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高电压锂离子电池镍锰酸锂正极材料
尖晶石结构的镍锰酸锂（LiNi0.5Mn1.5O4）具有三维扩散通道，其理论放电比容量可达 147 mAh g-1，电压平台高达4.7 V，具有高的能量密度与功率密度，是未来锂离子电池发展中最具前途与吸引力的正极材料之一。该材料在0.1 C电流密度下，放电比容量为132.7 mAh g-1，5 C时，放电比容量仍有93.8 mAh g-1，容量保持率可达70
南京航空航天大学
2021-04-14
邻菲啰啉与其钴络合物的制备方法及其应用
本发明涉及2，9-二芳基取代的邻菲啰啉与其钴络合物的制备方法及其应用。具体的讲是以2，9-二氯邻菲啰啉与芳基硼酸进行Suzuki偶联反应制备取代的邻菲啰啉，将其与钴盐进行络合反应，可以制备邻菲啰啉钴络合物。该邻菲啰啉钴络合物在添加剂存在下，能够催化炔烃与硅烷的硅氢化反应，得到用途多样的烯基硅化合物，表现出很高的活性和选择性，特别是对于烷基取代的端炔的硅氢化，给出优于其它已知钴催化剂的马氏加成的选择性，具有很好的应用前景。
南开大学
2021-04-10
硅基拓扑光子学
研究团队利用能谷-赝自旋耦合原理，在绝缘层硅（SOI，silicon-on-insulator）上制备出能谷光子晶体平板。该拓扑光学结构具有~40nm的特征尺寸，其光子模式（因工作于光锥以下）能够较好地局域在平板内，抑制了平板外损耗。他们制备了直线形、Z形和Ω形等三种拓扑光学通道，测量出高透平顶透射光谱带，证实了近红外波段下拓扑保护的宽带抗散射传输。采用硅微盘技术产生相位涡旋源，无需低温和强磁等极端环境，实现了拓扑界面态的选择性激发，实现了亚微米量级耦合长度的宽带光子路由行为，验证了能谷-赝自旋耦合等拓扑光学原理。在硅基平台上证实拓扑光子学原理，是目前国际学术前沿的聚焦度较高的领域之一。研究团队过去在拓扑光子学原理方面的工作，多次引起国际同行关注，论文入选ESI高被引。该工作中，他们深入系统地发展出硅基拓扑光学等关键理论，攻克了数十纳米加工工艺等关键技术，率先在硅基光子平台与拓扑光子学之间建立了联系，突破了单一自由度调控的传统框架，提出了硅基中多自由度耦合的多维调控新机制，为微纳光学与光子学、光二极管等关键光子芯片器件、混合集成光子学、高保真光量子信息光学、非线性光学等领域，提供了新方法和新思路。
中山大学
2021-04-13
铁基形状记忆合金
铁基形状记忆合金是一种新型结构功能材料。自90年代，我校已研究成功几种Fe-Mn-Si-Cr-Ni系形状记忆合金，这些合金的屈服强度可达300～450MPa，完全回复的形状记忆应变已达3%，予应变为6%时净回复应变可达5%，具有良好的单程形状记忆效应和形状记忆完全性，合金中Cr、Ni元素的加入兼具有良好的耐腐蚀性。铁基形状记忆合金的应用如下： 1
西安交通大学
2021-01-12
铝基复合材料
金属基复合材料问世不足三年，但由于其制备工艺简单，价格便宜，具有高比强、高比刚及高耐磨性等优良性能，在国外已广泛用于航空、航天、汽车、军工等领域。我校于80年代开始进行铝基复合材料的制备、性能及应用研究，已获得许多重要成果，现已可用稳定工艺制备管材、棒材及形状较为复杂的零部件，如汽车连杆、汽缸套、油田抽油机缸套、汽车摩擦片、皮带轮等机器构件，还可用于开发各
西安交通大学
2021-01-12
垂直结构 GaN 基 LED
可以量产/n在垂直结构LED芯片的工艺流程中，其剥离下来的蓝宝石衬底可以回收后重复利用多次，蓝宝石衬底单芯片和2英寸整片剥离成品率大于95%。目前，垂直结构LED发光效率可以达到121.57m/W@350mA随着技术的不段进步，近几年最受人们关注的是固态通用照明领域的高亮度大功率LED应用，然而这种应用却受到蓝宝石异质衬底所带来的一系列技术问题的限制。除去了蓝宝石衬底的垂直结构LED芯片具有优良的光电热方面的性能，能满足固态通用照明对其性能的要求，采用垂直结构LED方案是固态通用照明技术发展的 必然
中国科学院大学
2021-01-12
水泥基自修复材料
北京工业大学
2021-04-14
布基白塑幕
产品详细介绍 采用高反射系数的塑料制成，属线反射银幕，幕面洁白均匀，光线反射柔和，视觉不易疲劳，价格低廉，适用于普通电化教学、电影放映等
江苏省通州市长江银幕厂
2021-08-23
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
成果与项目的背景及主要用途： 生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时，需要将视窗部分的镀镍、天津大学科技成果选编 镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除，保证视窗无残留金属、通透性好，同时 面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质，需要逐片擦 拭，生产效率低、劳动强度大。 本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净，经清洗干燥后， 面板上不残存有色物质，防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线，大大提高 了生产效率和产品合格率、降低生产成本。 技术原理与工艺流程简介： 利用反应配制技术，制造出各种药液，实现显示面板所镀金属的快速、干净、 可控的去除。 工艺流程简单，易实现，技术原理清楚。 技术水平及专利与获奖情况： 蚀刻产品通过严格的盐雾等测试，已经大量应用于国际多种知名品牌手机面 板的生产。 应用前景分析及效益预测： 与外购药液相比，该技术效益可观，同时产品质量容易控制，便于企业构筑 产品质量保证体系。 应用领域：电子配套产品的生产。 合作方式及条件：成熟技术成果转让。
天津大学
2021-04-11
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时，需要将视窗部分的镀镍、镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除，保证视窗无残留金属、通透性好，同时面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质，需要逐片擦拭，生产效率低、劳动强度大。本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净，经清洗干燥后，面板上不残存有色物质，防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线，大大提高了生产效率和产品合格率、降低生产成本。利用反应配制技术，制造出各种药液，实现显示面板所镀金属的快速、干净、可控的去除。工艺流程简单，易实现，技术原理清楚。
天津大学
2023-05-10