产品详细介绍  氧化铝陶瓷坩埚,刚玉陶瓷坩埚有：弧形氧化铝刚玉坩埚，方形氧化铝刚玉坩埚，长方形氧化铝陶瓷刚玉坩埚，圆柱形陶瓷刚玉坩埚，氧化铝刚玉管，等等各种异形氧化铝陶瓷坩埚，承接非标订做各种异形氧化铝刚玉陶瓷坩埚．欢迎联系！刚玉陶瓷坩埚系列：适用于各种实验室金属、非金属样品分析及熔料用。 坩锅系列——用于化验室及各种工业分析。     氧化铝坩埚刚玉瓷坩埚特点： 1、纯度高：Al2O3＞99%，耐化学腐蚀性好 2、耐温性好，长期使用在1600℃，短期1800℃ 3、耐急冷急热性好，不易炸裂 4、注浆成型密度高 高纯氧化铝坩埚 刚玉坩埚理化指标 名          称 氧 化 铝 坩 埚     化   学   成   分 Al2O3 ≥99 R2O ≤0.2 Fe2O3 ≤0.1 SiO2 ≤0.2 体 积 密 度（g/cm2） ≥3.80 显 气 孔 率（%） ＜1 抗 弯 强 度（Mpa） ＞350 抗 压 强 度（Mpa） ＞12000 介 电 常 数 ∑（1MHz） 2 最 高 使 用 温 度（℃） 1800 规格有： 弧形坩埚：10毫升，15毫升，20毫升，30毫升，50毫升，100毫升，150毫升，200毫升，300毫升，500毫升，750毫升，1000毫升。 直形坩埚：直径30*30------160*160毫米 方形坩埚：65*65-------240*240毫米 备：可根据用户需求定制各种非标异型氧化铝坩埚！

随着光学器件在日常生活领域越发广泛地应用，对其新功能的需求也加大，其中高折射率材料的研究也越来越多,特别是高折射率聚合物（HRIP）。近来，由于其在高级光电制造中的潜在应用，HRIPs已经吸引了相当多的关注，例如先进显示设备的高性能基底，用于有机发光二极管显示器，光学黏合剂或密封胶材料，高级光学应用中的减反射涂层，193-nm浸润蚀刻光阻剂，和微透镜组件中的电荷耦合式装置以及互补金属氧化物半导体图像传感器。然而，一般普通聚合物的折光指数的范围在1.30～1.70之间，但是在实际应用中要求更高的折光指数（大于1.70，甚至 1.80）。由高折射率无机纳米粒子和有机高分子基体组成的纳米复合材料可以轻易地获得高的折光指数。本项目将高折射率的无机纳米粒子炭黑、二氧化硅、二氧化钛等添加到各种聚合物基体中，获得高折射率光学薄膜，且通过对无机粒子和聚合物基体间的界面设计，使得无机粒子少量填充即可获得高折射率光学薄膜。具有核心技术（自主知识产权），发明专利1项，获得上海市自然科学基金资助。

本成果研究了不同制备工艺对制备出的喷涂粉末形貌与性能的影响，通过测试不同的La2O3的添加方式以及添加量的涂层的性能，探讨了稀土氧化物La2O3对Al2O3等离子涂层性能的影响，及La2O3在等离子涂层中的作用，同时对喷涂粉末与涂层的相态及高低温条件下的相稳定性进行了研究，找出了在高温下长时间保持相稳定性的涂层。得出的主要结论有： (1). 使用纳米粉体颗粒团聚的方法可以制备符合出符合等离子喷涂要求的粉末，同时其制备出的涂层性能优于传统微米级粉末涂层。 (2). 添加部分La2O3可以抑制Al2O3涂层中晶粒长大，且Al2O3- La2O3涂层更致密，与Al2O3涂层相比，Al2O3- La2O3涂层在抗击热冲击、抵抗热氧化、涂层结合强度方面均有部分提高，但涂层隔热性能与Al2O3涂层相当。 (3). Al2O3涂层中添加部分La2O3与MgO可以制备稳定相的LMA，制备的LMA涂层呈现板片状结构特点，有利于降低涂层内部残余应力，因而可提升涂层性能，其在结合强度、抗击热冲击、抗氧化及隔热性能发面均优于Al2O3- La2O3涂层与Al2O3涂层。 (4). 在1400℃下保温100h，Al2O3涂层与Al2O3- La2O3涂层均会发生γ→α晶形转变，影响涂层的性能，而LMA涂层可保持相稳定性。LMA等离子涂层因其优异的性能可做为传统Al2O3涂层和Y-PSZ涂层的替代者。

产品详细介绍

产品详细介绍

近日，我校材料科学与工程学院2019级材料物理专业本科生严锦同学在氧化物薄膜晶体管掺杂工程及其稳定性研究中取得新进展，作为第一作者在微电子器件顶级期刊《IEEETransactionsonElectronDevices》上发表了以“Electrospinning-DrivenInHfOxNanofiberChannelField-EffectTransistorsandHumidityStabilityExploration”为题的论文。

本发明公开了一种用Bi/Mo/Fe/Ce四组分复合氧化物催化剂合成1,3-丁二烯的方法。本发明使用该四组分催化剂进行1-丁烯的氧化脱氢生产1,3-丁二烯的方法。更具体的说，采用铁盐、铋盐、钼盐、铈盐和去离子水按照一定摩尔比配置，碱液调节pH值，经浓缩、过滤、干燥、焙烧、冷却后，再通过研磨、筛分得到Bi/Mo/Fe/Ce的四组分复合氧化物催化剂。与由金属组分构成的常规多组分金属氧化物催化剂不同的是，根据本发明，可以对金属组分的比例进行系统研究就可以制得用于1,3-丁二烯制备工艺的高活性、高选择性Bi/Mo/Fe/Ce四组分复合氧化物催化剂。

一种高孔隙率多孔陶瓷的制备方法，它涉及多孔陶瓷的制备方法。本发明要解决现 有直接发泡技术制备高孔隙率多孔陶瓷中，浆料发泡和泡沫固化过程相互分离及制备工艺复 杂的问题。本发明高孔隙率多孔陶瓷具有均匀的球状蜂窝孔结构单元，孔壁以多孔窗口相互连通，孔隙率可达 90%以上，制法：一、称取原料，球磨得浆料；二、将浆料置于真空室中 除气；三、测试浆料的过冷点；四、将浆料降温，得过冷浆料；五、将过冷浆料进行减压发 泡与泡沫固化；六、将固化泡沫材料干燥，得陶瓷素坯；七、烧结陶瓷素坯，得高孔隙率多 孔陶瓷。本发明将浆料发泡与泡沫固化过程有机结合，工艺简单，制备的陶瓷孔隙率为 90% 以上。本发明用于制备高孔隙率多孔陶瓷

本发明公开了一种高折射率含硫聚苯并咪唑及其制备方法，其特点是将碱或强碱弱酸盐1-138份，助剂1-20份，催化剂0.1-50份，含二氟二苯并咪唑单体486份和溶剂500-2000份加入带有搅拌器和温度计的反应釜中，加入硫化物126.5-248份，在氮气保护下，于温度150-210℃脱水反应0.5-6h，在温度180-230℃继续反应0.5-12h，得到粘稠的聚合物溶液，待上述溶液温度降至80℃时，再将反应液倒入水中，析出线条状沉淀；将上述线条状聚合物经水洗涤3次，于温度80～120℃干燥2～8h，粉碎，分别用去离子水、乙醇萃取提纯，在温度80～120℃干燥1～20h，获得高折射率含硫聚苯并咪唑树脂。它具有折射率高、透光性好、热性能优异的优点，该含硫聚苯并咪唑可用于高折射率光学微透镜材料。