南京赛飞生物科技有限公司（简称“赛飞生物”）成立于2012年，是一家专注于生物医学工程细分领域的国家级高新技术企业。 自创立以来，公司始终聚焦于生命科学仪器设备的研发、生产与销售。我们坚持以“实用为先、耐用为本、精准为核”的产品理念，持续倾听客户需求，逐步构建起涵盖超声波细胞破碎仪、冷冻干燥机、超纯水仪、恒温槽、匀浆机等系列产品线，致力于为各类实验室提供高性价比、稳定可靠的仪器解决方案。 公司于2020年通过高新技术企业认定，并全面推行ISO9001质量管理体系，核心产品获得CE认证。这些体系与认证不仅是我们对产品品质的承诺，也是公司持续成长的坚实基础。 目前，我们的产品已稳定服务于国内众多高等院校、科研机构及生物医药企业，并逐步拓展至亚洲、欧洲、美洲等海外市场。赛飞生物期待以专注的研发、稳定的产品和真诚的服务，与客户建立长期信赖的合作关系。 赛飞生物，以精密仪器，助力科学探索。

应用领域/Apply Domain 应用于电力、煤炭、冶金、石化、煤化、环保、水泥、造纸、地质勘探、科研院所等行业对煤灰等没有固定熔点的非单一化合物的熔融过程进行测定。   执行标准/Executive standard GB/T 219-2008《煤灰熔融性的测定方法》 GB/T 30726-2014《固体生物质燃料灰熔融性测定方法》 技术参数/Technical Parameters 1、温度分辨率：0.0001℃ 2、高工作温度：1800℃ 3、测温精度：1℃ 4、试样数量：1-16个 5、升温速度：900℃以前15～30℃/min(可设定)，900℃以后5～10℃/min(可设定) 6、测试气氛：氧化性、弱还原性(封炭法或通气法) 7、图像存储间隔：1幅/2℃(可设定温度间隔) 8、精密度：符合GB/T219-2008标准 9、准确度：T1≤40℃、T2～T4≤30℃ 10、电源：220V±20V、50±1HZ 11、功率：≤5KW 12、外形尺寸：760x430x500mm 13、重量：65kg   技术特点/Technical Features 一次性可测试5个国标样品，测试效率优势明显，达到国际领先水平。灰锥数量的增加能够显著缩短单位灰锥的测试时间，降低单位灰锥的能耗，减少单位灰锥的耗气量，符合国家节能减排政策。 先进光谱照明分析技术，从常温到最高温度，均能对灰锥特征进行可靠的识别。 全密封式炉膛结构，气体只有一个入口和一个出口，确保炉膛气氛稳定。 气密性自动检测装置，能够进行炉膛气密性量化检测。 高效的排气风扇并能够实时检测风扇运行状况，确保仪器安全稳定运行。 外置高灵敏度气体报警检测装置，一旦检测到气体泄漏，可以快速自动切断气源。 全自动送样机构，操作简便，送样和取样运行平稳，避免灰锥样品倾倒风险。 可选择氧化性或弱还原性测试气氛条件，可选通气法或封碳法达到试验气氛。 正压除尘技术，观察口隔热玻璃维护周期间隔长。 测试软件可实现操作人员登录权限管理，实验过程信息全记录，测试数据可联网传输。 1、该仪器适用于单晶硅、多晶硅等新材料，解决了多晶硅行业无法做灰熔融性的历史。 2、普通灰熔点测定仪炉膛温度最高达1600℃，该仪器炉膛温度可达1800℃，测试的样品范围广，开创高温灰熔点测定仪的先河。 3、一次性可放置16个样，自动送取样机构，操作方便，效率大大提高。  

HMDS真空预处理烘箱产品用途:该产品主要用于半导体行业，HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。     一、产品规格： 型号：BD/HMDS-6090   内形尺寸：450×450×450     型号：BD/HMDS-6210   内形尺寸：560×640×600   二、 技术参数： 1、控温范围：RT+10～250℃  2、温度分辨率：0.1℃     3、温度波动度：±1℃ 4、达到真空度：小于133Pa 5、真空度：100Pa～100000Pa 6、定时范围：1～9999min 7、工作室材料：316L 8、样品架：2块、3块 9、真空泵：4L/S 10、电源电压：220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制 11、总功率：3000W、4500W 三、产品特点： 1、外壳采用冷轧钢板制造，表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 四、HMDS预处理系统操作流程： 1、首先确定烘箱工作温度； 2、预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分; 3、再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应; 4、当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。 五、控制系统： 1、7.0英寸维纶彩色触摸屏，三菱PLC控制器； 2、富士微电脑双数显温度PID控制器，控温精确可靠； 六、保护系统： 1、漏电保护； 2、超温保护； 3、缺液保护；              七、设备使用条件： 1、环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃） 2、环境湿度：≤85%R.H 3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西; 八、HMDS真空预处理烘箱服务承诺： 保修十二个月，免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。