GB/T 32360-2015《超滤膜测试方法》】。
北京理工大学 2022-08-17
一种聚间苯二甲酰间苯二胺基静电纺丝阻燃隔膜及其应用
本发明属于锂离子电池技术领域,公开了一种聚间苯二甲酰间苯二胺基静电纺丝阻燃隔膜及其应用,所述间苯二甲酰间苯二胺基静电纺丝隔膜即PMIA基静电纺丝隔膜是通过将改性PZS微球与PMIA以及有机溶剂混合后,采用静电纺丝法制备获得,所述改性PZS微球是通过在具有阻燃性能的聚磷腈PZS微球表面原位生长无机层SiO<subgt;2</subgt;制备获得;所述聚磷腈PZS微球是利用单宁酸和六氯环三磷腈之间的聚合反应制备获得。本发明制备的纺丝隔膜具有非常优异的孔隙率、吸液率和离子电导率以及良好的热稳定性和阻燃性。
南京工业大学 2021-01-12
高透光型陶瓷基隔热玻璃涂层及玻璃贴膜
1、 一种具有高度可见光透过率与隔热特性的陶瓷基玻璃涂层或玻璃贴膜。 玻璃改造后可见光透过率高于 70%,屏蔽 99%以上的致癌性紫外线,且有 效阻止通过玻璃的热能交换过程,可用于建筑或汽车玻璃的节能改造, 提升建筑的适居度与节能效果。 2、 该项目各技术环节环保无毒,产品成本远低于市面现有技术,性能优于 现有技术,设备投入与实施成本低。
太原理工大学 2021-05-06
燃烧合成氮化硅基陶瓷的产业化技术
在高技术陶瓷领域,先进陶瓷占有极其重要的地位,在诸多的先进陶瓷中,氮化硅基先进陶瓷以其高强度、高韧性、高的抗热震性、高的化学稳定性在先进陶瓷中占有独特的地位,是公认的未来陶瓷发动机中最重要的侯选材料。并且在国际上氮化硅陶瓷刀具和氮化硅基陶瓷轴承已经形成相当规模的产业。任何一个跨国刀具公司都有氮化硅基陶瓷刀具的系列产品,足见其在机加工行业中具有不可替代的地位。 但是,影响氮化硅陶瓷推广的一个主要因素,是氮化硅粉末价格昂贵,这是由于传统的制取氮化硅粉末的方法耗能高,生产周期长,生产成本高。本项目采用具有自主知识产权的创新的燃烧合成技术,制取氮化硅陶瓷粉末和氮化硅复合粉末,具有耗能低,生产周期短,杂质含量低,生产成本低等特点,具有广泛的应用前景。 燃烧合成(Combustion Synthesis,CS)又名自蔓延高温合成(Self- Propagating High-Temperature Synthesis,SHS),是利用化学反应自身放热合成材料的新技术,基本上(或部分)不需要外部热源,通过设计和控制燃烧波自维持反应的诸多因素获得所需成分和结构的产物。 自1990年以来,本项目负责人等针对燃烧合成氮化硅陶瓷产业化的一系列关键问题,在气-固体系氮化硅基陶瓷的燃烧合成热力学、动力学和形成机制等方面进行了深入研究后得到的创新成果。 采用本项目的技术,可以生产符合制作先进陶瓷要求的从全α-Si3N4相到高β- Si3N4相,及不同配比的氮化硅粉末,还可根据用户要求,用此技术生产α-Sialon,β-Sialon和其它各种氮化硅基的复合粉末。粉末的质量优良而稳定。 应用于航天、航空及机械行业等,用于制作氮化硅陶瓷刀具、氮化硅基陶瓷轴承、耐磨耐腐陶瓷涂料等。
北京科技大学 2021-04-11
燃烧合成氮化铝基先进陶瓷的产业化技术
氮化铝(AlN)陶瓷具备优异的综合性能,是近年来受到广泛关注的新一代先进陶瓷,在多方面都有广泛的应用前景。例如高温结构材料、金属溶液槽和电解槽衬里,熔融盐容器、磁光材料、聚合物添加剂、金属基复合材料增强体、装甲材料等。尤其因其导热性能良好,并且具备低的电导率和介电损耗,使之成为高密度集成电路基板和封装的理想候选材料,同时氮化铝—聚合物复合材料也可用作电子器材的封装材料、粘结剂、散热片等。氮化铝在微电子领域应用的市场潜力极其巨大。氮化铝还是导电烧舟的主要成分之一,导电烧舟大量地用于喷涂电视机的显象管等器件、超级市场许多商品包装用的涂铝薄膜,有着广泛的市场。但是,影响氮化铝基陶瓷的推广的主要因素之一,是采用传统方法合成氮化铝粉末,耗能高,生产周期长,生产成本高。本项目采用具有自主知识产权的创新技术,采用燃烧合成技术制取优质的氮化铝陶瓷粉末,具有耗能低,生产周期短,杂质含量低,生产成本低等特点,具有广泛的推广价值。 燃烧合成(Combustion Synthesis,CS)又名自蔓延高温合成(Self- Propagating High-Temperature Synthesis,SHS),是利用化学反应自身放热合成材料的新技术,基本上(或部分)不需要外部热源,通过设计和控制燃烧波自维持反应的诸多因素获得所需成分和结构的产物。 自1994年以来,本项目负责人等针对燃烧合成氮化铝陶瓷产业化的一系列关键问题,在气-固体系氮化铝基陶瓷的燃烧合成热力学、动力学和形成机制等方面进行了深入研究后得到的创新成果。 本项目来源于国家教委高校博士点专项科研基金项目(1994.3-1997.3)。 本项目以应用基础研究成果“燃烧合成氮化铝基陶瓷的应用基础研究”已于1999年通过专家函审。 采用本项目的技术,可以生产符合制作先进陶瓷要求的氮化铝粉末,还可根据用户要求,用此技术生产氮化铝基陶瓷粉末。粉末的质量优良而稳定。 氮化铝广泛应用于高温结构材料、金属溶液槽和电解槽衬里、熔融盐容器、磁光材料、聚合物添加剂、金属基复合材料增强体、装甲材料、高密度集成电路基板、电子器材的封装材料、粘结剂、散热片、导电烧舟等。
北京科技大学 2021-04-11
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