|
搜索
日期筛选： 一周内 一月内 一年内 不限
AIChE再度报道华东理工大学原子层沉积ALD多尺度模拟研究进展
近日，我校化工学院功能膜与电子化学品团队青年教师庄黎伟博士，与美国约翰霍普金斯大学、北卡罗来纳州立大学等单位合作，开发了一套原子层沉积（ALD）技术在多孔材料纳米孔道内进行薄膜沉积的数值模型，可用于预测2-5纳米孔道内前驱体扩散、吸附、脱附、沉积反应以及孔道收缩直至堵塞的动态过程。
华东理工大学 2022-09-28
热搜推荐：
1
高校实验室分级分类管理平台
2
云上展厅已成功吸引1万余家企业入驻！
3
第62届高博会圆满落幕，明年春天相约春城！