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双信号切换液晶升降器-培训考试教室首选-天智时代
产品详细介绍 双信号切换液晶升降器是专门为高端用户设计的,信号切换是两路或两路以上信号输入,根据用户要求,进行自动切换。    一个用户有两路VGA信号输入,一路是网络远程控制信号输入,一路是现场键盘控制信号输入,用户根据需求,按升降器面板上面的切换键,即可实现信号切换。    17寸 19寸 22寸均可实现切换功能。展厅有样可实地参观。
北京天智时代电子科技有限公司 2021-08-23
UV-1800双光束紫外可见分光光度计
仪器特点​* UV-1800系列采用双光束光学系统,成功实现了高精度和高可靠性测量的完美结合,可满足各种应用的要求,可用在生物研究、生物工业、药物分析、制药、教学研究、环保、食品卫生、临床检验、卫生防疫等领域* 宽广的波长范围,可满足各个领域对波长范围的要求* UV-1800S采用4nm、2nm、1nm、0.5nm四种光谱带宽可满足各国药典及不同用户的严格要求* 全自动的设计理念,实现了最简单的测量手段* 大规模集成电路的设计大大提高了系统的扩展性和可靠性* 改良优化的光路设计、进口光源和接收器造就了系统高性能和高可靠性* 丰富的测量方法,具有波长扫描、时间扫描、多波长测定、多阶导数测定(选)、双波长、三波长(选)DNA蛋白质测量(选)等多种测量方法,可满足不同测量的要求* 根据用户的要求可选配单孔架、手动四连架、手动八连架、自动八连架、玻璃支架、试管架、1cm比色架、5cm比色架、10cm比色架等* 测量数据可通过打印机输出,具有USB接口* 可断电保存测量参数和数据,方便用户使用* 可通过PC软件控制实现光谱扫描等更精确和灵活的测量要求
上海美析仪器有限公司 2021-12-16
良田L220银行理财高拍仪影音双录高拍仪
深圳市新良田科技股份有限公司 2021-08-23
全自动数显洛氏/表面洛氏/双洛氏硬度计
苏州英示测量科技有限公司 2021-12-15
一种单晶石榴石厚膜的间歇式液相外延生长方法
专利内容是本发明针对背景技术存在的缺陷,提出了一种单晶石榴石厚膜的间歇式液相外延生长方法,缓解了衬底与薄膜之间的应力产生,得到的单晶石榴石厚膜可作为磁光或微波厚膜应用,该方法制得的磁光厚膜的厚度可达100µm以上。
电子科技大学 2021-02-01
一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜、其制备方法及用途
本发明公开一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜及其制备方法。该膜由聚合物树脂、磺化聚合物树脂和糖类高分子组成,在优选的原料与比例下对LDL有良好的特异性吸附作用,且具有良好的稳定性和生物相容性,可重复使用,成本低廉,有望投入大规模临床应用。其制备方法包括以下过程:将膜用聚合物树脂、磺化聚合物树脂、糖类高分子、致孔剂按一定比例溶于溶剂,制成均一的纺丝制膜液,将纺丝制膜液过滤、真空脱泡后,通过浸没沉淀相转化法纺丝制备中空纤维成膜,然后将所制得的中空纤维膜依次在去离子水和超纯水充分漂洗。本发明采用的共混溶解制备法具有操作简便安全、原材料廉价易得等优点。
浙江大学 2021-04-11
超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法
简介:本发明提供一种超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法,属于材料表面技术领域。本发明该超硬膜是由电弧离子镀的纳米晶体相Cr2N和磁控溅射镀的非晶体相WC层交替沉积而成,并且,超晶格的调制周期为10~20nm,Cr2N单层和WC单层的厚度分别为8~14nm和2~6nm。本发明的优点在于:Cr2N层与WC层交替分布实现了Cr-N基膜成分多元化和结构多层化,解决了抗氧化性较强的Cr-N基膜获得超高硬度的难题,同时非晶WC层进一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蚀性能,满足不能热处理的
安徽工业大学 2021-04-14
低能耗低污染膜/生物反应器(MBR) 污水处理技术与设备
技术特点及优势 1、对现有的用于污水处理的膜进行改性,提高膜通量,减小跨膜压力。膜通量较现有膜提高2倍以上,跨膜压力只有1米左右水柱。 2、突破了以往MBR膜都是与泥水直接接触的固有形式,对MBR结构进行了改进,减少膜与污泥、胞外聚合物(EPS)等膜污染关键物质的接触,可以极大缓解膜污染问题; 3 、采用的廉价耐污染膜材料,延长膜的使用寿命,降低运行成本; 4 、控制反应器微生物处于内源呼吸期,反应器中能有效建立细菌—原生动物—后生动物微生态系
哈尔滨工业大学 2021-04-14
一种燃料电池膜电极热压头上表面贴片的纠偏补偿方法
本发明公开了一种燃料电池膜电极热压头上表面贴片的纠偏补偿方法。传统的机器视觉采图后摆动气缸翻转,然后贴片,不能保证GDL 的贴装精度,另外,由于 GDL 料盒比 GDL 本身尺寸稍大,不能保证每次真空拾取机构吸取 GDL 的中心轴线都与旋转轴的中心轴线重合,因此翻转后也会有误差。本发明主要解决这两个误差的计算和补偿方法,实现热压头上表面的准确贴片。本发明基于现有的 GDL 热压装备实现,首先对相机进行标定,标定两个相机各自的像素坐标系和世界坐标系的关系,分别根据是由安装误差引起的贴片纠偏或者是由轴线
华中科技大学 2021-04-14
一种纳米氢氧化钴-石墨烯复合膜、其制备方法及应用
本发明公开了一种纳米氢氧化钴-石墨烯复合膜、其制备方法及 应用。所述复合膜,包括纳米石墨烯底层和纳米氢氧化钴表层,所述 纳米石墨烯底层厚度在 4000nm 至 6000nm 之间,所述纳米氢氧化钴表 层厚度在 50nm 至 100nm 之间,所述纳米氢氧化钴表层均匀沉积在所 述纳米石墨烯底层上。其制备方法,包括以下步骤:将氧化石墨烯均 匀分散于水中,涂敷在片状导电基底上,干燥得到纳米氧化石墨烯膜; 组建三电极体系采用
华中科技大学 2021-04-14
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